一种晶体管清洗设备制造技术

技术编号:41315854 阅读:3 留言:0更新日期:2024-05-13 14:57
本技术提供一种晶体管清洗设备,包括机架、多个清洗槽和多个U形限位架,所述清洗槽与所述机架固连,并且所述清洗槽的外表面上安装有超声振子,所述限位架上端的左右两侧分别与所述机架固连,并且所述限位架的下端伸入所述清洗槽内。采用本技术的技术方案,当对批量的电子器件进行清洗时,超声振子使清洗液在清洗槽内出现振动或波动,从而改善了晶体管的清洗效果,并且在清洗过程中,通过清洗槽内的限位架对晶体管进行支护,使晶体管保持稳定的姿态,从而使清洗液对晶体管表面进行全面清洗,避免遗漏。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电子器件清洗装置,特别是指一种晶体管清洗设备


技术介绍

1、电子器件是电子元件和电小型的机器、仪器的组成部分,其本身常由若干零件构成,可以在同类产品中通用;常指电器、无线电、仪表等工业的某些零件,如电容、晶体管、游丝、发条等子器件的总称。常见的有二极管等,电子器件在生产过后表面容易沾上灰尘,需要定期清理。传统电子器件的存在清洗困难的问题,目前大多采用高压氮气吹或者擦拭的清洁方案,在清洗的时候需要单件依次进行,一次性不能清洗过多的电子器件,而且使用高压氮气吹去灰尘使得电子器件清洗的成本变高,而人工擦拭清洗的方式效率又太低,因此使用起来不方便。

2、现有技术中,公告号为:“cn208944709u”的专利文献,公开了一种电子器件用清洗烘干装置,包括清洗烘干箱、清洗池和烘干池,所述清洗烘干箱的内部设置所述清洗池、所述烘干池和储水槽,所述清洗池的内部设置酒精溶剂,所述酒精溶剂内部设置储物机构,所述清洗池的底部设置超声振子;所述烘干池的内壁两侧均安装烘干机,所述烘干池的底端设置漏斗槽。采用该专利文献提供的技术方案,通过在清洗池的底部设置超声振子,清洗池内部填充酒精溶剂,通过喷头高压冲洗电子器件,再利用超声波的空化作用可以将储物机构内部放置的电子器件进行清洗,提升了清洗效果,改善了电子器件表面的净化度,清洗完毕的电子器件通过移动储物机构整体放入烘干池中,烘干池两侧的烘干机对储物机构内部的电子器件进行烘干,提高清洗效率。

3、然而,当对批量的电子器件进行清洗时,超声振子使清洗液在清洗槽内出现振动或波动,虽然通过超声振子改善了清洗效果,也使被清洗的电子器件随着清洗液的振动而振动,使电子器件在清洗液内无法保证稳定的姿态,清洗液无法对电子器件表面进行全面清洗,另外,当对批量的电子器件进行清洗时,往往使用多种清洗液对电子器件清洗数次,在对电子器件进行转移过程中,电子器件表面附着的清洗液往往随意滴落至地面上,造成车间污染,并造成了清洗液资源浪费,此外,对电子器件清洗完毕后,则需要将清洗液从清洗槽内排除,再用清水对清洗槽进行清洗,清洗清洗槽时,则需要将超声振子卸下后才能对清洗槽进行清洗,影响了工作效率。


技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本技术提供了一种晶体管清洗设备。

2、本技术通过以下技术方案得以实现。

3、本技术提供了一种晶体管清洗设备,包括机架、多个清洗槽和多个u形限位架,所述清洗槽与所述机架固连,并且所述清洗槽的外表面上安装有超声振子,所述限位架上端的左右两侧分别与所述机架固连,并且所述限位架的下端伸入所述清洗槽内。

4、所述晶体管清洗设备还包括收集盘和多个集液箱,收集盘与所述机架固连,并且收集盘布置于任意相邻两个清洗槽之间,集液箱与收集盘的底面之间、集液箱与所述清洗槽的底面之间均连接有排液管。

5、所述晶体管清洗设备还包括烘干槽、电热管和氮气瓶,烘干槽与所述机架固连,烘干槽的内壁还与定位架固连,电热管的一端固定于所述烘干槽的外表面,电热管的另一端伸入烘干槽内,氮气瓶与烘干槽之间连接有进气管,所述烘干槽的外表面还连接有出气管,所述收集盘还布置于烘干槽与清洗槽之间,所述收集盘、集液箱还自上而下依次布置于烘干槽的下方。

6、所述晶体管清洗设备还包括夹取转移装置、载料盒、载具和分列于所述机架的左右两侧的一对输送装置,夹取转移装置用于使载料盒在输送装置与所述清洗槽之间、相邻两个所述清洗槽之间、所述清洗槽与烘干槽之间或所述烘干槽与输送装置之间进行转移,输送装置用于使载料盒由输送装置的一端转移至输送装置的另一端,载料盒的前后两侧连通并且其左右两侧内壁表面上设有多对层轨,层轨用于搁置载具,载具用于装夹晶体管。

