本发明公开了一种单双面晶圆电镀装置，涉及晶圆加工技术领域，包括电镀槽体和挂架，所述电镀槽体内部对称设有挂架，所述挂架设置在伸缩挂杆上，所述电镀槽体内部与挂架一侧位置处均设有电极板，所述电极板端部均电性连接设有导线，所述底座上端设有药液循...