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本发明涉及高精密研磨抛光技术领域，尤其是涉及一种金刚石抛光膜及其制备方法和应用。所述金刚石抛光膜包括基材和抛光涂层，抛光涂层主要由按重量份数计的如下组分制得：偶联处理的金刚石微粉4‑6份、胶粘剂3‑9份、溶剂1‑5份、增刚剂0.04‑1份。...
该专利属于北京保利世达科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京保利世达科技有限公司授权不得商用。

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