The invention provides a multifunctional corrosion device for a semiconductor device, including a handle, a basket, an acid washing tray, and a bracket; the bracket is installed in a bracket, the bracket is installed in the basket, and the handle is mounted on the upper end of the basket, and the acid wash tray is arranged horizontally in a number of rows in the bracket. In this invention, acid and alkali corrosion process is carried out in a corrosion plate, which greatly simplifies the circulation of products during acid alkali corrosion process. The design meets the requirement of spray cleaning process in acid corrosion process and meets the requirement of corrosion cleaning in the process of alkali corrosion. The corrosion disc meets two kinds of production processes at the same time. At the same time, the design of the corrosion plate is compatible with the subsequent coating equipment, which greatly simplifies the circulation mode of the subsequent products. The invention improves the production efficiency and has a high market value.
【技术实现步骤摘要】
一种半导体器件的多功能腐蚀装置
本专利技术涉及一种半导体器件的多功能腐蚀装置。
技术介绍
一些特殊半导体器件需要采用酸、碱腐蚀两种工艺进行腐蚀清洗,由于涉及两种清洗工艺,腐蚀操作过程不同,且采用的设备也不相同,由于酸腐蚀工艺需要将腐蚀液倒入装载产品的腐蚀盘中,而碱腐蚀需要将产品全部浸入碱腐蚀液中,因此传统的腐蚀盘不能较好地兼容两种生产工艺,且不适用与批量生产。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种半导体器件的多功能腐蚀装置。本专利技术通过以下技术方案得以实现。本专利技术提供的一种半导体器件的多功能腐蚀装置,包括提手、篮架、酸洗盘、支架;所述支架安装在支架内,所述支架安装在篮架内,所述提手安装在篮架的上端,所述酸洗盘在支架内上下水平布置有若干排。所述酸洗盘包括衬板、面板,所述面板通过支柱支撑安装在衬板上,所述衬板的下端通过螺栓固接有衬脚。所述衬板的端端面上均加工有通孔和衬脚连接孔,所述通孔内安装有支柱,所述衬脚连接孔通过螺栓将衬脚固接在衬板下端,衬板的中部加工有若干均匀布置的衬孔,衬孔的上端设置有倒圆台槽。所述面板的两端端面上加工有通孔,通孔与支柱连接,所述面板的中部设置有酸液槽,酸液槽内加工有若干限位孔,限位孔上端设置有倒圆台槽。所述支架包括限位柱、顶板、抵板、中间限位柱、侧面支撑柱、底板,所述顶板和底板分别通过锁紧件安装在限位柱两端,所述侧面支撑柱和中间限位柱通过锁紧件安装在顶板和底板之间且在顶板或底板的一侧,所述侧面支撑柱在顶板的两端,中间限位柱在顶板的中部。所述篮架包括侧板和拉紧螺杆,所述侧板平行设置有两块,两块侧板之间通过拉紧螺杆连接 ...
【技术保护点】
一种半导体器件的多功能腐蚀装置,包括提手(1)、篮架(2)、酸洗盘(3)、支架(4),其特征在于:所述支架(4)安装在支架(4)内,所述支架(4)安装在篮架(2)内,所述提手(1)安装在篮架(2)的上端,所述酸洗盘(3)在支架(4)内上下水平布置有若干排。
【技术特征摘要】
1.一种半导体器件的多功能腐蚀装置,包括提手(1)、篮架(2)、酸洗盘(3)、支架(4),其特征在于:所述支架(4)安装在支架(4)内,所述支架(4)安装在篮架(2)内,所述提手(1)安装在篮架(2)的上端,所述酸洗盘(3)在支架(4)内上下水平布置有若干排。2.如权利要求1所述的半导体器件的多功能腐蚀装置,其特征在于:所述酸洗盘(3)包括衬板(31)、面板(32),所述面板(32)通过支柱(34)支撑安装在衬板(31)上,所述衬板(31)的下端通过螺栓固接有衬脚(33)。3.如权利要求2所述的半导体器件的多功能腐蚀装置,其特征在于:所述衬板(31)的端端面上均加工有通孔(5)和衬脚连接孔(312),所述通孔(5)内安装有支柱(34),所述衬脚连接孔(312)通过螺栓将衬脚(33)固接在衬板(31)下端,衬板(31)的中部加工有若干均匀布置的衬孔(311),衬孔(311)的上端设置有倒圆台槽(6)。4.如权利要求2所述的半导体器件的多功能腐蚀装置,其特征在于:所述面板(32)的两端端面上加工有通孔(5),通孔(5)与支柱(34)连接,所述面板(32)的中部设置有酸液槽(322),酸液槽(322)内加工有若干限位孔(321),限位孔(321)上端设置有倒圆台槽(6)。5.如权利要求1所述的半导体器件的多功能腐蚀装置,其特征在于:所述支架(4)包括限位柱(41)、顶板(42)、抵板(43)、中间限位柱(44)、侧面支撑柱(45)、底板(47),所述顶板(42)和底板(47)分别通过锁紧件(46)安装在限位柱(41)两端,所述侧面支撑柱(45)和中间限位柱(44)通过锁紧件(46)安装在顶板(42)和底板(47)之间且在顶板(42)或底板(47)的一侧,所述侧面支撑柱(45)在顶板(42)的两...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁鹏,古进,郭荣,简青青,寿强亮,
申请(专利权)人:中国振华集团永光电子有限公司国营第八七三厂,
类型:发明
国别省市:贵州,52
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