照射量管理装置以及照射量管理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于合适地管理检查对象物上的每个部件的照射量的技术。本发明专利技术的照射量管理装置，根据X射线检查中的射线源和检查对象物之间的位置关系以及从射线源照射的X射线的强度，计算出作为检查对象物射线源侧的面的第一面的照射量的分布和作为检查对象物的射线源的相反一侧的面的第二面的照射量的分布，并根据第一面和第二面各自的照射量分布和多个部件各自的配置，计算出每个部件的照射量。

【技术实现步骤摘要】
照射量管理装置以及照射量管理方法
本专利技术涉及一种工业用X射线检查装置，特别地，涉及管理进行X射线检查的电子部件的照射量的技术。
技术介绍
已知具有如下工业用X射线检查装置，其向检查对象物照射X射线，并使用其透射图像或CT图像检测工业制品的不良或缺陷。这样的X射线检查装置具有能够以非破坏的方式检查从外观难以识别的部位、对象物内部的状态的优点，例如，被应用于表面安装基板的接合不良的检查、部件内部裂纹或模具不良的检查、电子设备的全数检查等各种检查。即使是电子设备等工业制品，当照射量超过容许限度时也有性能劣化或发生故障的可能性。因此，对于制造商来说，希望合适地使用X射线检查的剂量、方法、次数等，以使照射量不超过容许限度。在工业制品之中，需要特别注意电气/电子部件(以下简称“部件”)。这是因为，大多数情况下部件会经过部件制造商的检查、设备制造商的检查、最终产品制造商的检查等多个X射线检查工序，即使某一个制造商或工序中的照射量低于容许限度，但是，若直到最终产品的累计照射量越多，就会有引起缺陷的可能性。另外，在检查对象物是包括多个部件的物体(例如，表面安装基板、电子设备及其模块、搭载在部件托盘上的部件组等)的情况下，X射线检查的照射量在检查对象物上的所有部件中未必相同。另外，在一次X射线检查中进行多次X射线照射的情况下，也可以假设每个部件受到X射线照射的次数和照射量不同。因此，以往，提出了按每个部件管理X射线检查中的照射量的方法。例如，在专利文献1中提出了一种X射线拍摄装置，其在服务器中保持部件数据、照射数据、各部件的X射线容许剂量数据，并通过部件数据和照射数据计算出X射线照射预定剂量，该X射线拍摄装置具有，在照射预定剂量超过容许剂量的情况下进行警告的功能。另外，在专利文献2中提出了一种X射线照射量管理系统，其具有在拍摄时按每个部件合计推定照射量，并针对对象基板计算累计照射量的功能。专利文献1：日本特开2002-350367号公报专利文献2：日本特开2012-163352号公报由于X射线的透射性高，因此，配置于基板背面的部件也被照射(在本说明书中，为了便于说明，将检查对象物的射线源侧的面称为“表面”或者“第一面”，将射线源相反一侧的面称为“背面”或者“第二面”)。但是，在透射表面部件或印刷基板本身时，X射线的一部分能量被吸收而X射线衰减，因此，背面部件的照射量少于表面部件。而且，X射线的衰减量依赖于基板的设计(例如，印刷基板的厚度、材质、表面部件的配置等)。然而，在现有技术中，由于根本没考虑到依赖于基板设计的背面部件的照射量的变动，因此，难以准确的掌握和管理每个部件的照射量。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述情况而提出，其目的在于，提供一种用于合适地管理检查对象物上每个部件的照射量的技术。为了实现上述目的，本专利技术采用分别计算检查对象物的射线源侧的面的照射量的分布和射线源的相反一侧的面的照射量的分布的构成。具体而言，本专利技术提供一种照射量管理装置，具有：照射量计算部，计算检查对象物通过X射线检查所受到的照射量，信息输出部，输出与所述检查对象物的照射量相关的信息，其中，所述检查对象物包含多个部件，所述照射量计算部基于所述X射线检查中的射线源和所述检查对象物之间的位置关系以及由所述射线源照射的X射线的强度，计算出作为所述检查对象物的所述射线源侧的面的第一面的照射量的分布和作为所述检查对象物的所述射线源的相反一侧的面的第二面的照射量的分布，所述照射量计算部基于所述第一面和所述第二面各自的所述照射量的分布和所述多个部件各自的配置，计算出每个部件的照射量。根据该结构，基于检查对象物的射线源侧的面(第一面)的照射量的分布和射线源的相反一侧的面(第二面)的照射量的分布，计算出各部件的照射量，因此，能够高精度地计算出第一面侧的部件的照射量和第二面侧的部件的照射量。因此，优选地，本专利技术能够适用于双面安装基板的照射量管理，该双面安装基板包括：印刷基板；配置于所述印刷基板的所述第一面的部件；配置于所述印刷基板的所述第二面的部件。本专利技术可以用于照射量的预测，也可用于照射量的记录。照射量的预测是指，在实际进行X射线检查之前，对检查对象物在X射线检查中将要受到的照射量进行推算的处理，照射量的记录是指，在实际进行了X射线检查之后，对检查对象物所受到的照射量进行计算的处理。所述照射量计算部可以考虑所述印刷基板对X射线的吸收和/或配置于所述第一面的部件对X射线的吸收，来计算出所述第二面的照射量的分布。通过考虑印刷基板、第一面侧的部件对X射线的吸收，能够高精度地计算出透射第二面侧的X射线的强度即第二面的照射量。在一次X射线检查中进行多次X射线照射的情况下，所述照射量计算部可以计算出每次X射线照射的照射量并进行累计相加，从而计算出一次X射线检查的照射量的分布。