一种显示装置及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示装置及其制备方法，通过将黑矩阵设置在显示装置出光侧的外侧，在制备黑矩阵时对黑矩阵进行烘烤，导致存在黑矩阵内水汽释放不充分的问题，由于黑矩阵并未设置在对盒的两个基板之间，相应的，也不会对显示装置内部的液晶分子产生影响，因此无需再额外增加烘烤工序，由此可以兼顾显示装置的产能和显示效果。

A display device and its preparation method

The invention provides a display device and a preparation method thereof. By setting the black matrix on the outside of the light side of the display device and baking the black matrix during the preparation of the black matrix, the problem of insufficient water vapor release in the black matrix exists. Since the black matrix is not set between the two substrates of the box, the corresponding liquid crystal molecules in the display device will not be affected. Therefore, no additional baking process is needed, which can take into account the production capacity and display effect of the display device.

【技术实现步骤摘要】
一种显示装置及其制备方法
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种显示装置及其制备方法。
技术介绍
无论是常规的液晶显示面板还是COA(ColorFilterOnArray)液晶显示面板，子像素之间通过黑矩阵进行遮挡，若黑矩阵在制备过程中水汽释放不充分，其中存在气泡，气体会进入液晶层内，对液晶分子的双折射产生影响，从而影响显示效果。常规的液晶显示面板中，R、G、B色阻和黑矩阵均做在彩膜基板上，且先制备黑矩阵，然后再制备R、G、B色阻，由于R、G、B色阻和黑矩阵工艺均有烘烤环节，对于黑矩阵来说，不仅在制备黑矩阵的工序中进行烘烤，而且在制备R、G、B色阻的工序中，还会对黑矩阵进一步烘烤，以进一步释放水汽，防止水汽对显示装置的显示效果产生影响。但是，COA液晶显示面板中，R、G、B色阻做在COA基板上，黑矩阵做在与COA基板对盒的对盒基板上，使得对盒基板的黑矩阵缺少制备R、G、B色阻过程中的烘烤工序，从而导致黑矩阵水汽释放不充分，产生气泡等不良，由此导致显示效果下降。目前的解决方案是通过增加黑矩阵的烘烤时间解决气泡等问题，但是烘烤时间需要增加一个多小时，严重影响产能。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述不足，提供一种显示装置及其制备方法，用以至少部分解决现有显示装置的显示效果与产能无法兼顾的问题。本专利技术为解决上述技术问题，采用如下技术方案：本专利技术提供一种显示装置，包括第一基板、黑矩阵和与所述第一基板对盒的第二基板，所述黑矩阵设置在所述第一基板远离所述第二基板的一侧，所述第一基板上所述黑矩阵所在的一侧为所述显示装置的出光侧。优选的，所述黑矩阵在所述第二基板上的投影位于相邻子像素之间。优选的，所述第二基板为阵列基板，所述第二基板上设置有色阻，所述第一基板邻近所述第二基板的一侧未设置黑矩阵。优选的，所述黑矩阵的宽度为5-10微米。进一步的，所述显示装置还包括光栅，所述光栅位于所述第一基板远离所述第二基板的一侧，第奇数个黑矩阵与所述光栅的各个遮挡部的一端相连，第偶数个黑矩阵与所述光栅的各个遮挡部的另一端相连。优选的，所述光栅的材料与所述黑矩阵的材料相同。优选的，所述光栅与所述黑矩阵一体成型。优选的，所述光栅的遮挡部的宽度为40-100微米。优选的，所述第一基板包括第一基底，所述黑矩阵形成在所述第一基底远离所述第二基板的表面。优选的，所述第一基板包括第一基底，所述显示装置还包括第二基底，所述黑矩阵形成在所述第二基底上，所述第二基底的未形成所述黑矩阵的表面与所述第一基底远离所述第二基板的表面贴合。优选的，所述第一基板包括第一基底，所述显示装置还包括薄膜基材，所述黑矩阵形成在所述薄膜基材上，所述薄膜基材未形成所述黑矩阵的表面与所述第一基底远离所述第二基板的表面贴合。本专利技术还提供一种显示装置的制备方法，所述方法包括：形成第一基板和与所述第一基板对盒的第二基板，在第一基板远离第二基板的一侧形成黑矩阵，其中，所述第一基板上所述黑矩阵所在的一侧为所述显示装置的出光侧。优选的，所述第一基板包括第一基底；所述在第一基板远离第二基板的一侧形成黑矩阵，具体包括：通过构图工艺，在所述第一基底远离所述第二基板的表面形成所述黑矩阵。优选的，所述第一基板包括第一基底，所述显示装置还包括第二基底；所述在第一基板远离第二基板的一侧形成黑矩阵，具体包括：通过构图工艺在所述第二基底上形成所述黑矩阵；将所述第二基底的未形成所述黑矩阵的表面与所述第一基底远离所述第二基板的表面贴合。优选的，所述第一基板包括第一基底，所述显示装置还包括薄膜基材；所述在第一基板远离第二基板的一侧形成黑矩阵，具体包括：通过构图工艺在所述薄膜基材上形成所述黑矩阵；将所述薄膜基材的未形成所述黑矩阵的表面与所述第一基底远离所述第二基板的表面贴合。本专利技术能够实现以下有益效果：本专利技术通过将黑矩阵设置在显示装置出光侧的外侧，在制备黑矩阵时对黑矩阵进行烘烤，导致存在黑矩阵内水汽释放不充分的问题，由于黑矩阵并未设置在对盒的两个基板之间，相应的，也不会对显示装置内部的液晶分子产生影响，因此无需再额外增加烘烤工序，由此可以兼顾显示装置的产能和显示效果。附图说明图1为理想状态下的显示装置的光路示意图；图2为本专利技术实施例提供的显示装置的光路示意图；图3为本专利技术实施例提供的显示装置制备方法流程图。图例说明：1、第一基板2、第二基板3、黑矩阵4、光栅11、第一基底41、遮挡部42、光栅开口具体实施方式下面将结合本专利技术中的附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图2所示，本专利技术提供一种显示装置，所述显示装置包括：第一基板1、黑矩阵3和与第一基板1对盒的第二基板2，黑矩阵3设置在第一基板1远离第二基板2的一侧，第一基板1上黑矩阵3所在的一侧为所述显示装置的出光侧。所述显示装置为液晶显示装置，即在第一基板1和第二基板2之间还设置有液晶层(图中未绘示)。第二基板2可以为阵列基板，优选的，第二基板2上还可以设置R、G、B色阻(图中未绘示)，那么第二基板2即为COA基板。如图2所示，黑矩阵3的宽度为b，黑矩阵3在第二基板2上的投影位于相邻子像素之间，用于遮挡第二基板2上薄膜晶体管的金属走线。需要说明的是，这里所说的投影为被人眼接收的光线在第二基板2上的投影(即斜投影)。在本专利技术实施例中，相邻子像素是指左眼像素和右眼像素。需要说明的是，黑矩阵通常设置在与COA基板对盒的基板上邻近所述COA基板的一侧，而在本专利技术中，由于已将黑矩阵3设置在第一基板1远离第二基板2的一侧，则在第一基板1邻近第二基板2的一侧不再设置黑矩阵。本专利技术通过将黑矩阵3设置在显示装置的出光侧的外侧，当第一基板为COA基板时，在制备黑矩阵3时对黑矩阵3进行烘烤，导致存在黑矩阵3内水汽释放不充分的问题，由于黑矩阵3并未设置在对盒的两个基板之间，相应的，也不会对显示装置内部的液晶分子产生影响，因此无需再额外增加烘烤工序，由此可以兼顾显示装置的产能和显示效果。优选的，黑矩阵3的宽度b为5-10微米，这样，能够兼顾开口率又能够保证相邻子像素防串扰的效果。进一步的，为了实现3D显示效果，如图2所示，所述显示装置还可以包括光栅4，光栅4位于第一基板1远离第二基板2的一侧，光栅4包括多个遮挡部41，各遮挡部41之间形成光栅开口42。由于人眼的左眼和右眼水平分开在两个不同的位置上，将光栅垂直于两眼放置(即与显示装置平行放置)，左眼和右眼对光栅的观察角度不同，观看显示装置呈现的图像是不同的，左眼图像与右眼图像之间存在着像差，由于像差的存在，通过人类的大脑可以产生立体感，从而实现3D显示效果。在理想状态下，设置有光栅4的显示装置的光路图如图1所示，第二基板2的子像素区域(即图1中左眼像素区域L和右眼像素区域R)全部为有效发光区，即相邻子像素之间不存在无效发光区。但是在实际中，由于第二基板2上设置有薄膜晶体管等显示元件，必然要占用子像素区域的部分位置，子像素中被薄膜晶体管所占用的区域即为无效发光区，左眼像素区域L和右眼像素区域R即为有效发光区，与无效发光区共同形成子像素。如图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置，包括第一基板、黑矩阵和与所述第一基板对盒的第二基板，其特征在于，所述黑矩阵设置在所述第一基板远离所述第二基板的一侧，所述第一基板上所述黑矩阵所在的一侧为所述显示装置的出光侧。

