显示器及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种显示器及其制造方法。显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成多个间隔物。于第一基板上形成覆盖间隔物的感光材料层。通过图案化罩幕对感光材料层进行曝光制程，其中用于曝光制程中的光线照射至各间隔物的顶面或是底面，并且通过各间隔物使得光线能够从各间隔物内部照射至各间隔物的侧壁上的感光材料层。在对感光材料层进行曝光制程之后，通过显影制程来移除未被光线所曝照到的感光材料层，以于各间隔物的顶面和侧壁形成表面修饰层。于表面修饰层上覆盖第二基板，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。

【技术实现步骤摘要】
显示器及其制造方法
本专利技术涉及一种显示器及其制造方法，且特别涉及一种包括感光间隔物的显示器及其制造方法。
技术介绍
随着科技的进步，轻、薄、短、小的平面显示器(FlatPanelDisplay,FPD)逐渐取代传统厚重的阴极映像管显示器(CathodeRayTube,CRT)。举例来说，已经开发的平面显示器可包括液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)、电泳显示器(EPD)等。一般来说，上述显示器通常会包括黑色矩阵(blackmatrix)，以防止像素之间的漏光现象，并增加色彩的对比性。然而，由于黑色矩阵通常是使用感光材料以黄光微影制程(photolithography)的方式形成，当其高度需达到一定程度时，例如黑色光阻间隔物(blackphotoresistancespacer,BPS)或者黑色柱间隔物(blackcolumnspacer,BCS)，易产生光罩对位不佳或是易剥离的问题，进而造成显示器的稳定性不佳。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示器及其制造方法，其目的之一可具有良好的稳定性。本专利技术的一实施例的显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成多个间隔物。于第一基板上形成覆盖间隔物的感光材料层。通过图案化罩幕对感光材料层进行曝光制程，其中用于曝光制程中的光线照射至各间隔物的顶面或是底面，并且通过各间隔物使得光线能够从各间隔物内部照射至各间隔物的侧壁上的感光材料层。在对感光材料层进行曝光制程之后，通过显影制程来移除未被光线所曝照到的感光材料层，以于各间隔物的顶面和侧壁形成表面修饰层。于表面修饰层上覆盖第二基板，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。本专利技术的另一实施例的显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成多个间隔物。于第一基板上形成覆盖间隔物的遮光材料层。于第一基板上形成覆盖遮光材料层和间隔物的感光材料层。通过图案化罩幕对感光材料层进行曝光制程和显影制程，以于各该间隔物上形成表面修饰层，其中表面修饰层形成于覆盖各间隔物的顶面和侧壁的遮光材料层上，且表面修饰层暴露部分遮光材料层。移除表面修饰层所暴露的部分遮光材料层，以形成遮光层，其中遮光层形成于各间隔物和表面修饰层之间，且遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和表面修饰层之间。本专利技术的再一实施例的显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成无机材料层。于无机材料层上形成多个有机间隔物。于无机材料层上形成覆盖有机间隔物的材料层。进行改质制程(modifiedprocess)，使得部分材料层与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应。在进行改质制程之后，通过显影制程来移除材料层中未与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应的部分，以于各有机间隔物的顶面和侧壁上形成表面修饰层。于表面修饰层上覆盖第二基板，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。本专利技术的一实施例的显示器包括第一基板、多个间隔物、多个表面修饰层以及第二基板。间隔物设置于第一基板上，其中间隔物能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中表面修饰层的可见光穿透率小于或等于20％。第二基板覆盖于表面修饰层上，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。本专利技术的另一实施例的显示器包括第一基板、多个间隔物、多个表面修饰层、多个遮光层以及第二基板。间隔物设置于第一基板上，其中间隔物能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁。遮光层分别设置于间隔物和表面修饰层之间，其中遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和表面修饰层之间。第二基板覆盖于表面修饰层上，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。本专利技术的再一实施例的显示器包括第一基板、多个间隔物、多个表面修饰层以及第二基板。间隔物设置于第一基板上，其中间隔物能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中间隔物和表面修饰层于叠置的部分具有小于或等于5％的可见光穿透率。第二基板覆盖于表面修饰层上，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。基于上述，在本专利技术的至少一实施例所提供的显示器的制造方法中，由于用于曝光制程中的光线能够通过各间隔物并从各间隔物内部照射至各间隔物的侧壁上的感光材料层，如此可使得光线能够良好地照射至感光材料层中欲曝光的部分，致使交联反应完全，以避免后续形成的表面修饰层易产生剥离的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。