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格姆法尔公司专利技术
格姆法尔公司共有3项专利
降低偏振灵敏度的光学设备制造技术
粗略的描述,构造光学装置的第一波导段和第二波导段,使得辐射改变每个段的平均折射率和双折射。双折射的改变时平均折射率改变的函数,在两段中,该函数是不同的。辐射每个段的预设长度。在MZI中,一种技术可用于同时调整一个或多个光路长度差相位延迟...
具有减小了温度依赖性的光学装置制造方法及图纸
具有改进了中心波长温度稳定性的光学设备。在一实施例中,AWG具有多个沿着光路插入的沟槽。该沟槽包括一种或多种补偿材料,该补偿材料总体上校正AWG基底材料的Q阶温度依赖性。Q≥2或者补偿材料的数量至少为2,或者二者兼备。
具有降低的温度依赖关系的光学装置制造方法及图纸
具有改进的中心波长温度稳定性的光学设备。在一个实施例中,AWG有多个狭缝沿光路插入。狭缝包含一种或多种补偿材料,这些补偿材料共同地校正AWG基础材料的Q阶温度依赖性。Q>=2或补偿材料数至少为2,或者兼而有之。
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