A terahertz mixer and its manufacturing method and an electronic device including the mixer are disclosed. According to an embodiment, the terahertz mixer includes a cavity for forming radio frequency input waveguide and local oscillator input waveguide respectively, and for accommodating mounted microstrip lines to form a step on the inner surface of the cavity; a mounted microstrip line, formed by a semiconductor growth process and connected to at least part of the step, extends to the radio frequency input waveguide and local oscillator, respectively. The input waveguide is located in the cavity to form microstrip antennas for receiving radio frequency input signal and local oscillator input signal, respectively.
【技术实现步骤摘要】
太赫兹混频器及其制造方法及包括该混频器的电子设备
本公开涉及通信领域,具体地,涉及太赫兹混频器及其制造方法及包括该混频器的电子设备。
技术介绍
近年来,太赫兹技术作为重要的研究领域,在国内外已经受到越来越广泛的关注。从太赫兹波的大气传输特性中可以看出,在183GHz,320GHz、380GHz、664GHz附近存在水分子吸收窗口,是用来探测大气湿度轮廓线的关键频段;在94GHz、140GHz、220GHz毫米波传播受到衰减较小,基于点对点通信而被低空空地导弹和地基雷达所采用。因而针对这些频段的研究非常重要。无论太赫兹波应用于哪个方面以及哪个频段,都离不开对太赫兹波的接收,对于最为常用的基于超外差体制的接收机来说,实现频率下变频作用的混频器是其中的一个关键部件。在固态太赫兹雷达和通信等系统中,由于低噪声放大器实现较为困难,混频器就成为了接收端的第一级,所以混频器性能的好坏直接关系到整个接收机系统的性能。同时,由于同频段高性能本振源实现难度大,所以采用分谐波混频技术是解决此问题的有效途径。在仅有的几类可工作于太赫兹频段的混频器中,只有基于平面肖特基二极管的太赫兹分谐波混频器可工作于室温,无需提供如液氦等以实现苛刻的低温环境,因而获得了较为普遍的应用。针对100GHz~500GHz的太赫兹波段范围,目前主要的接收机方案之一是超外差式接收机,尤其当频率高于200GHz时,基于硅基CMOS工艺和硅锗CMOS工艺的混频器变频损耗较大,还不适合应用,所以仍主要依赖于平面封装的砷化镓肖特基二极管的太赫兹分谐波混频器。现有技术中平面封装的砷化镓肖特基二极管的太赫兹分谐波混频 ...
【技术保护点】
1.一种太赫兹混频器,包括:腔体,用于分别形成射频输入波导和本振输入波导,以及用于容纳悬置微带线,在所述腔体的内侧表面上形成有台阶;悬置微带线,通过半导体生长工艺形成并跨接在所述台阶的至少一部分上,所述悬置微带线分别延伸至所述射频输入波导和所述本振输入波导所在腔体内,以分别形成用于接收射频输入信号和本振输入信号的微带线天线。
【技术特征摘要】
1.一种太赫兹混频器,包括:腔体,用于分别形成射频输入波导和本振输入波导,以及用于容纳悬置微带线,在所述腔体的内侧表面上形成有台阶;悬置微带线,通过半导体生长工艺形成并跨接在所述台阶的至少一部分上,所述悬置微带线分别延伸至所述射频输入波导和所述本振输入波导所在腔体内,以分别形成用于接收射频输入信号和本振输入信号的微带线天线。2.根据权利要求1所述的太赫兹混频器,其中,所述悬置微带线包括:介质基片,所述介质基片通过半导体生长工艺形成并跨接在所述台阶的至少一部分上;导带金属,所述导带金属通过半导体生长工艺形成在所述介质基片的顶部表面的至少一部分上。3.根据权利要求2所述的太赫兹混频器,其中,所述介质基片包括二氧化硅基片、氮化硅基片或砷化镓基片。4.根据权利要求2或3所述的太赫兹混频器,其中,所述介质基片的厚度为10μm~100μm。5.根据权利要求2至4中任一项所述的太赫兹混频器,其中,所述腔体由硅基体或砷化镓基体形成,在所述硅基体或所述砷化镓基体上形成有沟槽结构,在所述硅基体或所述砷化镓基体的内侧表面和所述沟槽的侧壁上形成有金属层,通过所述金属层之间的键合形成所述腔体。6.根据权利要求5所述的太赫兹混频器,其中,所述导带金属与所述金属层电连接。7.根据权利要求5或6所述的太赫兹混频器,其中,所述金属层的厚度根据电磁波传输的趋附深度要求确定。8.根据权利要求5至7中任一项所述的太赫兹混频器,其中,所述金属层的厚度为0.5μm~5μm。9.根据权利要求5至8中任一项所述的太赫兹混频器,其中,所述沟槽结构包括用于形成所述射频输入波导的第一沟槽和用于形成所述本振输入波导的第二沟槽,所述第一沟槽的深度方向和所述第二沟槽的深度方向与所述悬置微带线所在平面的法线方向平行。10.根据权利要求5至9中任一项所述的太赫兹混频器,其中,所述射频输入波导的波导口的引出方向和所述本振输入波导的波导口的引出方向与所述悬置微带线所在平面的法线方向平行或与所述悬置微带线所在平面的法线垂直。11.根据权利要求5至10中任一项所述的太赫兹混频器,还包括:肖特基二极管,所述肖特基二极管倒装键合或正面键合在所述介质基片上,或者通过半导体生长工艺形成在所述介质基片上,且所述肖特基二极管与所述导带金属电连接。12.根据权利要求11所述的太赫兹混频器,其中,在所述导带金属上设置有对准标记,所述对准标记用于在键合所述肖特基二极管时进行对准。13.一种制造太赫兹混频器的方法,包括:在硅基体或砷化镓基体上形成沟槽结构,所述沟槽结构包括台阶;在所述硅基体或...
【专利技术属性】
技术研发人员:李元景,胡海帆,赵自然,马旭明,
申请(专利权)人:清华大学,同方威视技术股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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