微波处理装置制造方法及图纸

微波处理装置(101)具有：加热室(11)；微波的振荡源(1)；载置台(4)，其设置在加热室(11)内，用于载置被加热物(7)；以及波导管(6)，其将微波引导至加热室(11)。微波处理装置(101)还具有：周期性构造体(5)，其设置在波导管(6)内，使微波以表面波模式传播；周期性构造体(5)附近的检测天线(9)；检测部(8)，其检测由检测天线(9)接收的电磁波；以及控制部(10)，其对振荡源(1)进行控制。控制部(10)根据检测出的电磁波来识别周期性构造体(5)附近的电磁场的功率分布，并根据电磁场的功率分布对振荡源(1)进行控制，使得将振荡频率设定为第1振荡频率和第2振荡频率中的任意频率。根据本方式，通过对周期性构造体的特性变化进行校正，能够维持周期性构造体附近的优选的电磁场的功率分布。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微波处理装置
本专利技术涉及具有使用了周期性构造体的表面波传输线路的微波处理装置(Microwavetreatmentapparatus)。
技术介绍
以往，作为这种微波处理装置，公知有如下的微波处理装置：该微波处理装置具有波导管，该波导管具有梯形电路，该梯形电路具有脊(Ridge)部和槽(Slot)部(例如，参照专利文献1)。根据该现有技术，通过使用由梯形电路产生的电磁场的功率分布的集中，能够对被加热物同时进行着色(browning)和介电加热。当使脊部移动时，还可以对电磁场的功率分布的集中进行调整。此外，公知有如下的微波处理装置：该微波处理装置具有由周期性构造体构成的加热板，并且使加热板激励微波(例如，参照专利文献2)。根据该现有技术，通过变更周期性构造体的槽的深度，能够对表面波加热的强度进行调整，从而控制上下方向的加热分布。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭49-16944号公报专利文献2：日本特开平5-66019号公报
技术实现思路
在专利文献1所记载的现有技术中，为了使电磁场的功率分布集中在周期性构造体的附近，具有梯形电路的波导管等周期性构造体以表面波模式(Surfacewavemode)传播微波。在该现有技术中，无法检测因周期性构造体的特性根据被加热物的形状、种类、体积等发生变化而导致的电磁场的功率分布的变化。因此，无法校正被加热物的影响。其结果是，无法维持周期性构造体附近的电磁场的功率分布的状态。专利文献2所记载的现有技术具有用于在微波所传播的空间中变更周期性构造体的槽的深度的移动机构，从而对周期性构造体附近的电磁场的功率分布进行控制。在该结构中，为了防止放电，需要将移动机构与周边构造体可靠地电连接。还需要用于防止微波从用于向移动机构传递动力的孔中泄漏的对策。由于需要用于驱动移动机构的电机，所以装置不容易小型化。本专利技术的一个方式的微波处理装置具有：加热室，其收纳被加热物；振荡源，其振荡出微波，并且微波的振荡频率是可变的；载置台，其设置在加热室内，构成为对被加热物进行载置；以及波导管，其将微波引导至加热室。微波处理装置还具有：周期性构造体，其设置在波导管内，使微波以表面波模式传播；检测天线，其配置在周期性构造体的附近；检测部，其检测由检测天线接收的电磁波；以及控制部，其构成为对振荡源进行控制。控制部还构成为根据检测部所检测出的电磁波来识别周期性构造体附近的电磁场的功率分布，并根据电磁场的功率分布对振荡源进行控制，使得将振荡频率至少设定为第1振荡频率和与第1振荡频率不同的第2振荡频率中的任意频率。根据本方式，通过变更振荡频率，能够对周期性构造体附近的电磁场的功率分布进行控制。通过检测并校正因被加热物的影响而导致的周期性构造体的特性变化，能够维持周期性构造体附近的优选的电磁场的功率分布。其结果是，能够对各种形状、种类、体积的被加热物赋予期望的着色。附图说明图1是示出实施方式1的微波处理装置的结构的概略剖视图。图2是示出实施方式1的微波处理装置的波导管内的结构的透视立体图。图3是示出实施方式1的泄漏功率的频率特性的图。图4是示出实施方式1的周期性构造体附近的电磁场的功率分布的图。图5是示出实施方式2的微波处理装置的结构的概略剖视图。具体实施方式本专利技术的第1方式的微波处理装置具有：加热室，其收纳被加热物；振荡源，其振荡出微波，并且微波的振荡频率是可变的；载置台，其设置在加热室内，构成为对被加热物进行载置；以及波导管，其将微波引导至加热室。微波处理装置还具有：周期性构造体，其设置在波导管内，使微波以表面波模式传播；检测天线，其配置在周期性构造体的附近；检测部，其检测由检测天线接收的电磁波；以及控制部，其构成为对振荡源进行控制。控制部还构成为根据检测部所检测出的电磁波来识别周期性构造体附近的电磁场的功率分布，并根据电磁场的功率分布对振荡源进行控制，使得将振荡频率至少设定为第1振荡频率和与第1振荡频率不同的第2振荡频率中的任意频率。根据本专利技术的第2方式的微波处理装置，在第1方式中，控制部构成为一边控制振荡源使振荡频率发生变动，一边根据检测部所检测出的电磁波来确定周期性构造体的附近的电磁场的功率分布的集中为最大时的频率，并将所确定的频率设定为第1振荡频率。根据本专利技术的第3方式的微波处理装置，在第1方式中，控制部构成为一边控制振荡源使振荡频率发生变动，一边根据检测部所检测出的电磁波来确定周期性构造体的附近的电磁场的功率分布的集中为最小时的频率，并将所确定的频率设定为第2振荡频率。根据本专利技术的第4方式的微波处理装置，在第1方式中，控制部构成为控制振荡源在被加热物的加热中根据被加热物的状态变更振荡频率。根据本专利技术的第5方式的微波处理装置，在第1方式中，控制部构成为将第1振荡频率与第2振荡频率之间的频率设定为振荡频率。以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。(实施方式1)图1是示出本专利技术实施方式1的微波处理装置100的、特别是波导管6和加热室11的结构的概略剖视图。图2是示出设置于微波处理装置100的波导管6内的结构的透视立体图。如图1、图2所示，微波处理装置100具有振荡源1、天线2、金属制板3、载置台4、周期性构造体5、波导管6、以及加热室11。振荡源1振荡出微波。来自振荡源1的微波的振荡频率是可变的。控制部10由微型计算机构成，其控制振荡源1来变更微波的振荡频率。振荡源1也可以具有振荡器和半导体元件制的放大器。在振荡源1具有振荡器和放大器的情况下，能够容易通过控制部10对振荡频率进行控制。波导管6在加热室11的下方接近载置台4设置，从天线2的设置场所延伸到加热室11的下方。金属制板3是与波导管6的内壁面垂直的多个金属制板。通过在波导管6内按照一定的间隔周期性地配置多个金属制板来构成周期性构造体5。当对金属制板3的高度或间隔等进行最优化时，在设置有周期性构造体5的范围内，微波成为慢波(Slowwave)，以表面波模式在金属制板3的上侧传播。其结果是，电磁场的功率分布集中在金属制板3的上侧附近。当被加热物7被载置于载置台4时，被加热物7接近周期性构造体5。由于波导管6的与载置台4对置的一侧是敞开的，所以通过使电磁场的功率分布集中在金属制板3的上侧附近，从下方加热被加热物7。对以上那样构成的微波处理装置的动作、作用进行说明。图3示出了2.4GHz到2.5GHz这一频带的振荡频率下的、来自周期性构造体5的泄漏功率。在图3中，横轴表示振荡源1的振荡频率，纵轴表示在与周期性构造体5分开规定的距离的位置处测量出的泄漏功率。在电磁场的功率分布不太集中于周期性构造体5附近并且微波扩散到空间的情况下，泄漏功率增大。在电磁场的功率分布集中在周期性构造体5附近并且微波未扩散到空间的情况下，泄漏功率减小。如图3所示，泄漏功率根据振荡源1的振荡频率而发生变化。除了金属制板3的高度和间隔等的最优化之外，通过设定适当的振荡频率，在设置有周期性构造体5的范围内，微波成为慢波，以表面波模式在金属制板3上侧传播。其结果是，电磁场的功率分布集中在金属制板3的上侧附近。图4示出了周期性构造体5附近的电磁场的功率分布。在图4中，横轴表示电磁场的功率，纵轴表示距周期性构造体5的上下方向的距离(即，高度)。在图4中，用实线表示的曲线图表示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波处理装置，其具有：加热室，其收纳被加热物；振荡源，其振荡出微波，并且所述微波的振荡频率是可变的；载置台，其设置在所述加热室内，构成为对所述被加热物进行载置；波导管，其将所述微波引导至所述加热室；周期性构造体，其设置在所述波导管内，使微波以表面波模式传播；检测天线，其配置在所述周期性构造体的附近；检测部，其检测由所述检测天线接收的电磁波；以及控制部，其构成为对所述振荡源进行控制，并且根据所述检测部所检测出的所述电磁波来识别所述周期性构造体的附近的电磁场的功率分布，根据所述电磁场的所述功率分布，对所述振荡源进行控制，使得将所述振荡频率至少设定为第1振荡频率和与所述第1振荡频率不同的第2振荡频率中的任意频率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.23 JP 2016-0579561.一种微波处理装置，其具有：加热室，其收纳被加热物；振荡源，其振荡出微波，并且所述微波的振荡频率是可变的；载置台，其设置在所述加热室内，构成为对所述被加热物进行载置；波导管，其将所述微波引导至所述加热室；周期性构造体，其设置在所述波导管内，使微波以表面波模式传播；检测天线，其配置在所述周期性构造体的附近；检测部，其检测由所述检测天线接收的电磁波；以及控制部，其构成为对所述振荡源进行控制，并且根据所述检测部所检测出的所述电磁波来识别所述周期性构造体的附近的电磁场的功率分布，根据所述电磁场的所述功率分布，对所述振荡源进行控制，使得将所述振荡频率至少设定为第1振荡频率和与所述第1振荡频率不同的第2振荡频率中的任意频率。2.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：大森义治，吉野浩二，冈岛利幸，宇野博之，上岛博幸，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP