FD三M公司专利技术

FD三M公司共有5项专利

  • 本申请公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括:谐振腔;沉积台,设置于谐振腔内,包括基板以及为基板降温的冷却装置,该冷却装置包括冷却水回路,所述冷却水回路上设置有VCR接头。本申请还公开了一种极高真空的控制方法,包括:建立真空腔体的...
  • 本申请公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置,采用等离子体天线作为耦合天线。本申请还公开了一种金刚石的合成方法,采用等离子体天线作为耦合天线,通过微波等离子体化学气相沉积方法合成金刚石。本申请还公开了微波等离子体化学气相沉积装置在单晶金...
  • 本申请公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括设置于谐振腔内的反射板和基板,反射板和基板相对设置,所述反射板上镂空有至少一窗口,该反射板至少背离所述基板的表面为电磁波反射面,所述基板面向所述窗口的一侧为一金刚石生长侧。本申请还公开了...
  • 本申请公开了一种真空压力控制装置,包括:至少一条第一真空管路,连通于抽真空接口和真空泵之间,每条第一真空管路上分别设置有一阀门;至少一条第二真空管路,连通于抽真空接口和真空泵之间,每条第二真空管路上分别设置有一阀门和一比例阀,该比例阀包...
  • 本申请公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括谐振腔、耦合转换腔、以及分隔于谐振腔和耦合转换腔之间的介质窗口,所述介质窗口具有一冷却腔体,该冷却腔体独立于所述谐振腔和耦合转换腔,所述冷却腔体具有可与外部冷却回路连通的进口和出口。本发...
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