A thin film terahertz light source using phase change material and magnetostrictive material belongs to the field of communication modulation technology. At least, it includes magnetostrictive film, phase change material film, heat insulation layer and oxidation proof layer. The magnetostrictive film is superimposed on the phase change material film, and there is a heat insulation layer between the two thin films, and the top layer magnetostrictive film has anti oxidation layer. The utility model has the advantages of simple structure, simple structure, low energy consumption and low production cost.
【技术实现步骤摘要】
一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源
本专利技术涉及一种电磁波辐射源,具体为一种靠相变材料的体积效应和磁致伸缩材料的磁致伸缩逆效应辐射出太赫兹光波,属于通信调制
技术介绍
太赫兹波(又称太赫兹辐射、THz波等)是频率0.3THz-30THz(波长约为10μm-1mm,光子能量约为1.2meV-120meV)的电磁波,它处于红外波与毫米波之间,是电磁波谱中一个很重要的波段。与传统光源相比,太赫兹波辐射源具有相干、低能、穿透力强等独特优异的性质,所以它在物理、化学、天文学、生命科学和医药科学等基础研究领域,以及有机分子检测、无损成像、分子电子学、新材料研究和雷达通讯方面有重要的应用前景。然而通常产生THz波的光子学和电子学方法都存在频率不可调、或工作温度低、或体积大、或价格昂贵的严重缺点,至今还没有一个较成熟的室温工作的微型固态廉价发射源。这一空白的填补将大幅推动THz技术的发展和应用。相变材料是一种可以在晶态和非晶态之间来回变换的材料,通常用于存储器件。相变材料的物理性质在晶态时和非晶态时的差异巨大。例如常用相变材料GaSbTe-225(简称GST)的晶态时的密度是其非晶态时密度的1.06倍,产生所谓的体积效应。相变材料需要受外界激发进行相变。常用激发手段为激光辐射、通电流和退火炉退火。相变材料的相变速度超快,一般为10-9~10-12s。磁致伸缩材料是一种磁致伸缩效应非常强的材料。将铁磁材料置于外磁场中时,铁磁材料会产生和磁场方向一致的形变。这种由外磁场导致的形变叫做磁致伸缩效应。常用磁致伸缩材料有Fe7Ga2B1(简称FGB)合金、F ...
【技术保护点】
1.一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源,其特征在于,至少包括磁致伸缩薄膜、相变材料薄膜、隔热层和防氧化层;磁致伸缩薄膜与相变材料薄膜叠加,且在两薄膜之间夹有隔热层,最上层磁致伸缩薄膜上还有防氧化层;相变材料为能够使用激光激发或电激发,在晶态和非晶态之间来回变换的材料。
【技术特征摘要】
1.一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源,其特征在于,至少包括磁致伸缩薄膜、相变材料薄膜、隔热层和防氧化层;磁致伸缩薄膜与相变材料薄膜叠加,且在两薄膜之间夹有隔热层,最上层磁致伸缩薄膜上还有防氧化层;相变材料为能够使用激光激发或电激发,在晶态和非晶态之间来回变换的材料。2.按照权利要求1所述的一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源,其特征在于,相变材料为GaSbTe-225(简称GST);磁致伸缩薄膜选自Fe7Ga2B1(简称FGB)合金、Fe-Co合金。3.按照权利要求1所述的一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源,其特征在于,通过调节所述相变材料的相变频率达到太赫兹级别来辐射出太赫兹光波。4.按照权利要求1所述的一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源,其特征在于,通过调节所述磁致伸缩薄膜厚度是所要求太赫兹光半波长的整数倍。5.按照权利要求1所述的一种使用相变材料和磁致伸缩材料的薄膜太赫兹光源,其特征在于,相变材料薄膜的厚度为10nm-1微米。6.按照权利要求1所述的一种使用相变...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘富荣,韩钊,韩伟娜,樊婷,李文强,张永志,郭继承,黄引,韩子豪,
申请(专利权)人:北京工业大学,
类型:发明
国别省市:北京,11
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