一种解决原硅片表面脏污的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架，第一支撑架的上表面设有第一皮带输送机，第一皮带输送机与水平面呈3‑5度角设置，第一皮带输送机的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板，第一护板的外侧面设有第一托板，第一托板的上表面设有第二支撑杆，第二支撑杆的外侧面上端设有喷管，喷管的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，本解决原硅片表面脏污的装置，结构简单，操作方便，使用时占用空间小，可以快速对原硅片进行清洗，废液收集箱可以对清洗液进行收集，通过硅胶定位块可以将原硅片固定在第一皮带输送机上，灰尘过滤网可以将空气中的灰尘清除，通过热风机可以对硅胶片进行干燥处理。

A device to solve the dirty surface of the surface of the original silicon wafer

The utility model discloses a device for solving the dirty surface of the original silicon wafer, including a first support frame, a first belt conveyer on the upper surface of the first support frame, a first belt conveyor and a horizontal face with 3 angles of 5 degrees, and a first front and back front and back sides of the first belt conveyer with two front and back sides. The outer side of the first panel is provided with a first pallet, second support rods are provided on the upper surface of the first pallet, a nozzle is provided on the upper end of the outer side of the second support rod, and the lower end of the outer side of the nozzle is provided with a vertical downward sprinkler, which solves the dirt on the surface of the original silicon wafer, and is simple in structure, convenient in operation and small in space when used. The original silicon can be cleaned quickly, the waste liquid collection box can collect the cleaning liquid, and the silica gel positioning block can be used to fix the original silicon chip on the first belt conveyor. The dust filter net can remove the dust in the air and dry the silicon film through a hot fan.

