一种静电干法循环施釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种静电干法循环施釉装置，包括分釉箱，涉及陶瓷制品生产设备领域，其包括高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩以及托架，所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架；所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接；所述防护罩包括两组相对称的由外门、内门、滑轨组成的罩门以及罩壁；所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器。本实用新型专利技术提供了一种可根据施釉工作状态进行调整的静电干法循环施釉装置，保障静电干法施釉过程的密闭性，可有效防止釉粉泄漏，同时避免循环回收的釉粉带有静电。

Electrostatic dry circulation glazing device

The utility model discloses an electrostatic dry cyclic glazing device, which comprises a glazing box, and relates to the field of ceramic products production equipment, including a high-voltage electrostatic cylinder, an air compressor, a pulse controller, a recycling device, a workbench, a transmission belt, a protective cover and a bracket, the outer wall of the glazing box and the outer wall of the high-voltage electrostatic cylinder. A support rod is arranged, and an expansion frame is arranged at the other end of the support rod; an electromagnetic valve is arranged on the intake pipe, and the pulse controller is connected with the electromagnetic valve through a wire; the protective cover comprises two pairs of relatively symmetrical cover doors composed of an external door, an internal door and a sliding rail, and a cover wall; the recycling equipment is connected with the inside of the protective cover. An electrostatic eliminator is arranged in the recycling equipment. The utility model provides an electrostatic dry method circulating glazing device which can be adjusted according to the glazing working state, guarantees the airtightness of the electrostatic dry glazing process, effectively prevents the leakage of glaze powder, and avoids the glaze powder recycled with static electricity.

