本技术公开一种辐照系统辐射剂量分布调节装置，属于辐照系统技术领域，其包括底座，所述底座上固定安装有固定板，所述固定板的顶部中心开设有开口，固定板位于开口的四周设置有支板，所述支板的顶端固定安装有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆朝向底座设置，且...

本技术公开一种水产品冷态辐照加工工艺辐射剂量均匀性检测装置，属于辐照加工技术领域，其包括底座，所述底座上设置有壳体，所述壳体的顶端中部设置有电子束发射器，所述电子束发射器延伸至壳体的底部，壳体的侧壁上均开设有凹槽，所述凹槽的内部滑动设置...

本技术公开一种辐照加工线辐照剂量均匀性检测装置，属于辐照加工线技术领域，其包括底座，所述底座的两侧均设置有竖板，所述竖板的顶端均设置有横板，两所述横板之间留有间隙，所述横板的一侧顶端设置有安装块，所述安装块的两端分别与两横板均固定连接，...

本技术公开一种辐照均匀度检测方法辐照剂量分布调节装置，属于辐照均匀度检测方法技术领域，其包括底座、支撑杆、升降机构、固定组件、连接杆、调节组件、遮挡棚；本技术底座上方中央安装有支撑杆，支撑块的内部设置有升降机构，升降机构包括升降杆、限位...

本发明涉及辐照装置技术领域，尤其涉及一种基于辐照系统的辐照源聚焦装置。其技术方案包括：聚焦件包括螺杆、内螺纹板、第一圆筒、第二圆筒、聚焦膜片，所述螺杆设置多个，且围绕辐照光路弧板中心轴环形分布，所述螺杆的杆身与内螺纹板转动连接，所述内螺...

本发明涉及辐照加工装置技术领域，尤其涉及一种用于辐照加工的多面均匀化辐照系统。其技术方案包括：底座、固定安装于底座上的多根支撑柱、固定安装于支撑柱上的顶板、固定安装于顶板上的辐射源，还包括：滑动安装于底座上的承载筒，所述承载筒安装有调节...