The invention relates to the technical field of cleaning device, in particular to a cleaning system and cleaning method for quartz wafer fixtures. The basic cleaning system is composed of operating device and control device, and the power supply is used to supply power to the proximity switch. When the quartz wafer fixture is put into the material removal device, the proximity switch receives the signal to close the power supply, and the relay power supply and the time relay are often opened to supply power. Electricity and contactor often start to close and turn on electricity to make solenoid valve and blower work. At this time, impurities and pollutants in quartz wafer fixture on material removal device are sucked into blower through hose, connector, primary effect filter and water pipe. When the time relay time is over, the blower stops working. At this time, the treatment fixture can be picked up after cleaning and the proximity switch is picked up. Return to the initial state. The beneficial effect of the technical scheme is to ensure the electrical performance of quartz wafer in the process of dismantling and cleaning after being silver-coated, reduce wafer contamination and increase the number of good wafers.
【技术实现步骤摘要】
一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法
本专利技术涉及清洗装置
,尤其涉及一种石英晶片治具的清洗系统及清洗方法。
技术介绍
随着半导体技术的发展,人们对电子
的一些半导体材料要求越来越高,因此石英晶片加工时,保证石英晶片的纯度要求也越来越重要。现有的生产工艺中,对小型化的晶片治具拆片清洗较为繁琐,普通的拆取方式是用手工直接将被银治具上盖板取下,然后将盛放晶片的被银掩模板取出,这种做法比较容易使得被银治具上盖板上的被银后的银屑脱落污染晶片,同时因为小型化的晶片对被银治具的重合度和精确度要求高,这样一来就容易发生被银过程后被银掩模板与上盖板和下盖板粘住,进而产生带料现象,增加了石英晶片测量时电性能的误差减少了晶片良品数量。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术提出一种石英晶片治具清洗系统及其清洗方法,旨在保证在被银后石英晶片治具拆片与清洗过程中石英晶片的电性能,减小晶片污染增加晶片良品数。具体技术方案如下:一种石英晶片治具的清洗系统,其中包括:一运行装置,所述运行装置包括一拆料装置、一软管、一连接器、一电磁阀、一初效过滤器、一鼓风机及、一水管,所述运行装置用以完成所述清洗系统的清洗过程;一控制装置,所述控制装置包括,一电源装置、一接近开关、一继电器、一时间继电器、一接触器及一插座,所述控制装置用以控制所述清洗系统的运行过程;所述拆料装置通过所述软管连接至所述连接器的第一通孔;所述连接器的第二通孔通过所述软管连接所述初效过滤器;所述电磁阀安装在所述连接器的第三通孔上;所述接触器与所述电磁阀的控制端相连;所述初效过滤器通过所述水管连接至所述鼓风机的进风口; ...
【技术保护点】
1.一种石英晶片治具的清洗系统,其特征在于,包括:一运行装置,所述运行装置包括一拆料装置、一软管、一连接器、一电磁阀、一初效过滤器、一鼓风机及、一水管,所述运行装置用以完成所述清洗系统的清洗过程;一控制装置,所述控制装置包括,一电源装置、一接近开关、一继电器、一时间继电器、一接触器及一插座,所述控制装置用以控制所述清洗系统的运行过程;所述拆料装置通过所述软管连接至所述连接器的第一通孔;所述连接器的第二通孔通过所述软管连接所述初效过滤器;所述电磁阀安装在所述连接器的第三通孔上;所述接触器与所述电磁阀的控制端相连;所述初效过滤器通过所述水管连接至所述鼓风机的进风口;所述鼓风机的出风口连接所述水管;所述接近开关安装在所述拆料装置上;所述电源装置、所述接近开关、所述继电器、所述时间继电器、通过导线依次连接到至所述插座;所述插座与所述鼓风机通过导线相连。
【技术特征摘要】
1.一种石英晶片治具的清洗系统,其特征在于,包括:一运行装置,所述运行装置包括一拆料装置、一软管、一连接器、一电磁阀、一初效过滤器、一鼓风机及、一水管,所述运行装置用以完成所述清洗系统的清洗过程;一控制装置,所述控制装置包括,一电源装置、一接近开关、一继电器、一时间继电器、一接触器及一插座,所述控制装置用以控制所述清洗系统的运行过程;所述拆料装置通过所述软管连接至所述连接器的第一通孔;所述连接器的第二通孔通过所述软管连接所述初效过滤器;所述电磁阀安装在所述连接器的第三通孔上;所述接触器与所述电磁阀的控制端相连;所述初效过滤器通过所述水管连接至所述鼓风机的进风口;所述鼓风机的出风口连接所述水管;所述接近开关安装在所述拆料装置上;所述电源装置、所述接近开关、所述继电器、所述时间继电器、通过导线依次连接到至所述插座;所述插座与所述鼓风机通过导线相连。2.根据权利要求1所述的一种石英晶片治具清洗系统,其特征在于,所述拆料装置上安装一真空表。3.根据权利要求1所述的一种石英晶片治具清洗系统,其特征在于,所述电源装置的输入端连接市电;所述电源装置的输出端连接所述接近开关的电源端。4.根据权利要求3所述的一种石英晶片治具清洗系统,其特征在于,所述电源装...
【专利技术属性】
技术研发人员:林鹏正,
申请(专利权)人:杭州鸿星电子有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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