【技术实现步骤摘要】
一种滚筒密封内部陶瓷结构
本技术涉及钢带退火炉气氛保护
,具体为一种滚筒密封内部陶瓷结构。
技术介绍
退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火是一种将材料置于高温一段时间后,再慢慢冷却的热处理过程,但是目前的一种退火炉只能提供一种温度的退火腔体。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种在一个装置上能够同时提供几个不同的温度反应槽,使薄钢带在不同的退火环境下产生不同的效果的一种滚筒密封内部陶瓷结构,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种滚筒密封内部陶瓷结构,包括滚筒密封装置本体,所述滚筒密封装置本体的底部设有密封腔体基座,所述密封腔体基座上的中间设有中间气氛密封腔体,所述中间气氛密封腔体的左侧设有气氛腔体A,中间气氛密封腔体的右侧设有气氛腔体B,所述中间气氛密封腔体的前面设有入料口,所述入料口的两侧设有薄钢夹持辊支架块,入料口两侧的薄钢夹持辊支架块之间设有薄钢夹持辊A、薄钢夹持辊B,所述薄钢夹持辊支架块的外部设有薄钢夹持辊固定环。优选的,所述气氛腔体A的内部设有保温内胆,所述保温内胆的上方与下方设有加热管,气氛腔体A内侧顶部加热管之间设有电冷极,所述气氛腔体A的右侧中间设有入料口。优选的,所述气氛腔体B的内部设有保温内胆,所述保温内胆的上方与下方设有加热管 ...
【技术保护点】
1.一种滚筒密封内部陶瓷结构,包括滚筒密封装置本体,其特征在于:所述滚筒密封装置本体的底部设有密封腔体基座,所述密封腔体基座上的中间设有中间气氛密封腔体,所述中间气氛密封腔体的左侧设有气氛腔体A,中间气氛密封腔体的右侧设有气氛腔体B,所述中间气氛密封腔体的前面设有入料口,所述入料口的两侧设有薄钢夹持辊支架块,入料口两侧的薄钢夹持辊支架块之间设有薄钢夹持辊A、薄钢夹持辊B,所述薄钢夹持辊支架块的外部设有薄钢夹持辊固定环。
【技术特征摘要】
1.一种滚筒密封内部陶瓷结构,包括滚筒密封装置本体,其特征在于:所述滚筒密封装置本体的底部设有密封腔体基座,所述密封腔体基座上的中间设有中间气氛密封腔体,所述中间气氛密封腔体的左侧设有气氛腔体A,中间气氛密封腔体的右侧设有气氛腔体B,所述中间气氛密封腔体的前面设有入料口,所述入料口的两侧设有薄钢夹持辊支架块,入料口两侧的薄钢夹持辊支架块之间设有薄钢夹持辊A、薄钢夹持辊B,所述薄钢夹持辊支架块的外部设有薄钢夹持辊固定环。2.根据权利要求1所述的一种滚筒密封内部陶瓷结构,其特征在于:所述气氛腔体A的内部设有保温内胆,所述保温内胆的上方与下方设有加热管,气氛腔体A内侧顶部加热管之间设有...
【专利技术属性】
技术研发人员:娄志浩,娄学铭,郭永兴,
申请(专利权)人:江苏振栋精密材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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