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，包括第一基板、黑矩阵和与所述第一基板对盒的第二基板，其特征在于，所述黑矩阵设置在所述第一基板远离所述第二基板的一侧，所述第一基板上所述黑矩阵所在的一侧为所述显示装置的出光侧。2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述黑矩阵在所述第二基板上的投影位于相邻子像素之间。3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述第二基板为阵列基板，所述第二基板上设置有色阻，所述第一基板邻近所述第二基板的一侧未设置黑矩阵。4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述黑矩阵的宽度为5-10微米。5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括光栅，所述光栅位于所述第一基板远离所述第二基板的一侧，第奇数个黑矩阵与所述光栅的各个遮挡部的一端相连，第偶数个黑矩阵与所述光栅的各个遮挡部的另一端相连。6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述光栅的材料与所述黑矩阵的材料相同。7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述光栅与所述黑矩阵一体成型。8.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述光栅的遮挡部的宽度为40-100微米。9.如权利要求1-8任一项所述的显示装置，其特征在于，所述第一基板包括第一基底，所述黑矩阵形成在所述第一基底远离所述第二基板的表面。10.如权利要求1-8任一项所述的显示装置，其特征在于，所述第一基板包括第一基底，所述显示装置还包括第二基底，所述黑矩阵形成在所述第二基底上，所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡伟频，邱云，孙晓，赵合彬，王延峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11