A patterning method for a double-sided electrode includes: providing a substrate, wherein the substrate has two opposite surfaces, on which a first sensitive layer and a second sensitive layer are respectively arranged; a first metal nanowire layer composed of a metal nanowire is arranged on the first sensitive layer, a second metal nanowire layer composed of a metal nanowire is arranged on the second sensitive layer; and carrying out double-sided yellow light The micrographic step includes: exposing the first and second sensitive layers to define the removal area and the reserved area; and using the developer to remove the first sensitive layer and the metal nanowire located in the removal area and the second sensitive layer and the metal nanowire located in the removal area, so as to patternize the first metal nanowire layer and the second metal nanowire layer to form the two tables respectively The first electrode and the second electrode on the surface. A double-sided electrode is proposed.
【技术实现步骤摘要】
双面电极及其图案化方法
本专利技术是关于一种双面电极及其图案化方法。
技术介绍
由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性,因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言,透明导体可以是各种金属氧化物,例如氧化铟锡(IndiumTinOxide,ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide,IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide,CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide,AZO)。金属氧化物薄膜可通过物理气象沉积法或化学气象沉积法而形成,并通过激光工艺而形成适当图案。然而,这些金属氧化物薄膜的制作方法可能面临高昂的成本、复杂的工艺以及低良率的问题。在部份情况下,经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被观察到的问题。因此,现今发展出了多种透明导体,例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而利用纳米线制作触控电极,纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题,例如在进行双面结构图案化的工艺中,先对基板上层的纳米银表面上进行光阻涂布,再进行曝光、显影、蚀刻等步骤,完成上层电极结构的制作之后,会先将上层完成的电极结构进行保护,再依序对下层的纳米银进行光阻涂布、曝光、显影、蚀刻等步骤。而除了一般黄光微影的图案化工艺之外,也有通过激光剥离的技术来进行图案化。上述工艺在技术上都需分别对上下两层进行制作,故工艺步骤上较为繁琐,也相对费时。若以激光进行纳米线的图案化蚀刻时,如参数调控不当,激光多余的能量所形成的热效应,反而会破坏导线的边缘精度,甚至伤害到底 ...
【技术保护点】
1.一种双面电极的图案化方法,其特征在于,包括:/n提供一基板,该基板具有相对两表面,该两表面上分别设有一第一感光层与一第二感光层;/n设置由金属纳米线所组成的一第一金属纳米线层于该第一感光层上,设置由金属纳米线所组成的一第二金属纳米线层于该第二感光层上;以及/n进行一双面黄光微影步骤,包括:/n将该第一感光层及该第二感光层进行曝光以定义出一去除区与一保留区;以及/n使用显影液将位于该去除区的该第一感光层与该金属纳米线以及位于该去除区的该第二感光层与该金属纳米线去除,以将该第一金属纳米线层与该第二金属纳米线层图案化而分别形成设置于该两表面上的一第一电极及一第二电极。/n
【技术特征摘要】
1.一种双面电极的图案化方法,其特征在于,包括:
提供一基板,该基板具有相对两表面,该两表面上分别设有一第一感光层与一第二感光层;
设置由金属纳米线所组成的一第一金属纳米线层于该第一感光层上,设置由金属纳米线所组成的一第二金属纳米线层于该第二感光层上;以及
进行一双面黄光微影步骤,包括:
将该第一感光层及该第二感光层进行曝光以定义出一去除区与一保留区;以及
使用显影液将位于该去除区的该第一感光层与该金属纳米线以及位于该去除区的该第二感光层与该金属纳米线去除,以将该第一金属纳米线层与该第二金属纳米线层图案化而分别形成设置于该两表面上的一第一电极及一第二电极。
2.如权利要求1所述的双面电极的图案化方法,其特征在于,将该第一感光层及该第二感光层进行曝光包括:
设置一第一曝光源对应该第一感光层,设置一第二曝光源对应该第二感光层,其中该第一曝光源与该第二曝光源为相同波段的曝光源;
其中该第一感光层吸收大于该第一曝光源的光线总能量的80%,该第二感光层吸收大于该第二曝光源的光线总能量的80%。
3.如权利要求1所述的双面电极的图案化方法,其特征在于,将该第一感光层及该第二感光层进行曝光包括:
设置一第一曝光源对应该第一感光层,设置一第二曝光源对应该第二感光层,其中该第一曝光源与该第二曝光源为相同波段的曝光源;
其中该第一感光层及该第二感光层添加有0.1%~10%的光吸收添加物。
4.如权利要求3所述的双面电极的图案化方法,其特征在于,该光吸收添加物的浓度为1%~3%,该第一曝光源的光线对该第一感光层的穿透率(lighttransmission)在30%以下,该第二曝光源的光线对该第二感光层的穿透率(lighttransmission)在30%以下。
5.如权利要求1所述的双面电极的图案化方法,其特征在于,将该第一感光层及该第二感光层进行曝光包括:
设置一第一曝光源对应该第一感光层,设置一第二曝光源对应该第二感光层,其中该第一曝光源与该第二曝光源为不同波段的曝光源。
6.如权利要求1所述的双面电极的图案化方法,其特征在于,该第一感光层及该第二感光层为相同感光性的光阻。
7.如权利要求1所述的双面电极的图案化方法,其特征在于,更包括:
成形一保护层...
【专利技术属性】
技术研发人员:萧仲钦,练修成,蔡家扬,
申请(专利权)人:凯姆控股有限公司,
类型:发明
国别省市:英属维尔京群岛;VG
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。