本公开的方面包括用于从载体材料移除样品并且将样品沉降到基板上的系统和方法。样品可以被放置在处于腔体内的台上的基板引导器的孔中。蚀刻流体可以被引入腔体中以从样品蚀刻载体材料，且然后被排出。冲洗材料可以被引入腔体中以冲洗蚀刻流体，且然后被排...