东营适度有为设计有限公司专利技术

东营适度有为设计有限公司共有1项专利

  • 本发明涉及景观设计领域,具体为一种景观设计场地测量放线装置及其使用方法,墨线在长期使用后,被密封处刮削下来的墨粉泥浆等污染物极易在密封元件与墨线的界面处堆积,逐渐形成坚实的结垢层。层结垢物会破坏密封的贴合性,使密封效果下降,同时增加墨线...
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