本实用新型提供了一种带表面活化的真空溅镀装置，它包括用于表面改质处理的第一真空室以及设于第一真空室后端的若干真空溅镀室，所述的第一真空室前端设有真空活化室，所述的真空活化室内设有阴极电弧源。本实用新型在对基材进行改质处理前，通过阴极弧光...

本实用新型公开了一种气流封隔门阀装置，它包括多个真空溅镀室以及设于真空溅镀室之间的气体分离缓冲腔，所述的气体分离缓冲腔中设有两组气流封，所述的两组气流封并行设置在相邻两真空溅镀室之间。本实用新型在气体分离缓冲腔中设置气流封，通过气流封吸...

本实用新型公开了一种用于真空溅镀的气体混合控制装置，它包括若干气体储存装置以及与所述的气体储存装置相连的真空溅镀室，它还包括气体流量控制阀以及计算机，所述的气体流量控制阀设于所述的每一气体储存装置与气体预混腔之间，所述的气体流量控制阀与...

本实用新型公开了一种往复式连续镀膜装置，其利用往复式的传送装置将基材输送到不同的镀膜区进行镀膜，从而对膜层分布进行控制，再有控制传送装置的传送速度从而实现对膜厚的控制，除此之外，在每个镀膜区所设置的检测装置可以检测基材的位置并将检测信号...

本实用新型公开了一种真空离子溅镀靶材，所述靶材包括两个相对排列的Ｌ形型材，两Ｌ形型材的中间设有凸字型材，两Ｌ形型材与凸字型材之间分别嵌设有Ｔ形型材，两Ｌ形型材和凸字型材作为挂钩将两Ｔ形型材固定在真空溅镀机内；本实用新型根据撞击电子的螺旋...