本发明公开了一种多自由度交错主动吸振方法、系统、光刻设备及存储介质，所述方法包括：获取振动数据；基于所述振动数据，确定当前时刻各自由度的振动状态参数；基于所述振动状态参数，根据预设的交错控制策略，生成针对多个作动器单元的控制指令；基于所...

本申请提供一种用于wafer制备的方法，涉及半导体技术领域，方法包括：获取待评估平整度的wafer，将所述待评估平整度的wafer划分为多个测量场，对各测量场，以测量场中心为测量区域的中心，按预设区域划定方式划定测量区域，通过调焦调平分...

本申请公开了一种光刻机镜片热变形分析方法、装置、电子设备及存储介质，方法包括：根据光刻机的镜片结构和装配结构建立镜片三维模型和装配三维模型，所述装配结构安装所述镜片结构；根据所述镜片三维模型建立热分析网格；其中，所述热分析网格在热敏感区...

本发明提供了一种光刻机物镜相差检测温控装置，应用于感光芯片，包括工件台和冷却通道，工件台上设有安装槽，感光芯片固定于安装槽的槽壁；冷却通道设于安装槽内且位于感光芯片背离光线的一侧。冷却通道的至少部分呈螺旋状，冷却通道的进口连通于工件台的...

本申请实施例提供了一种物镜减振装置，包括：物镜阻尼器，物镜阻尼器的内部采用柔性铰链结构，柔性铰链结构在外界振动或温度变化时提供弹性支撑，以缓冲振动传递并降低因热膨胀效应导致的应力；物镜阻尼器，上层为物镜接触端；下层为框架接触端，设置用于...

本申请实施例提供了一种环控气浴用共振处理方法，在环控气浴系统进入加工制造阶段前，建立环控气浴系统的三维模型，对三维模型进行离散处理；对离散处理后的环控气浴系统进行模态分析，获取环控气浴系统的固有频率和振型。比较环控气浴系统的固有频率与已...