【技术实现步骤摘要】
一种静电干法循环施釉装置
本技术涉及陶瓷制品生产设备领域，具体是一种静电干法循环施釉装置。
技术介绍
目前干法静电施釉在陶瓷瓷砖上釉时使用越来越广泛，该方法将釉粉通过空气流悬浮送入高压电场，使之带负电，而坯体带正电，釉粉覆盖在坯体上，当釉粉与坯体之间的电位接近零时，则完成施釉过程。干法静电施釉具有施釉简单、釉面品质好、釉层厚度均匀一致等优点。如专利CN204174114U公开了一种可控制脉动的静电干法循环施釉装置，该技术方案设置带预设脉冲控制器的空压机以及带有两层过滤网的回收罐来实现干法静电施釉以及干釉粉回收。但该技术方案直接传送带将坯体输送至高压静电筒内，为了实现坯体进入，虽然有墙壁对高压静电筒进行围栏，但高压静电筒必然是非密闭装置，静电操作过程中容易出现釉粉外泄，造成浪费不易回收，同时高压对操作环境造成不利影响。此外回收的釉粉仍带有高压静电，不易于收集与循环使用。
技术实现思路
针对现有技术中静电干法循环施釉过程中釉粉易外泄、对回收造成困难等技术问题，本技术提供了一种静电设备可根据施釉工作状态进行调整的可控制脉动的静电干法循环施釉装置，保障静电干法施釉过程的密闭性，可有效防止釉粉泄漏，同时避免循环回收的釉粉带有静电。本技术通过以下技术方案予以实现：一种静电干法循环施釉装置包括分釉箱、高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩、托架，所述分釉箱与所述高压静电筒通过支釉管连接，所述空压机与所述支釉管通过进气管连接，所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接。所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架。所述防护罩固定在所述工作台上，所述传输带贯穿所述防护罩，所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器，用于固定坯体的所述托架设置在传输带。当不进行施釉时，伸缩架向上延伸，使得支撑杆向上移动，带动高压静电筒向上升起，置于防护罩上方。当需要对坯体进行施釉时，伸缩架收缩支撑杆向下移动带动高压静电筒降下进入防护罩内，防护罩与高压静电筒组成密闭空间。所述高压静电筒包括与支釉管连通的筒体、设置支釉管末端的喷雾头、设置在筒体内壁上的高压静电反生器，所述支釉管末端贯通筒体顶端。所述防护罩包括两组相对称的罩门、连接两组罩门的罩壁，所述罩门包括外门、内门、用于外门上下滑动的滑轨，所述外门与内门通过滑轨连接，所述内门上开有通道口。当施釉作业时，外门沿着滑轨向上滑动，打开通道口，传输带运输坯体通过通道口进入防护罩内后，外门沿着滑轨向下滑动，关闭通道口。进一步地，所述循环回收设备包括组合成倒斗形状的两根以上回收管、设置回收管末端的抽吸泵、与回收管连通的回收箱、用于连通回收管与回收箱的进料管、内置于所述回收箱的静电消除器与过滤网、设置在所述回收箱底端的收集斗，所述回收管顶端贯穿所述工作台并置于防护罩内部，所述回收管与所述工作台连接处设置止回阀，所述回收箱底端设置开口，所述收集斗套在回收箱开口上，所述过滤网为向上凸起的曲面。收集的釉粉粒子在静电消除器作用下消除高压静电，过滤网的曲面设置使得接触面积更大，收集斗可直接收集釉粉粒子，回收时直接取下收集斗即可，操作简单。进一步地，所述托架包括转盘、固定在所述转盘上固定架。托架上的转盘带动坯体均匀转动，使得坯体釉面更加均匀平整。进一步地，所述进气管为伸缩管，作用在于所述伸缩架带动所述分釉箱与所述高压静电筒上下移动时，所述进气管设置为伸缩管，便于自由移动。所述支釉管与所述分釉箱连接处设置单向阀，所述进气管与支釉管连接处设置压力表与控制阀。单向阀目的是一方面防止压缩气体进入分釉箱内，另一方面是防止釉粉倒流进入分釉箱内，压力表目的是监控进气管的压缩空气，控制阀目的是控制进气管内压缩空气的输入量。与现有技术相比，本技术的有益效果是：（1）高压静电施釉环境密闭，可保证施釉过程的密闭性，可有效防止釉粉泄漏；（2）循环回收装置内设静电消除器，可有效避免循环回收的釉粉带有静电；（3）高压静电筒的可移动设置使得操作环境可根据施釉工作状态进行调整，同时便于各个部件的维护；（4）坯体的托架上设置转盘，带动坯体在施釉时均匀转动，使得坯体釉面更加均匀平整。附图说明图1为本技术的施釉装置未工作状态的结构示意图。图2为本技术的施釉装置工作状态的结构示意图。图3为本技术的静电设备的结构示意图。图4为本技术的循环回收设备的结构示意图。图5为本技术的防护罩的结构示意图。图中：1-伸缩架，2-支撑杆，3-分釉箱，4-空压机，5-脉冲控制仪，6-循环回收设备，601-回收管，602-止回阀，603-抽吸泵，604-回收箱，605-静电消除器，606-过滤网，607-收集斗，608-进料口，7-工作台，8-托架，801-转盘，802-固定架，9-坯体，10-传输带，11-防护罩，1101-罩门，1102-外门，1103-内门，1104-滑轨，1105-罩壁，1106-通道口，12-高压静电筒，1201-筒体，1202-喷雾头，1203-高压静电反生器，1204-支釉管，13-进气管，14-电磁阀，15-导线，16-单向阀，17-压力表，18-控制阀。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。一种静电干法循环施釉装置包括分釉箱3、高压静电筒12、空压机4、脉冲控制仪5、循环回收设备6、工作台7、传输带10、防护罩11、托架8，所述分釉箱3与所述高压静电筒12通过支釉管1204连接，所述空压机4与所述支釉管1204通过进气管13连接，所述进气管13上设置电磁阀14，所述脉冲控制仪5通过导线15与电磁阀14连接。所述分釉箱3外壁与所述高压静电筒12外壁设置支撑杆2，所述支撑杆2另一端设置伸缩架1。所述防护罩11固定在所述工作台7上，所述传输带10贯穿所述防护罩11，所述循环回收设备6与所述防护罩11内部连接，所述循环回收设备6内设置静电消除器605，用于固定坯体9的所述托架8设置在传输带10。当不进行施釉时，伸缩架1向上延伸，使得支撑杆2向上移动，带动高压静电筒12向上升起，置于防护罩11上方。当需要对坯体9进行施釉时，伸缩架1收缩支撑杆2向下移动带动高压静电筒12降下进入防护罩11内，防护罩11与高压静电筒12组成密闭空间。所述高压静电筒12包括与支釉管1204连通的筒体1201、设置支釉管1204末端的喷雾头1202、设置在筒体1201内壁上的高压静电反生器1203，所述支釉管1204末端贯通筒体1201顶端。所述防护罩11包括两组相对称的罩门1101、连接两组罩门1101的罩壁1105，所述罩门1101包括外门1102、内门1103、用于外门1102上下滑动的滑轨1104，所述外门1102与内门1103通过滑轨1104连接，所述内门1103上开有通道口1106。当施釉作业时，外门1102沿着滑轨1104向上滑动，打开通道口1106，传输带10运输坯本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种静电干法循环施釉装置，包括分釉箱、高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩以及托架，所述分釉箱与所述高压静电筒通过支釉管连接，所述空压机与所述支釉管通过进气管连接，所述防护罩固定在所述工作台上，所述托架设置在传输带，所述传输带贯穿所述防护罩，其特征在于：所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架；所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接；所述防护罩包括两组相对称的罩门、连接两组罩门的罩壁，所述罩门包括外门、内门、用于外门上下滑动的滑轨，所述外门与内门通过滑轨连接，所述内门上开有通道口；所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器。

【技术特征摘要】
1.一种静电干法循环施釉装置，包括分釉箱、高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩以及托架，所述分釉箱与所述高压静电筒通过支釉管连接，所述空压机与所述支釉管通过进气管连接，所述防护罩固定在所述工作台上，所述托架设置在传输带，所述传输带贯穿所述防护罩，其特征在于：所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架；所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接；所述防护罩包括两组相对称的罩门、连接两组罩门的罩壁，所述罩门包括外门、内门、用于外门上下滑动的滑轨，所述外门与内门通过滑轨连接，所述内门上开有通道口；所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器。2.根据权利要求1所述的静电干法循环施釉装置，其特征在于：所述高压静电筒包括与支釉管连通的筒体、设置支釉管末端的喷雾头、设置在筒体内壁上的高压静电反生器，所述支釉管末端贯通...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈星辉，陈新文，姚春生，陈洪水，况桂林，
申请(专利权)人：江西金阳陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36