The invention discloses a preparation method of gradient wear resistant coating containing Ag nanoparticles, which is a preparation method of gradient wear resistant coating containing Ag nanoparticles on the surface of Ti material. The method mainly includes the recrystallization annealing of Ti materials, surface mechanical grinding, magnetron co sputtering, and thermal oxidation. Through the combination of the invention has good lubricating and toughness of Ag nanoparticles and high hardness TiO2 with high toughness and high hardness wear-resistant surface, at the same time through the design and the gradient coating effectively improve the interface between the coating and the base metal stress, improve the bond between the coating and the substrate, so that the friction and wear properties of Ti materials improved.
【技术实现步骤摘要】
一种含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法
本专利技术涉及一种耐磨涂层的制备方法,特别涉及Ti材料表面一种含有Ag纳米粒子的梯度耐磨涂层的制备方法,属于表面改性领域。
技术介绍
Ti材料因其低密度、高比强度、优异的抗腐蚀性、耐高温、无磁性、生物相容性好等特点,在航空航天、海洋工程、石油化工、医疗、体育运动器具等领域的应用日益广泛。但是Ti材料耐磨性较差、易擦伤及粘附限制了其推广应用。对Ti材料进行表面改性以增强其耐磨性成为该领域的一个研究热点。涂层与基体之间的界面结合力对涂层的寿命至关重要,为降低界面应力,设计一系列的结构呈现梯度变化的多层界面构成的梯度涂层是目前的一个研究热点。中国专利公开号CN104480464A,公开日2015年4月1日,专利技术创造的名称为一种在Ti合金表面激光熔覆Ti-Si梯度耐磨涂层的方法。该申请案公开了一种在Ti合金表面制备Ti-Si梯度耐磨涂层的方法,在Ti材料表面自下而上依次激光熔覆单相αTi打底层→亚共晶Ti-Si中间层→过共晶Ti-Si表面层形成三层涂层结构。通过梯度涂层中Si含量的逐渐增加使涂层中的Ti5Si3硬质相析出量呈现梯度变化,降低涂层与Ti合金基体之间的热物理相容性和组织应力,从而达到降低涂层开裂倾向,提高梯度涂层整体韧性和与基体结合力的效果。其不足之处在于该方法主要是依靠高硬度的脆性Ti5Si3硬质相来增强Ti材料的耐磨性,但是在服役条件下,尤其是大载荷条件下,脆性增强相容易开裂而导致涂层失效。中国专利公开号CN105648499A,公开日2016年6月8日,专利技术创造的名称为一种Ti合金表面梯度减摩耐磨 ...
【技术保护点】
一种含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于,由下列加工工艺步骤构成:(1)对Ti材料进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后在真空条件下对Ti材料进行再结晶退火,获得具有均匀微观结构的Ti材料,再结晶退火处理的温度为700~900℃,处理时间为1~4h,真空度为1x 10
【技术特征摘要】
1.一种含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于,由下列加工工艺步骤构成:(1)对Ti材料进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后在真空条件下对Ti材料进行再结晶退火,获得具有均匀微观结构的Ti材料,再结晶退火处理的温度为700~900℃,处理时间为1~4h,真空度为1x10-3~1x10-4Pa;(2)将经过步骤(1)预处理的Ti材料置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对Ti材料进行表面机械研磨处理,钢球的数量为200~300颗,钢球直径为6~8mm,表面机械研磨处理时间为30~120min,振动频率为50Hz;(3)将步骤(2)处理好的Ti材料采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后,将Ti材料固定于双磁控溅射源系统的样品台上,Ti材料表面中心与Ag靶和Ti靶表面中心距离相等,距离为30~60mm;(4)采用双磁控溅射源系统,抽真空至1x10-3Pa以下,随后通入Ar气,气压调节至0.5~2Pa,功率调节为20~100W,对纯度至少为99.99wt%的Ag靶和纯度至少为99.95wt%的Ti靶进行溅射清洗3~10分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开Ti材料...
【专利技术属性】
技术研发人员:闻明,张蕊,赵飞,王鲁宁,谭志龙,王传军,郭俊梅,李艳琼,程勇,张俊敏,
申请(专利权)人:昆明贵金属研究所,
类型:发明
国别省市:云南,53
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