7、所述夹取转移装置包括第一载板、第二载板和手指气缸,所述机架与第一载板之间设置有第一导轨,第一载板与第二载板之间设置有第二导轨,第二载板与手指气缸固连。

8、所述夹取转移装置还包括第一电机、第一齿轮、第一齿条、第二电机、第二齿轮和第二齿条,所述第一载板与第一电机固连,第一电机输出轴与第一齿轮固连,第一齿条与所述机架固连,并且第一齿轮与第一齿条相互啮合,所述第二载板与第二电机固连,第二电机输出轴与第二齿轮固连,第二齿条与所述第二载板固连,并且第二齿轮与第二齿条相互啮合。

9、所述输送装置包括输送电机、输送支架和多个传送辊,传送辊的左右两侧分别使用滚动轴承安装于输送支架上,任意相邻两个传送辊之间通过带传动机构啮合,其中至少有一个传送辊与输送电机输出轴之间通过带传动机构啮合。

10、所述载具包括上托板,上托板的表面设置有若干个滑槽,每个滑槽内均套装有滑块,滑块的一侧与滑槽的一侧通过弹簧连接,滑槽的另一侧与滑块的另一侧之间用于夹持所述晶体管。

11、所述载具还包括限位板和下托板,所述上托板、限位板与下托板自上而下依次叠合固连,限位板与下托板之间设有滑板,滑板的表面设有触动台,触动台贯穿该限位板,所述滑块的下端还贯穿所述滑槽的底面,并且触动台的上端还与所述滑块的下端抵靠接触。

12、所述载具还包括操作柄,所述下托板的外侧面还设有承力台,操作柄的一端与该承力台铰接,操作柄的另一端向外延伸,所述滑板的末端还铰接于该操作柄的中部。

13、本技术的有益效果在于:采用本技术的技术方案,当对批量的电子器件进行清洗时,超声振子使清洗液在清洗槽内出现振动或波动,从而改善了晶体管的清洗效果,并且在清洗过程中,通过清洗槽内的限位架对晶体管进行支护,使晶体管保持稳定的姿态,从而使清洗液对晶体管表面进行全面清洗,避免遗漏。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶体管清洗设备,其特征在于:包括机架(1)、多个清洗槽(2)和多个U形限位架(3),所述清洗槽(2)与所述机架(1)固连,并且所述清洗槽(2)的外表面上安装有超声振子(5),超声振子(5)用于使清洗液在清洗槽内出现振动或波动,所述限位架(3)上端的左右两侧分别与所述机架(1)固连,并且所述限位架(3)的下端伸入所述清洗槽(2)内;所述晶体管清洗设备还包括收集盘(6)和多个集液箱(7),收集盘(6)与所述机架(1)固连,并且收集盘(6)布置于任意相邻两个清洗槽(2)之间,集液箱(7)与收集盘(6)的底面之间、集液箱(7)与所述清洗槽(2)的底面之间均连接有排液管(8)。

2.如权利要求1所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述晶体管清洗设备还包括烘干槽(4)、电热管(17)和氮气瓶(15),烘干槽(4)与所述机架(1)固连,烘干槽(4)的内壁还与定位架(16)固连,电热管(17)的一端固定于所述烘干槽(4)的外表面,电热管(17)的另一端伸入烘干槽(4)内,氮气瓶(15)与烘干槽(4)之间连接有进气管(18),所述烘干槽(4)的外表面还连接有出气管(19),所述收集盘(6)还布置于烘干槽(4)与清洗槽(2)之间,所述收集盘(6)、集液箱(7)还自上而下依次布置于烘干槽(4)的下方。

3.如权利要求2所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述晶体管清洗设备还包括夹取转移装置(20)、载料盒(21)、载具(22)和分列于所述机架(1)的左右两侧的一对输送装置(23),夹取转移装置(20)用于使载料盒(21)在输送装置(23)与所述清洗槽(2)之间、相邻两个所述清洗槽(2)之间、所述清洗槽(2)与烘干槽(4)之间或所述烘干槽(4)与输送装置(23)之间进行转移,输送装置(23)用于使载料盒(21)由输送装置(23)的一端转移至输送装置(23)的另一端,载料盒(21)的前后两侧连通并且其左右两侧内壁表面上设有多对层轨(24),层轨(24)用于搁置载具(22),载具(22)用于装夹晶体管。

4.如权利要求3所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述夹取转移装置(20)包括第一载板(25)、第二载板(26)和手指气缸(27),所述机架(1)与第一载板(25)之间设置有第一导轨(28),第一载板(25)与第二载板(26)之间设置有第二导轨(29),第二载板(26)与手指气缸(27)固连。