【技术实现步骤摘要】
一种解决原硅片表面脏污的装置
本技术涉及电池生产设备
，具体为一种解决原硅片表面脏污的装置。
技术介绍
在电池片生产前原硅片片源存在有脏污附着在硅片表面无法去除，造成制成电池片后外观不良。现有原硅片物理清洗有三种。刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在原硅片上的薄膜。高压清洗：是用液体喷射原硅片表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉原硅片上的污染。但是,现有原硅片清洗设备在清洗原硅片的过程中往往会划伤原硅片，从而导致原硅片的外侧面产生划痕和损伤。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供种解决原硅片表面脏污的装置，可以快速对原硅片进行清洗，给原硅片的清洗以及使用带来了便利，而且在对原硅片的清洗过程中不会划伤原硅片，进一步提升了原硅片的清洗效率，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架，所述第一支撑架的上表面设有第一皮带输送机，第一皮带输送机与水平面呈3-5度角设置，第一皮带输送机的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板，第一护板的外侧面设有第一托板，第一托板的上表面设有第二支撑杆，第二支撑杆的外侧面上端设有喷管，喷管的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，第一皮带输送机的下方设有清洗液储液箱，清洗液储液箱的上表面设有液泵，液泵的出液口通过引流管与喷管的上表面相连，第一皮带输送机的右下方设有第二皮带输送机，第二皮带输送机的下表面设有第二支撑架，第二皮带输送机的前后两侧面设有两个前后对称设置的第二护板，第二护板的外侧面设有第二托板，第二托板上表面设有第二支撑杆，第二支撑杆的外侧面设有热风机，热风机的外侧面下端设有垂直向下设置的锥形排风管，第二皮带输送机的后侧设有过滤箱，热风机的进风口通过引风管与过滤箱的上表面相连，过滤箱的上表面设有单片机，单片机的输入端与外部电源的输出端电连接，单片机的输出端分别与液泵、热风机、第二皮带输送机和第一皮带输送机的输入端电连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述第一皮带输送机的上表面设有硅胶定位块，硅胶定位块的上表面设有硅片卡槽。作为本技术的一种优选技术方案，所述清洗液储液箱的前侧面设有液位观察窗口，清洗液储液箱的后侧面设有进液管。作为本技术的一种优选技术方案，所述第一皮带输送机的左下方设有废液收集箱，废液收集箱的右侧面上端设有导流槽。作为本技术的一种优选技术方案，所述过滤箱的内部设有灰尘过滤网，过滤箱的后侧面设有进气管。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本解决原硅片表面脏污的装置，结构简单，操作方便，使用时占用空间小，可以快速对原硅片进行清洗，废液收集箱可以对清洗液进行收集，通过硅胶定位块可以将原硅片固定在第一皮带输送机上，灰尘过滤网可以将空气中的灰尘清除，通过热风机可以对硅胶片进行干燥处理。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术结构主视图；图3为本技术结构俯视图。图中：1液泵、2清洗液储液箱、3第一支撑架、4第二托板、5第二支撑杆、6第二支撑架、7第二护板、8第二皮带输送机、9热风机、10锥形排风管、11引风管、12灰尘过滤网、13过滤箱、14引流管、15喷管、16第一支撑杆、17第一皮带输送机、18硅胶定位块、19废液收集箱、20第一托板、21进气管、22导流槽、23液位观察窗口、24第一护板、25单片机。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3，本技术提供一种技术方案：一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架3，第一支撑架3的上表面设有第一皮带输送机17，第一皮带输送机17与水平面呈3-5度角设置，第一皮带输送机17的左下方设有废液收集箱19，废液收集箱19的右侧面上端设有导流槽22，废液收集箱19可以对清洗液进行收集，第一皮带输送机17的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板24，第一护板24的外侧面设有第一托板20，第一托板20的上表面设有第二支撑杆5，第二支撑杆5的外侧面上端设有喷管15，喷管15的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，第一皮带输送机17的下方设有清洗液储液箱2，清洗液储液箱2的前侧面设有液位观察窗口23，清洗液储液箱2的后侧面设有进液管，清洗液储液箱2的上表面设有液泵1，液泵1的出液口通过引流管14与喷管15的上表面相连，第一皮带输送机17的上表面设有硅胶定位块18，硅胶定位块18的上表面设有硅片卡槽，通过硅胶定位块18可以将原硅片固定在第一皮带输送机17上，第一皮带输送机17的右下方设有第二皮带输送机8，第二皮带输送机8的下表面设有第二支撑架6，第二皮带输送机8的前后两侧面设有两个前后对称设置的第二护板7，第二护板7的外侧面设有第二托板4，第二托板4上表面设有第二支撑杆5，第二支撑杆5的外侧面设有热风机9，热风机9的外侧面下端设有垂直向下设置的锥形排风管10，通过热风机9可以对硅胶片进行干燥处理，第二皮带输送机8的后侧设有过滤箱13，过滤箱13的内部设有灰尘过滤网12，灰尘过滤网12可以将空气中的灰尘清除，过滤箱13的后侧面设有进气管21，热风机9的进风口通过引风管11与过滤箱13的上表面相连，过滤箱13的上表面设有单片机25，单片机25的输入端与外部电源的输出端电连接，单片机25的输出端分别与液泵1、热风机9、第二皮带输送机8和第一皮带输送机17的输入端电连接，单片机25控制液泵1、热风机9、第二皮带输送机8和第一皮带输送机17均采用现有技术中常用的方法，本解决原硅片表面脏污的装置，结构简单，操作方便，使用时占用空间小，可以快速对原硅片进行清洗。在使用时：接通外部电源，将原硅片放置在硅胶定位块18上，单片机25控制第一皮带输送机17工作将原硅片运送到喷管15的下方，单片机25控制液泵1工作，由液泵1将清洗液储液箱2中的清洗液抽送到喷管15中，喷管15中的清洗液经由设置在喷管15下表面的喷头喷出喷洒在原硅片的上表面，清洗完成后的原硅片落入到第二皮带输送机8上，由第二皮带输送机8将原硅片运送到热风机9的下方，由热风机9吹出热风对原硅片进行干燥处理。本技术可以方便的进行操作，使用时占用空间少，便于操作和使用；可以快速对原硅片进行清洗，提高了使用便利性；灰尘过滤网12可以将空气中的灰尘清除，提高了使用便利性。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架(3)，其特征在于：所述第一支撑架(3)的上表面设有第一皮带输送机(17)，第一皮带输送机(17)与水平面呈3‑5度角设置，第一皮带输送机(17)的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板(24)，第一护板(24)的外侧面设有第一托板(20)，第一托板(20)的上表面设有第二支撑杆(5)，第二支撑杆(5)的外侧面上端设有喷管(15)，喷管(15)的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，第一皮带输送机(17)的下方设有清洗液储液箱(2)，清洗液储液箱(2)的上表面设有液泵(1)，液泵(1)的出液口通过引流管(14)与喷管(15)的上表面相连，第一皮带输送机(17)的右下方设有第二皮带输送机(8)，第二皮带输送机(8)的下表面设有第二支撑架(6)，第二皮带输送机(8)的前后两侧面设有两个前后对称设置的第二护板(7)，第二护板(7)的外侧面设有第二托板(4)，第二托板(4)上表面设有第二支撑杆(5)，第二支撑杆(5)的外侧面设有热风机(9)，热风机(9)的外侧面下端设有垂直向下设置的锥形排风管(10)，第二皮带输送机(8)的后侧设有过滤箱(13)，热风机(9)的进风口通过引风管(11)与过滤箱(13)的上表面相连，过滤箱(13)的上表面设有单片机(25)，单片机(25)的输入端与外部电源的输出端电连接，单片机(25)的输出端分别与液泵(1)、热风机(9)、第二皮带输送机(8)和第一皮带输送机(17)的输入端电连接。...

【技术特征摘要】
1.一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架(3)，其特征在于：所述第一支撑架(3)的上表面设有第一皮带输送机(17)，第一皮带输送机(17)与水平面呈3-5度角设置，第一皮带输送机(17)的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板(24)，第一护板(24)的外侧面设有第一托板(20)，第一托板(20)的上表面设有第二支撑杆(5)，第二支撑杆(5)的外侧面上端设有喷管(15)，喷管(15)的外侧面下端设有垂直向下设置的喷头，第一皮带输送机(17)的下方设有清洗液储液箱(2)，清洗液储液箱(2)的上表面设有液泵(1)，液泵(1)的出液口通过引流管(14)与喷管(15)的上表面相连，第一皮带输送机(17)的右下方设有第二皮带输送机(8)，第二皮带输送机(8)的下表面设有第二支撑架(6)，第二皮带输送机(8)的前后两侧面设有两个前后对称设置的第二护板(7)，第二护板(7)的外侧面设有第二托板(4)，第二托板(4)上表面设有第二支撑杆(5)，第二支撑杆(5)的外侧面设有热风机(9)，热风机(9)的外侧面下端设有垂直向下设置的锥形排风管(10)，第二皮...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈忠海，
申请(专利权)人：苏州德瑞姆超声科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32