在本专利技术的至少一实施例所提供的显示器的制造方法中，材料层形成于无机材料层上并覆盖有机间隔物，经改质制程后，部分材料层与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应，如此可使得后续经显影制程而形成的表面修饰层不易产生剥离的问题，使得显示器具有良好的稳定性。在本专利技术的至少一实施例所提供的显示器及其制造方法中，由于遮光层形成于各间隔物和表面修饰层之间，且遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和些表面修饰层之间，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。在本专利技术的至少一实施例所提供的显示器中，表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中表面修饰层的可见光穿透率小于或等于20％，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。在本专利技术的至少一实施例所提供的显示器中，由于表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中间隔物和表面修饰层于叠置的部分具有小于或等于5％的可见光穿透率，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。附图说明图1A至图1D为本专利技术一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。图2A和图2B为本专利技术另一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。图3A至图3C为本专利技术再一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。图4A和图4B为本专利技术又一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。图5为本专利技术一实施例的显示器的剖面示意图。其中，附图标记说明如下：100：显示器S1、S11：第一基板S2：第二基板SB1、SB2：基材PS：间隔物OPS：有机间隔物CE：色彩转换层AM：对位标记PL：平坦层IOPL：无机材料层PM：感光材料层ML：材料层MS：图案化罩幕SML1、SML2、SML3：表面修饰层PX：像素阵列BM：黑色矩阵LSM：遮光材料层LS：遮光层T：高度L：光线MP：改质制程P：微粒具体实施方式以下将参照本实施例的附图以更全面地阐述本专利技术。然而，本专利技术亦可以各种不同的形式体现，而不应限于本文中所述的实施例。在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电性连接。再者，“电性连接”或“耦合”是可为二元件间存在其它元件。本文使用的“约”、“近似”、或“实质上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示器的制造方法，包括：于一第一基板上形成多个间隔物；于该第一基板上形成覆盖所述间隔物的一感光材料层；通过一图案化罩幕对该感光材料层进行一曝光制程，其中用于该曝光制程中的一光线照射至各该间隔物的一顶面或是一底面，并且通过各该间隔物使得该光线能够从各该间隔物内部照射至各该间隔物的一侧壁上的该感光材料层；在对该感光材料层进行该曝光制程之后，通过一显影制程来移除未被该光线所曝照到的该感光材料层，以于各该间隔物的该顶面和该侧壁形成一表面修饰层；以及于所述表面修饰层上覆盖一第二基板，其中，该第一基板或该第二基板包括一像素阵列。

【技术特征摘要】
2018.10.15 TW 1071361591.一种显示器的制造方法，包括：于一第一基板上形成多个间隔物；于该第一基板上形成覆盖所述间隔物的一感光材料层；通过一图案化罩幕对该感光材料层进行一曝光制程，其中用于该曝光制程中的一光线照射至各该间隔物的一顶面或是一底面，并且通过各该间隔物使得该光线能够从各该间隔物内部照射至各该间隔物的一侧壁上的该感光材料层；在对该感光材料层进行该曝光制程之后，通过一显影制程来移除未被该光线所曝照到的该感光材料层，以于各该间隔物的该顶面和该侧壁形成一表面修饰层；以及于所述表面修饰层上覆盖一第二基板，其中，该第一基板或该第二基板包括一像素阵列。2.如权利要求1所述的显示器的制造方法，还包括：于各该间隔物中形成多个微粒。3.如权利要求1所述的显示器的制造方法，其中，该第一基板包括一对位标记，所述间隔物中的其中一者形成于该对位标记之上并且与该对位标记重叠。4.如权利要求1所述的显示器的制造方法，其中，该第一基板包括多个色彩转换层，各该色彩转换层设置于所述间隔物中的相邻二者之间，且所述色彩转换层做为该曝光制程中所使用的该图案化罩幕。5.如权利要求4所述的显示器的制造方法，其中，该第一基板包括一黑色矩阵，该黑色矩阵形成于各该色彩转换层的一侧壁且暴露出各该间隔物的该底面。6.如权利要求1所述的显示器的制造方法，还包括：在进行该曝光制程之前，对该感光材料层进行一前处理制程，该前处理制程包括烘烤制程、真空干燥制程或其组合。7.一种显示器的制造方法，包括：于一第一基板上形成多个间隔物；于该第一基板上形成覆盖所述间隔物的一遮光材料层；于该第一基板上形成覆盖该遮光材料层和所述间隔物的一感光材料层；通过一图案化罩幕对该感光材料层进行一曝光制程和一显影制程，以于各该间隔物上形成一表面修饰层，其中，该表面修饰层形成于覆盖各该间隔物的一顶面和一侧壁的该遮光材料层上，且该表面修饰层暴露部分该遮光材料层；移除该表面修饰层所暴露的部分该遮光材料层，以形成一遮光层，其中，该遮光层形成于各该间隔物和该表面修饰层之间，且该遮光层覆盖各该间隔物的该顶面和该侧壁且延伸至该第一基板和所述表面修饰层之间。8.如权利要求7所述的显示器的制造方法，其中，该遮光材料层包括一反射层。9.一种显示器的制造方法，包括：于一第一基板上形成一无机材料层；于该无机材料层上形成多个有机间隔物；于该无机材料层上形成覆盖所述有机间隔物的一材料层；进行一改质制程，使得部分该材料层与所述有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应；在进行该改质制程之后，通过一显影制程来移除该...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴锴，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71