本发明涉及显示单元(1)，该显示单元(1)包括：具有显示侧(6)和后侧的透明或半透明层，包括位于显示侧上的层(2)，包括多个孔(4)；多个发光体(10)，多个发光体(10)存在于透明或半透明层的后侧处或距透明或半透明层的后侧一定距离处，...

本发明涉及用于生产半导体层和由单质硒和／或单质硫处理的涂层衬底的方法，所述涂层衬底包括至少一个导体层、半导体层和／或绝缘层并且特别是平面衬底，其中，衬底设有至少一层金属层和／或至少一层包含金属的层，特别地，衬底堆中的每个衬底均设有至少一...

本发明涉及用于加工工艺材料的加工装置，该工艺材料特别是堆集的工艺材料，尤其是用于生产薄层特别是导体、半导体或绝缘薄层的平面基板，该加工装置包括：用于接收加工气体的可抽真空的加工室，其包括至少一个调温装置，特别地，至少部分地和／或全部地与...