一种镀膜方法和镀膜玻璃技术

本申请公开了一种镀膜方法，包括：提供一基板；对所述基板进行清洗，并利用红外烘烤，得到第一基板；对所述第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板；对所述第二基板真空镀膜。可见，本申请通过在进行常规处理后，对第二基板进行表面氧化处理，将基板上的油性物质、有机物等键能断裂，活化表面，增强基板的表面能，再进行镀膜沉积，膜层的附着能力得到大大改善。本申请同时还提供了一种镀膜玻璃，具有上述有益效果。

A Method of Coating and Coated Glass

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜方法和镀膜玻璃
本申请涉及镀膜
，特别涉及一种镀膜方法和镀膜玻璃。
技术介绍
随着触摸屏的应用日益宽广，很多产品会在较为苛刻的自然条件下使用并且对产品的使用年限也增长，产品制作过程的选材和工艺上的要求就更高。其中对真空镀膜的要求也越高，特别是对于膜层与基板之间的附着能力，直接决定了产品能否承受各种自然条件的指标。基板经过湿制程清洗，然后进行红外烘烤，进而真空镀膜，但是基板经过湿制程清洗后，只能处理基板上的常规杂质，对于一些油性大颗粒有机物不能进行完全的清洗干净，膜层在这些异物上沉积时容易形成脱层导致膜层附着能力变弱。因此，如何提供一种解决上述技术问题的方案是本领域技术人员目前需要解决的问题。
技术实现思路
本申请的目的是提供一种镀膜方法和镀膜玻璃，能够提高膜层的附着能力。其具体方案如下：本申请提供一种镀膜方法，包括：提供一基板；对所述基板进行清洗，并利用红外烘烤，得到第一基板；对所述第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板；对所述第二基板真空镀膜。可选的，所述表面氧化处理是紫外光灯处理。可选的，所述紫外灯的灯光波长是180-360nm。可选的，所述表面氧化处理是真空等离子处理。可选的，对所述基板进行清洗，包括：对所述基板进行酸洗或碱洗或水洗。可选的，所述基板是玻璃板。可选的，对所述第二基板真空镀膜，包括：判断所述第二基板的表面洁净度是否符合预设标准；若符合所述预设标准则，对所述第二基板真空镀膜。可选的，对所述基板进行清洗，包括：利用超声技术通过清洗液对所述基板进行清洗。本申请提供一种镀膜玻璃，利用如上述的镀膜方法制得。本申请提供一种镀膜方法，包括：提供一基板；对所述基板进行清洗，并利用红外烘烤，得到第一基板；对所述第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板；对所述第二基板真空镀膜。可见，本申请通过在进行常规处理后，对第二基板进行表面氧化处理，将基板上的油性物质、有机物等键能断裂，活化表面，增强基板的表面能，再进行镀膜沉积，膜层的附着能力得到大大改善。本申请同时还提供了一种镀膜玻璃，具有上述有益效果，在此不再赘述。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本申请实施例所提供的一种镀膜方法的流程图。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。在常见的镀膜工艺中，基板经过湿制程清洗，然后进行红外烘烤，进而真空镀膜，但是基板经过湿制程清洗后，只能处理基板上的常规杂质，对于一些油性大颗粒有机物不能进行完全的清洗干净，膜层在这些异物上沉积时容易形成脱层导致膜层附着能力变弱。基于上述技术问题，本实施例提供一种镀膜方法，通过在进行常规处理后，对第二基板进行表面氧化处理，将基板上的油性物质、有机物等键能断裂，活化表面，增强基板的表面能，再进行镀膜沉积，膜层的附着能力得到大大改善，具体请参考图1，图1为本申请实施例所提供的一种镀膜方法的流程图，具体包括：S101、提供一基板。本实施例不对基板的材质与大小进行限定，基板可以是玻璃基板、PCB基板、陶瓷基板，只要是能够实现本实施例的目的即可。S102、对基板进行清洗，并利用红外烘烤，得到第一基板。第一基板是对基板进行清洗、红外烘烤后得到的基板。此时第一基板表面存有不能够清洗干净的油性大颗粒有机物。进一步的，对基板进行清洗，包括：对基板进行酸洗或碱洗或水洗；本实施例不对清洗的清洗液进行限定，用户可根据实际需求进行选择。然后利用红外进行烘烤，以便在进行清洗后能够快速干燥。S103、对第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板。