The invention discloses a gas supplying device for CVD equipment used for solar cell production, which comprises a gas supplying main pipe connected with several gas supplying branches, the end of the gas supplying main pipe connected with the reaction chamber, the top of the reaction chamber is provided with a cloth gas disc, a number of first gas supplying holes are evenly arranged on the cloth gas disc, the top of the first gas supplying hole is connected with the gas supplying main pipe, and the first one is connected with the gas supplying main pipe. The bottom of the air supply hole is provided with annular baffle, the top of the annular baffle inclines toward the center of the first air supply hole, and the edge of the bottom of the first air supply hole is provided with several through holes. The through holes are located on the outside of the annular baffle, the top of the annular baffle and the top of the first air supply hole are left with voids, a number of through grooves are evenly arranged on the annular baffle, and a number of through grooves are arranged at the bottom of the reaction chamber. The second air supply hole is circularly arranged, and the second air supply hole is located on the outside of the air distribution disc. The invention can improve the deficiency of the existing technology and improve the air supply uniformity of CVD equipment.
【技术实现步骤摘要】
一种用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置及其供气方法
本专利技术涉及真空设备
,尤其是一种用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置及其供气方法。
技术介绍
CVD(化学气相沉积)是半导体行业常用的一种镀膜方法。其原理是将原料气体通入反应腔室,在特定的工艺环境下使原料气体发生反应,形成膜层。其中,膜层质量的高低,与CVD设备的供气过程息息相关。现有CVD设备普遍采用“单一进气管+多孔供气终端”的方式,对于供气的均匀性控制精度不高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置及其供气方法,能够解决现有技术的不足,提高了CVD设备的供气均匀度。为解决上述技术问题,本专利技术所采取的技术方案如下。一种用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,包括供气主管,供气主管上连通有若干个供气支管,供气主管的末端与反应腔室连接,所述反应腔室的顶部设置有布气盘,布气盘上均匀设置有若干个第一供气孔,第一供气孔的顶部与供气主管相连,第一供气孔的底部设置有环形挡板,环形挡板的顶部向第一供气孔的中心方向倾斜,第一供气孔底部的边缘设置有若干个通孔,通孔位于环形挡板的外侧,环形挡板的顶部与第一供气孔的顶部留有空隙,环形挡板上均匀设置有若干个通槽,反应腔室的底部设置有若干个第二供气孔,第二供气孔环形排布,第二供气孔位于布气盘的外侧,第二供气孔与供气主管相连。作为优选,所述第一供气孔的侧壁连接有若干个清洗管路。作为优选,所述清洗管路与通槽一一对应,环形挡板的内侧设置有若干个导流槽,导流槽与相邻通槽相连通。作为优选,所述导流槽与通槽的连接处设置有导流 ...
【技术保护点】
1.一种用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,包括供气主管(1),供气主管(1)上连通有若干个供气支管(2),供气主管(1)的末端与反应腔室(3)连接,其特征在于:所述反应腔室(3)的顶部设置有布气盘(4),布气盘(4)上均匀设置有若干个第一供气孔(5),第一供气孔(5)的顶部与供气主管(1)相连,第一供气孔(5)的底部设置有环形挡板(6),环形挡板(6)的顶部向第一供气孔(5)的中心方向倾斜,第一供气孔(5)底部的边缘设置有若干个通孔(7),通孔(7)位于环形挡板(6)的外侧,环形挡板(6)的顶部与第一供气孔(5)的顶部留有空隙,环形挡板(6)上均匀设置有若干个通槽(8),反应腔室(3)的底部设置有若干个第二供气孔(9),第二供气孔(9)环形排布,第二供气孔(9)位于布气盘(4)的外侧,第二供气孔(9)与供气主管(1)相连。
【技术特征摘要】
1.一种用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,包括供气主管(1),供气主管(1)上连通有若干个供气支管(2),供气主管(1)的末端与反应腔室(3)连接,其特征在于:所述反应腔室(3)的顶部设置有布气盘(4),布气盘(4)上均匀设置有若干个第一供气孔(5),第一供气孔(5)的顶部与供气主管(1)相连,第一供气孔(5)的底部设置有环形挡板(6),环形挡板(6)的顶部向第一供气孔(5)的中心方向倾斜,第一供气孔(5)底部的边缘设置有若干个通孔(7),通孔(7)位于环形挡板(6)的外侧,环形挡板(6)的顶部与第一供气孔(5)的顶部留有空隙,环形挡板(6)上均匀设置有若干个通槽(8),反应腔室(3)的底部设置有若干个第二供气孔(9),第二供气孔(9)环形排布,第二供气孔(9)位于布气盘(4)的外侧,第二供气孔(9)与供气主管(1)相连。2.根据权利要求1所述的用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,其特征在于:所述第一供气孔(5)的侧壁连接有若干个清洗管路(10)。3.根据权利要求2所述的用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,其特征在于:所述清洗管路(10)与通槽(8)一一对应,环形挡板(6)的内侧设置有若干个导流槽(11),导流槽(11)与相邻通槽(8)相连通。4.根据权利要求3所述的用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,其特征在于:所述导流槽(11)与通槽(8)的连接处设置有导流板(12),导流板(12)位于通槽(8)内,导流板(12)的自由端朝向环形挡板(6)的外侧。5.根据权利要求2所述的用于生产太阳能电池的CVD设备供气装置,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱晓蕊,曹卫华,谢鹏辉,王耀华,王书会,张卫东,刘玉振,
申请(专利权)人:信阳师范学院,
类型:发明
国别省市:河南,41
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