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本实用新型公开了一种解决原硅片表面脏污的装置，包括第一支撑架，第一支撑架的上表面设有第一皮带输送机，第一皮带输送机与水平面呈3‑5度角设置，第一皮带输送机的上表面前后两侧设有两个前后对称设置的第一护板，第一护板的外侧面设有第一托板，第一托板...
该专利属于苏州德瑞姆超声科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州德瑞姆超声科技有限公司授权不得商用。

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