5.如权利要求4所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述夹取转移装置(20)还包括第一电机(30)、第一齿轮(31)、第一齿条(32)、第二电机(33)、第二齿轮(34)和第二齿条(35),所述第一载板(25)与第一电机(30)固连,第一电机(30)输出轴与第一齿轮(31)固连,第一齿条(32)与所述机架(1)固连,并且第一齿轮(31)与第一齿条(32)相互啮合,所述第二载板(26)与第二电机(33)固连,第二电机(33)输出轴与第二齿轮(34)固连,第二齿条(35)与所述第二载板(26)固连,并且第二齿轮(34)与第二齿条(35)相互啮合。

6.如权利要求3所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述输送装置(23)包括输送电机(36)、输送支架(37)和多个传送辊(38),传送辊(38)的左右两侧分别使用滚动轴承安装于输送支架(37)上,任意相邻两个传送辊(38)之间通过带传动机构啮合,其中至少有一个传送辊(38)与输送电机(36)输出轴之间通过带传动机构啮合。

7.如权利要求6所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述载具(22)包括上托板(39),上托板(39)的表面设置有若干个滑槽,每个滑槽内均套装有滑块(40),滑块(40)的一侧与滑槽的一侧通过弹簧(41)连接,滑槽的另一侧与滑块(40)的另一侧之间用于夹持所述晶体管。

8.如权利要求7所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述载具(22)还包括限位板(44)和下托板(45),所述上托板(39)、限位板(44)与下托板(45)自上而下依次叠合固连,限位板(44)与下托板(45)之间设有滑板(46),滑板(46)的表面设有触动台(47),触动台(47)贯穿该限位板(44),所述滑块(40)的下端还贯穿所述滑槽的底面,并且触动台(47)的上端还与所述滑块(40)的下端抵靠接触。

9.如权利要求8所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述载具(22)还包括操作柄(48),所述下托板(45)的外侧面还设有承力台(49),操作柄(48)的一端与该承力台(49)铰接,操作柄(48)的另一端向外延伸,所述滑板(46)的末端还铰接于该操作柄(48)的中部。

...

【技术特征摘要】

1.一种晶体管清洗设备,其特征在于:包括机架(1)、多个清洗槽(2)和多个u形限位架(3),所述清洗槽(2)与所述机架(1)固连,并且所述清洗槽(2)的外表面上安装有超声振子(5),超声振子(5)用于使清洗液在清洗槽内出现振动或波动,所述限位架(3)上端的左右两侧分别与所述机架(1)固连,并且所述限位架(3)的下端伸入所述清洗槽(2)内;所述晶体管清洗设备还包括收集盘(6)和多个集液箱(7),收集盘(6)与所述机架(1)固连,并且收集盘(6)布置于任意相邻两个清洗槽(2)之间,集液箱(7)与收集盘(6)的底面之间、集液箱(7)与所述清洗槽(2)的底面之间均连接有排液管(8)。

2.如权利要求1所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述晶体管清洗设备还包括烘干槽(4)、电热管(17)和氮气瓶(15),烘干槽(4)与所述机架(1)固连,烘干槽(4)的内壁还与定位架(16)固连,电热管(17)的一端固定于所述烘干槽(4)的外表面,电热管(17)的另一端伸入烘干槽(4)内,氮气瓶(15)与烘干槽(4)之间连接有进气管(18),所述烘干槽(4)的外表面还连接有出气管(19),所述收集盘(6)还布置于烘干槽(4)与清洗槽(2)之间,所述收集盘(6)、集液箱(7)还自上而下依次布置于烘干槽(4)的下方。

3.如权利要求2所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述晶体管清洗设备还包括夹取转移装置(20)、载料盒(21)、载具(22)和分列于所述机架(1)的左右两侧的一对输送装置(23),夹取转移装置(20)用于使载料盒(21)在输送装置(23)与所述清洗槽(2)之间、相邻两个所述清洗槽(2)之间、所述清洗槽(2)与烘干槽(4)之间或所述烘干槽(4)与输送装置(23)之间进行转移,输送装置(23)用于使载料盒(21)由输送装置(23)的一端转移至输送装置(23)的另一端,载料盒(21)的前后两侧连通并且其左右两侧内壁表面上设有多对层轨(24),层轨(24)用于搁置载具(22),载具(22)用于装夹晶体管。

4.如权利要求3所述的晶体管清洗设备,其特征在于:所述夹取转移装置(20)包括第一载板(25)、第二载板(26)和手指气缸(27),所述机架(1)与第一载板(25)之间设置有第一导轨(28),第一载板(25)与第...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗健平皇甫晨帆肖燕陈大勇郑爱兵
申请(专利权)人:中国振华集团永光电子有限公司国营第八七三厂
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1