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付华秀专利技术
付华秀共有2项专利
一种半导体原料清洗装置制造方法及图纸
本实用新型涉及半导体原料清洗技术领域,且公开了一种半导体原料清洗装置,包括清洗桶,所述清洗桶的上端活动插接有固定装置,且清洗桶的内部中间位置固定连接有清洗装置。该种半导体原料清洗装置,通过设置清洗装置等结构,在对半导体原料进行清洗时,通...
一种用于半导体晶圆生产的定长切断装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种用于半导体晶圆生产的定长切断装置,涉及到半导体技术领域。包括底板,所述底板的一端设置有电机一,所述电机一的输出轴设置有皮带,所述皮带的另一端设置有主动轮,所述皮带与所述主动轮传动连接,所述主动轮表面套设有传送带,所述...
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