汎星半导体股份有限公司专利技术

汎星半导体股份有限公司共有2项专利

  • 本公开提出一种齐纳二极管及其制备方法,包括:基板、埋入层、扩散层和外延层;埋入层在基板的一个设置面上的至少一部分区域形成;外延层至少在埋入层上形成;扩散层至少在外延层上形成;其中扩散层与埋入层之间具有一定距离。
  • 本发明公开了一种瞬态电压抑制器与制作方法,其包含:一第一瞬态电压抑制单元,在一第一基板区域上形成且具有一第一对外端与一第一连接端;一第二瞬态电压抑制单元,在一第二基板区域上形成且具有一第二对外端与一第二连接端;以及一连接路径,其至少部分...
1