本发明涉及改性TPU技术领域，尤其涉及一种TPU纹路镭射膜及其制备方法。本发明中，在TPU成膜过程中把镭射和纹路同步完全复刻在TPU膜上制备出TPU纹路镭射膜，解决了传统技术中TPU在成膜过程无法同步形成纹路和镭射薄层的问题，大大地缩减...