The invention discloses an off-type buffer material groove device based on ceramic photosensitive resin, which comprises a closed ring material groove with a filling cavity with an opening at the bottom and top of the ring material groove. Among them, the separating buffer material groove device of the invention also includes a silica gel bottom plate, a spring buffer assembly, a separating diaphragm and a tightening ring pad closed at the head and tail. The top surface of the silica gel bottom plate is close to the bottom surface of the ring material groove. The silica gel bottom plate also has a light transmission area matching the filling chamber. The separating diaphragm is located in the filling chamber and is directly opposite to the light transmission area, and the separating diaphragm is also tightened with the top surface of the silica gel bottom plate. The tension ring pad is located in the filling chamber and installed on the silica gel bottom plate. The tension ring pad and the silica gel bottom plate clamp around the separating diaphragm together. The spring buffer assembly is placed on the silica gel bottom plate and the ring material groove along the upper and lower directions of the silica gel bottom plate. The separating buffer type material groove device of the invention can ensure the reliability of the film stripping between the printed parts and the separating diaphragm to ensure the printing quality.
【技术实现步骤摘要】
基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置
本专利技术涉及3D打印
,尤其涉及一种基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置。
技术介绍
随着经济的不断发展及社会的不断进步,为人们的生产生活提供极其丰富的物质消费品,而3D打印机就是诸多物质消费品中一种。其中,对于应用于陶瓷光敏树脂的连续上升式3d打印机来说,其工作过程是:将浸入料槽内的打印平台向下移动与位于料槽内的离型膜片相紧贴的光固化位置,打开下方的光源,使其发出的光线向上穿过离型膜片再照射于打印平台,从而使打印平台上光固化出一层光固化层,该光固化层与离型膜片之间产生真空负压;接着,再使打印平台向上移动一个光固化层的高度,光源的光线再使打印平台再形成出新的光固化层,不断重复上述的步骤,直至整个样品成型完毕。正由于打印平台上的光固化层与离型膜片之间产生负压,故在打印平台每一次向上提起时都会将光固化层与离型膜片强行拉开,一方面不利于脱膜过程,另一方面导致打印产品存在缺陷,因而无法确保打印产品的质量。因此,急需要一种基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置来克服上述的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置,其便于打印产品与离型膜片之间脱膜并确保产品的打印质量。为实现上述的目的,本专利技术提供了一种基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置,包括首尾闭合的环型料槽,所述环型料槽具有腔口位于所述环型料槽的底面和顶面的盛装腔。其中,本专利技术的述离型缓冲式料槽装置还包括硅胶底板、弹簧缓冲组件、离型膜片及首尾闭合的绷紧环垫,所述硅胶底板的顶面与所述环型料槽的底面相紧贴,所述硅胶底板还具有匹 ...
【技术保护点】
1.一种基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置,包括首尾闭合的环型料槽,所述环型料槽具有腔口位于所述环型料槽的底面和顶面的盛装腔,其特征在于,所述离型缓冲式料槽装置还包括硅胶底板、弹簧缓冲组件、离型膜片及首尾闭合的绷紧环垫,所述硅胶底板的顶面与所述环型料槽的底面相紧贴,所述硅胶底板还具有匹配所述盛装腔的透光区域,所述离型膜片位于所述盛装腔内并正对所述透光区域,所述离型膜片还与所述硅胶底板的顶面相紧贴,所述绷紧环垫位于所述盛装腔内并安装于所述硅胶底板,所述绷紧环垫与所述硅胶底板共同夹紧所述离型膜片的四周,所述弹簧缓冲组件沿所述硅胶底板的上下方向穿置于所述硅胶底板与所述环型料槽处。
【技术特征摘要】
1.一种基于陶瓷光敏树脂的离型缓冲式料槽装置,包括首尾闭合的环型料槽,所述环型料槽具有腔口位于所述环型料槽的底面和顶面的盛装腔,其特征在于,所述离型缓冲式料槽装置还包括硅胶底板、弹簧缓冲组件、离型膜片及首尾闭合的绷紧环垫,所述硅胶底板的顶面与所述环型料槽的底面相紧贴,所述硅胶底板还具有匹配所述盛装腔的透光区域,所述离型膜片位于所述盛装腔内并正对所述透光区域,所述离型膜片还与所述硅胶底板的顶面相紧贴,所述绷紧环垫位于所述盛装腔内并安装于所述硅胶底板,所述绷紧环垫与所述硅胶底板共同夹紧所述离型膜片的四周,所述弹簧缓冲组件沿所述硅胶底板的上下方向穿置于所述硅胶底板与所述环型料槽处。2.根据权利要求1所述的离型缓冲式料槽装置,其特征在于,所述弹簧缓冲组件分别布置于所述环型料槽的相对两侧。3.根据权利要求1所述的离型缓冲式料槽装置,其特征在于,所述弹簧缓冲组件分别布置于所述环型料槽的四个角落。4.根据权利要求1所述的离型缓冲式料槽装置,其特征在于,所述弹簧缓冲组件包含...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈盛贵,周继尧,孙振忠,李楠,朱静波,卢秉恒,
申请(专利权)人:东莞理工学院,无锡金谷智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。