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高科技实美化学株式公社专利技术
高科技实美化学株式公社共有1项专利
负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法技术
本发明提供负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法。负型光刻胶组合物包括:包含含有乙烯不饱和键的乙烯不饱和化合物和光聚合引发剂的能光固化组合物;包含通过热交联的碱溶性树脂的热固性组合物;和有机溶剂。该负型光刻胶组合物改善稳定性、感光度...
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