The invention relates to the technical field of high precision abrasive polishing, in particular to a diamond polishing film, its preparation method and application. The diamond polishing film comprises a base material and a polishing coating. The polishing coating is mainly made of the following components by weight: 4 6 copies of coupling treated diamond powder, 3 9 copies of adhesives, 1 5 copies of solvents and 0.04 1 copies of diamond additives. The preparation method comprises proportionally mixing and coupling treated diamond powder, adhesives, solvents, rigidizers, adding curing agent, coating on the surface of the substrate, and curing to obtain a polishing film. The diamond polishing film of the invention can effectively meet the processing requirements of optical fiber connectors, improve the processing yield and prolong the service life of the polishing film in the process of processing optical communication devices such as optical fiber connectors.
【技术实现步骤摘要】
一种金刚石抛光膜及其制备方法和应用
本专利技术涉及高精密研磨抛光
,尤其是涉及一种金刚石抛光膜及其制备方法和应用。
技术介绍
随着科技的发展,许多高科技元器件的精密加工都离不开研磨抛光,其中涂覆型抛光膜以其使用方便和加工效率高等特点受到人们越来越多的重视,应用领域趋于增加,主要用于金属、陶瓷、玻璃等硬质材料的抛光加工。一般光通信器件、光学镜片、瓷盘、半导体单晶硅等精密器件的表面光洁度要求很高,如果表面有凹凸、划伤或者附着异物,设计精度和性能将得不到保证,所以,最终的表面光洁度是左右精密器件性能的重要加工过程。例如:建立通讯系统时,一般使用光纤连接器使光纤之间、光纤与设备之间以及设备与设备之间连接起来。最常用的光纤连接器是陶瓷插芯连接器,即光纤从圆柱形陶瓷插芯中间孔中穿出,用热固型胶粘剂固定后,再使用各种研磨抛光材料把插芯和光纤的端部一起加工,达到一定的光洁度,保证通信信号的传输质量。光纤连接器的端部一般研磨抛光成光洁度很高的凸球面或者斜平面。要达到这样的高表面光洁度,可以使用含有磨料的研磨液,或是将磨料固定在薄膜上的抛光膜,分为粗磨、中磨、精磨、抛光等数个步骤。但是,由于研磨液在放置过程中容易产生沉淀或者磨料颗粒的聚集,不仅需要再分散的手段,而且容易影响研磨性能。另外,研磨液常常对研磨机有腐蚀作用等不良影响,废液处理也逐渐成为人们关注的问题,所以使用抛光膜渐渐的成为了主流。常用的抛光膜主要通过结合剂将磨料与薄膜带基结合起来,通过涂覆方式控制一定的涂层厚度和微观表现,以达到能够研磨抛光光纤连接器的效果。磨料的选择主要是金刚石、碳化硅、氧化铝等。然而现有 ...
【技术保护点】
1.一种金刚石抛光膜,其特征在于,包括基材和抛光涂层,所述抛光涂层主要由按重量份数计的如下组分制得:偶联处理的金刚石微粉4‑6份、胶粘剂3‑9份、溶剂1‑5份、增刚剂0.04‑1份。
【技术特征摘要】
1.一种金刚石抛光膜,其特征在于,包括基材和抛光涂层,所述抛光涂层主要由按重量份数计的如下组分制得:偶联处理的金刚石微粉4-6份、胶粘剂3-9份、溶剂1-5份、增刚剂0.04-1份。2.根据权利要求1所述的金刚石抛光膜,其特征在于,所述抛光涂层主要由按重量份数计的如下组分制得:偶联处理的金刚石微粉4.5-5.5份、胶粘剂5-7份、溶剂2-4份、增刚剂0.05-0.15份。3.根据权利要求1所述的金刚石抛光膜,其特征在于,所述增刚剂包括纳米陶瓷粉体增刚剂、有机化合物类增刚剂和纤维填料增刚剂中的一种或多种;优选的,所述增刚剂的质量为所述偶联处理的金刚石微粉、所述胶粘剂和所述溶剂的总质量的0.5-5%;更优选的,所述增刚剂的质量为所述偶联处理的金刚石微粉、所述胶粘剂和所述溶剂的总质量的0.5-2%。4.根据权利要求1所述的金刚石抛光膜,其特征在于,所述偶联处理的金刚石微粉的D50为0.9-1.1μm;优选的,采用偶联剂对金刚石微粉进行偶联处理得到所述偶联处理的金刚石微粉;更优选的,所述偶联处理的方法包括:将金刚石微粉分散于偶联剂的溶液中,于60-80℃条件下搅拌1-6h;更优选的,所述偶联剂的用量为金刚石微粉的质量的0.3-3.0%;更优选的,所述偶联剂溶液的溶剂为乙醇与水的混合液。5.根据权利要求1所述的金刚石抛光膜,其特征在于,所述胶粘剂为溶剂型胶粘剂;优选的,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:张恒,宫超,
申请(专利权)人:北京保利世达科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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