根据该构成，例如，即使在分割成多个视场对检查对象物进行检查等进行多次X射线照射的情况下，也可以高精度地计算出照射量。所述照射量管理装置还可以具有判定部，该判定部基于由所述照射量计算部计算出的每个部件的照射量，针对每个部件判定照射量是否在容许量内。例如，进行X射线检查之前预测照射量，如果检测出超过容许量的部件的情况下，则可以采取变更X射线照射条件或停止X射线检查等措施。所述照射量管理装置还可以具有：检查履历存储部，存储过去对所述检查对象物进行的X射线检查的履历；照射量更新部，基于所述履历，将过去进行X射线检查的照射量与由所述照射量计算部计算出的所述照射量的分布和/或每个部件的照射量进行累计。由此，在检查对象物接受多次X射线检查的情况下，能够掌握/管理检查对象物的累计照射量的分布和每个部件的累计照射量。所述信息输出部可以将表示照射量的分布的照射量图向显示装置输出。另外，所述信息输出部可以将表示每个部件的照射量的信息向显示装置输出。另外，所述信息输出部可以将表示每个部件的照射量是否为容许量的信息向显示装置输出。通过向用户提供这样的信息，检查对象物所具有的各部件的照射量的掌握和管理变得容易。需要说明的是，本专利技术可以是具有上述结构或功能中的至少一部分的照射量管理装置。另外，本专利技术也可以是包括X射线检查装置和照射量管理装置的X射线检查系统。另外，本专利技术可以是包括上述处理中至少一部分的照射量管理方法或X射线检查方法。另外，本专利技术也可以是计算机可读存储记录介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序用于在计算机中执行这些方法的各步骤。只要上述结构及处理在技术上不发生冲突，就能够相互组合来构成本专利技术。根据本专利技术，能够合适地管理检查对象物上的每个部件的照射量。附图说明图1是表示第一实施方式的X射线检查系统的结构的图。图2是X射线检查的流程图。图3A是基板表面的俯视图，图3B是基板背面的俯视图。图4是表示X射线照射条件的一个例子的图。图5A至图5C是表示根据图4的X射线照射条件进行的X射线照射的情况的图。图6是第一实施方式的照射量的计算处理的流程图。图7是表示X射线源信息的一个例子的图。图8是表示对象信息的一个例子的图。图9A和图9B是表示照射量图的显示例的图。图10是以表格形式表示部件照射量和判定结果的显示例的图。图11A和图11B是以配置图形式表示部件的照射量和判定结果的显示例的图。图12是表示第二实施方式的X射线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种照射量管理装置，具有：照射量计算部，计算检查对象物通过X射线检查所受到的照射量，信息输出部，输出与所述检查对象物的照射量相关的信息，所述照射量管理装置的特征在于，所述检查对象物包含多个部件，所述照射量计算部基于所述X射线检查中的射线源和所述检查对象物之间的位置关系以及由所述射线源照射的X射线的强度，计算出作为所述检查对象物的所述射线源侧的面的第一面的照射量的分布和作为所述检查对象物的所述射线源的相反一侧的面的第二面的照射量的分布，所述照射量计算部基于所述第一面和所述第二面各自的所述照射量的分布和所述多个部件各自的配置，计算出每个部件的照射量。

【技术特征摘要】
2016.10.13 JP 2016-2018381.一种照射量管理装置，具有：照射量计算部，计算检查对象物通过X射线检查所受到的照射量，信息输出部，输出与所述检查对象物的照射量相关的信息，所述照射量管理装置的特征在于，所述检查对象物包含多个部件，所述照射量计算部基于所述X射线检查中的射线源和所述检查对象物之间的位置关系以及由所述射线源照射的X射线的强度，计算出作为所述检查对象物的所述射线源侧的面的第一面的照射量的分布和作为所述检查对象物的所述射线源的相反一侧的面的第二面的照射量的分布，所述照射量计算部基于所述第一面和所述第二面各自的所述照射量的分布和所述多个部件各自的配置，计算出每个部件的照射量。2.根据权利要求1所述的照射量管理装置，其特征在于，所述检查对象物包括双面安装基板，该双面安装基板具有印刷基板、配置于该印刷基板的所述第一面的部件、配置于所述印刷基板的所述第二面的部件。3.根据权利要求2所述的照射量管理装置，其特征在于，所述照射量计算部考虑所述印刷基板对X射线的吸收，来计算出所述第二面的照射量的分布。4.根据权利要求2或3所述的照射量管理装置，其特征在于，所述照射量计算部考虑配置于所述第一面的部件对X射线的吸收，来计算出所述第二面的照射量的分布。5.根据权利要求1～4中任一项所述的照射量管理装置，其特征在于在一次X射线检查中进行多次X射线照射的情况下，所述照射量计算部计算出每次X射线照射的照射量并进行累计相加，从而计算出一次X射线检查的照射量的分布。6.根据权利要求1～5中任一项所述的照射量管理装置，其特征在于，还具有判定部，该判定部基于由所述照射量计算部计算出的每个部件的照射量，针对每个部件判定照射量是否在容许量内。7.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：大西贵子，杉田信治，
申请(专利权)人：欧姆龙株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP