减反射膜和减反射玻璃制造技术

本实用新型专利技术涉及一种减反射膜及减反射玻璃。一种减反射膜，包括依次层叠的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层，其中，所述第二高折射率层包括防尘层，所述防尘层选自ITO层、IZO层、AZO层及ATO层中的至少一层。上述减反射膜能够防尘。

Antireflection film and antireflective glass

The utility model relates to a antireflection film and a reflection reducing glass. An antireflective film comprises a first high refractive index layer, a first low refractive index layer, a second high refractive index layer and a second low refractive index layer, which are stacked in sequence. The second high refractive index layer comprises a dust-proof layer, which is selected from at least one layer in ITO layer, IZO layer, AZO layer and ATO layer. The antireflection film can be dust-proof.

【技术实现步骤摘要】
减反射膜和减反射玻璃
本技术涉及一种减反射膜和减反射玻璃。
技术介绍
众所周知，光在两种介质的界面上会发生反射现象，当反射光的光程差恰好等于入射光的半个波长时，反射光会相互抵消，从而大大减少了光学器件的光反射损失，增强了透射光的强度。在光学镜头、展示展柜玻璃等领域，这种减反增透膜玻璃具有非常广泛的应用。然而，现有的减反射玻璃在干燥的环境中使用时，膜层容易吸附灰尘，从而降低玻璃的减反射效果，即降低了玻璃的增透效果。虽然通过清洁维护可以除去膜表面吸附的灰尘，但长期采取清洁等方式处理，容易在膜表面留下划伤等痕迹，从而永久性地破坏了镀膜玻璃的减反射效果。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种能够防尘的减反射膜及减反射玻璃。一种减反射膜，包括依次层叠的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层，其中，所述第二高折射率层包括防尘层，所述防尘层选自ITO层、IZO层、AZO层及ATO层中的至少一层。上述减反射膜，包括依次层叠的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层，通过反射干涉，使其具有相对低反射和高透过的光学效果；第二高折射率层包括防尘层，防尘层选自ITO层、IZO层、AZO层及ATO层中的至少一层，从而即使在干燥的环境中也能起到较好的防尘效果且对减反射膜整体的透光性影响较小。在其中一个实施例中，所述第一高折射率层的折射率为2.0～2.5，所述第一低折射率层的折射率为1.47～1.53，所述第二高折射率层的折射率为2.0～2.5，所述第二低折射率层的折射率为1.47～1.53。在其中一个实施例中，所述防尘层的厚度为60nm～79nm；或所述的第二高折射率层还包括层叠于所述第一低折射率层表面的折射率调整层，所述防尘层形成于所述折射率调整层的表面，氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层，所述防尘层的厚度为20nm～79nm，所述折射率调整层的厚度为40nm～100nm。在其中一个实施例中，所述第一高折射率层选自氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层；及/或所述第一高折射率层的厚度为5nm～50nm。在其中一个实施例中，所述第一低折射率层为二氧化硅层；及/或所述第一低折射率层的厚度为5nm～50nm。在其中一个实施例中，所述第二低折射率层为二氧化硅层；及/或所述第二低折射率层的厚度为30nm～120nm。在其中一个实施例中，还包括层叠于所述第二低折射率层表面的保护层。在其中一个实施例中，所述保护层选自二氧化锆层、氮化硅层及碳化硅层中的至少一层。一种减反射玻璃，包括：玻璃基底；及层叠于玻璃基底表面的上述所述的减反射膜。在其中一个实施例中，所述玻璃基底的厚度为3mm～19mm；及/或所述减反射玻璃为中性色玻璃。附图说明图1为一实施方式的减反射玻璃的结构示意图；图2为另一实施方式的减反射玻璃的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳的实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”、“上”、“下”、“远”、“近”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1，一实施方式的减反射玻璃100包括玻璃基底110及减反射膜130。