本发明涉及在借助用含硅化合物的配制剂涂覆衬底来生产光电设备时，例如在生产太阳能电池时，降低或消除带隙迁移的方法，所述制备包括下面步骤：其中用液态硅烷配制剂涂覆衬底，其中本发明的特征在于，所述配制剂另外含有至少一种锗化合物。本发明还涉及这...