第二基板是对第一基板进行表面氧化处理得到的基板，此时残留的油性物质、有机物等键能断裂，活化表面，基板的表面能增强。具体原理包括：R-O-H→R-O-+R-，其中，R表示任意多原子基团。R-/R-O-基团是基板表面经过活化后形成的，R-/R-O-基团需要捕捉其他的基团或原子稳定，镀膜plasma中的靶原子沉积在基板上，膜层堆积后的附着能力变强。对于第一基板表面进行表面氧化处理方法有许多种，例如：真空等离子处理、紫外光灯处理、介电质放电处理等氧化方法。例如，介电质放电处理来进行基板表面清洗及改质时，介电质放电处理是用两电极间加入至少一层介电质材料例如石英，通以高电流电压的电位，则可在两电极间将流过的气体活化分解的，用以对基板表面进行清洗及改质。S104、对第二基板真空镀膜。基于上述技术方案，本实施例通过在进行常规处理后，对第二基板进行表面氧化处理，将基板上的油性物质、有机物等键能断裂，活化表面，增强基板的表面能，再进行镀膜沉积，膜层的附着能力得到大大改善。进一步的，表面氧化处理是紫外光灯处理。紫外光灯处理可以选取180-360nm波长，提供断裂部分大分子键能的能量。紫外光灯处理采用的装置使紫外光发生器，其中，紫外光发生器包括石英管和紫外灯，紫外灯设置于石英管内，紫外光发生器设置于基板上方，以便能够高效率对第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板。可见，利用紫外光灯处理方法简单，容易操作。进一步的，表面氧化处理是真空等离子处理。表面氧化处理是真空等离子处理，由于等离子体为固、液、气三态外的第四态，其主要是由气体在高电磁场下离子化后，以形成负电子，正、负离子和自由基等活性气体团，并以等离子体对基板表面进行清洗及改质。在电场作用下将气体电离，电离后的离子有强的氧化能力，将部分大分子有机物，油性物质等氧化分解。进一步的，基板是玻璃板。进一步的，对第二基板真空镀膜，包括：判断第二基板的表面洁净度是否符合预设标准；若符合预设标准则，对第二基板真空镀膜。判断第二基板的表面洁净度是否符合预设标准的目的是确定使得经过表面氧化处理的基板表面上的油性大颗粒有机物是否清除；判断第二基板的表面洁净度是否符合预设标准，可以是对第二基板进行接触角测量，可以利用水、二碘甲烷或者其他物质进行测量，以接触角量测的结果来第二基板的表面洁净度是否符合预设标准；一般的，接触角测量是依据角度进行判断，当量测出接触角越小时，则代表基板或基材表面洁净度越佳，本实施例不对针对于接触角测量的预设标准进行限定，可以是3-50°，当然，也可以是其他的范围，用户可自定义设置。本申请利用表面氧化技术对第一基板进行表面氧化处理，故可以降低油性大颗粒有机物分子间的键结力，使得油性大颗粒有机物能快速分解，以达到清洁基板的目的。进一步的，对基板进行清洗，包括：利用超声技术通过清洗液对基板进行清洗。具体的，超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，超声波技术的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。下面对本申请实施例提供的一种镀膜玻璃进行介绍，下文描述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：提供一基板；对所述基板进行清洗，并利用红外烘烤，得到第一基板；对所述第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板；对所述第二基板真空镀膜。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：提供一基板；对所述基板进行清洗，并利用红外烘烤，得到第一基板；对所述第一基板进行表面氧化处理，得到第二基板；对所述第二基板真空镀膜。2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述表面氧化处理是紫外光灯处理。3.根据权利要求2所述的镀膜方法，其特征在于，所述紫外灯的灯光波长是180-360nm。4.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述表面氧化处理是真空等离子处理。5.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，对所述基板进行清洗，...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈登涛，曾一鑫，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44