在其中一个实施例中，玻璃基底110的厚度为3mm～9mm，优选为3mm、4mm、5mm、6mm、8mm、10mm、12mm、15mm或19mm。在其中一个实施例中，玻璃基底110的最大尺寸为3300mm×6000mm。减反射膜130层叠于玻璃基底110的其中一个表面。当然在其他实施方式中，玻璃基底110相对的两个表面都可以层叠减反射膜130。减反射膜130包括依次层叠的第一高折射率层131、第一低折射率层133、第二高折射率层135、第二低折射率层137及保护层139。第一高折射率层131层叠于玻璃基底110的表面，主要作用是起到和玻璃基底110的连接作用，调节反射色性能，并阻挡玻璃基底110中碱金属离子的扩散。第一高折射率层131的折射率为2.0～2.5。在其中一个实施例中，第一高折射率层131选自氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层。第一高折射率层131的厚度为5nm～50nm，优选为10nm～40nm，进一步优选为15nm～30nm。第一低折射率层133层叠于第一高折射率层131的表面，主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。第一低折射率层133的折射率为1.47～1.53。在其中一个实施例中，第一低折射率层133为二氧化硅层。第一低折射率层133的厚度为5nm～50nm。第一低折射率层133的厚度为5nm～50nm，优选为10nm～40nm，进一步优选为20nm～30nm。第二高折射率层135层叠于第一低折射率层133的表面，主要作用是抗静电和调节膜层的干涉及反射颜色。第二高折射率层135的折射率为2.0～2.5。第二高折射率层135包括折射率调整层1352及防尘层1354。第二高折射率层135的厚度为30nm～150nm，优选为50nm～120nm，进一步优选为60nm～120nm。折射率调整层1352层叠于第一低折射率层133的表面。折射率调整层1352选自氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层。折射率调整层1352的厚度为40nm～100nm。防尘层1354层叠于折射率调整层1352的表面。防尘层1354选自ITO(氧化铟锡)层、IZO(氧化铟锌)层、AZO(铝掺杂氧化锌)层及ATO(氧化锡锑)层中的至少一层，防尘层1354的厚度为20nm～79nm。折射率调整层1352和防尘层1354的总厚度为80nm～130nm。第二低折射率层137层叠于防尘层1354的表面，主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。第二低折射率层137的折射率为1.48。在其中一个实施例中，第二低折射率层137为二氧化硅层。第二低折射率层137的厚度为5nm～50nm。第二低折射率层137的厚度为30nm～120nm，优选为40nm～100nm，进一步优选为50nm～80nm。保护层139层叠于第二低折射率层137的表面，主要作用是使薄膜能暴露在户外环境使用，也可防止所镀膜层出现划伤、化学腐蚀等缺陷，保证产品在输运、安装及使用过程中的整体性。保护层139的折射率为2.0～2.35。保护层139选自二氧化锆(ZrO2)层、氮化硅(Si3N4)层及碳化硅(SiC)层中的至少一层。保护层139的厚度为2nm～20nm，优选为4nm～15nm，进一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种减反射膜，其特征在于，包括依次层叠的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层，其中，所述第二高折射率层包括防尘层，所述防尘层选自ITO层、IZO层、AZO层及ATO层中的至少一层。

【技术特征摘要】
1.一种减反射膜，其特征在于，包括依次层叠的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层，其中，所述第二高折射率层包括防尘层，所述防尘层选自ITO层、IZO层、AZO层及ATO层中的至少一层。2.根据权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，所述第一高折射率层的折射率为2.0～2.5，所述第一低折射率层的折射率为1.47～1.53，所述第二高折射率层的折射率为2.0～2.5，所述第二低折射率层的折射率为1.47～1.53。3.根据权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，所述防尘层的厚度为60nm～79nm；或所述的第二高折射率层还包括层叠于所述第一低折射率层表面的折射率调整层，所述防尘层形成于所述折射率调整层的表面，所述折射率调整层选自氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层，所述防尘层的厚度为20nm～79nm，所述折射率调整层的厚度为40nm～100nm。4.根据权利要求1所述的减反射...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭小安，吕宜超，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44