半导体器件紫外正性光刻胶的生产装置，主要包括：聚合釜(D101)、脱水脱酚塔(E101)、酯化釜(D102)、压滤机(L101)、干燥器(L102)、配胶釜(D103)、压滤机(L103)、百级超净间(L104)，其中，压滤机(L101...

集成电路紫外负性光刻胶的生产装置，主要包括：溶胶釜(D101)、环化釜(D102)、冷冻室(L101)、调胶釜(D103)、过滤机(L102)、百级超净间(L103)，其中，环化釜(D102)分别与溶胶釜(D101)、冷冻室(L101)...

苯乙烯‑有机硅氧烷嵌段共聚物的生产装置，主要包括：混合釜(D101)、混合釜(D102)、反应釜(D103)、过滤器(L101)、混合釜(D104)、过滤器(L102)，其中，过滤器(L101)与反应釜(D103)相连接，过滤器(L10...

聚亚烷基多胺型螯合树脂的生产装置，主要包括：配料釜(D101)、反应釜(D102)、过滤器(M101)、洗涤槽(F101)、抽滤器(L101)、干燥器(L102)，其中，反应釜(D102)分别与配料釜(D101)、过滤器(M101)相连...

醌类氧化还原树脂的生产装置，主要包括：催化反应釜(D101)、粉碎机(L101)、水回流釜(D102)、水冷凝器(C101)、回流器(D103)、冷凝器(C102)、过滤器(M101)、干燥器(L102),其中，粉碎机(L101)分别与...

乙烯‑醋酸乙烯‑丙烯酸接枝共聚物的生产装置，主要包括：混合釜(D101)、捏合釜(D102)、浸渍渗透作用器(F101)、反应釜(D103)、水洗塔(E101)、过滤器(M101)、干燥器(L101),其中，捏合釜(D102)分别与混合...

纤维素高吸水树脂的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、过滤机(L101)、干燥器(L102)、粉碎机(L103)、储罐(F101)，其中，过滤机(L101)分别与反应釜(D101)、干燥器(L102)相连接，粉碎机(L103)分别与...

淀粉接枝高吸水树脂的生产装置，主要包括：搅拌釜(D101)、反应釜(D102)、离心机(L101)、干燥器(L102)、粉碎机(L103),其中，离心机(L101)分别与反应釜(D102)、干燥器(L102)相连接，反应釜(D102)分...

亚氨基二乙酸型螯合树脂的生产装置，主要包括：配料釜(D101)、洗涤槽(F101)、干燥器(L101)、反应釜(D102)、过滤机(L102)、反应釜(D103)、过滤机(L103)、转型槽(F102)、水洗槽(F103)、过滤机(L1...

乙烯‑醋酸乙烯共聚物的生产装置，主要包括：一次压缩机(J101)、二次压缩机(J102)、管式反应器(D101)、高压循环冷却器(C101)、高压分离器(L101)、低压分离器(L102)、水冷却器(C102)、冷却装置(C103)，其...

聚乙烯基吩噻嗪氧化还原树脂的生产装置，主要包括：高压反应釜(D101)、水洗釜(D102)、酰化釜(D103)、水解釜(D104)、冷凝器(C101)、中和釜(D105)、过滤器(M101)、重结晶釜(D106)、干燥器(L101)，其...

聚乙烯氧乙基肉桂酸酯的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、反应釜(D102)、储罐(F101)、反应釜(D103)、反应釜(D104)、反应釜(D105)、精馏塔(E101)、冷凝器(C101)、接收罐(F102)、聚合釜(D106...

聚乙烯醇肉桂酸酯的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、酯化釜(D102)、稀释釜(D103)、过滤机(L101)、干燥器(L102)、溶解釜(D104)、过滤机(L103),其中，酯化釜(D102)分别与反应釜(D101)、稀释釜(...

硫醇类聚苯乙烯硫醇树脂的生产装置，主要包括：硝化釜(D101)、分离器(L101)、水洗釜(D102)、还原釜(D103)、重氮化槽(F101)、偶合反应釜(D104)、离心机(L102)、水解釜(D105)、酸化釜(D106)、离心机...

丙烯腈‑苯乙烯无规共聚物的生产装置，主要包括：预热器(L101)、过滤器(M101)、混合器(D101)、聚合釜(D102)、冷凝器(C101)、脱挥器(L102)、脱挥器(L103)、回收槽(F101)、料泵(J101)，其中，混合器...

氨基型阴离子交换树脂的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、过滤器(M101)、干燥器(L101)、胺化釜(D102)、离心机(L102)、干燥器(L103)、稀释釜(D103)、离心机(L104),其中，过滤器(M101)分别与反应...

集成电路紫外正性光刻胶的生产装置，主要包括：聚合釜(D101)、脱水脱酚塔(E101)、酯化釜(D102)、压滤机(L101)、干燥器(L102)、配胶釜(D103)、压滤机(L103)、百级超净间(L104)，其中，压滤机(L101)...

半导体器件紫外负性光刻胶的生产装置，主要包括：溶胶釜(D101)、环化釜(D102)、冷冻室(L101)、调胶釜(D103)、过滤机(L102)、百级超净间(L103)，其中，环化釜(D102)分别与溶胶釜(D101)、冷冻室(L101...