壳体、制造方法及移动终端技术

本发明专利技术公开一种壳体、制造方法及移动终端。所述壳体包括基体及形成在所述基体上光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。本发明专利技术实施方式的壳体，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料工程
，特别涉及一种壳体、制造方法及移动终端。
技术介绍
目前，手机使用的壳体上面通常会镀上膜层来控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。然而，由于壳体上的膜层耐磨性有限，手机长时间使用后，膜层容易局部脱落，导致使用者感观到的颜色不均匀。
技术实现思路
本专利技术实施方式旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术实施方式提供一种壳体、制造方法及移动终端。本专利技术实施方式的壳体包括基体及形成在所述基体上的光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。在某些实施方式中，所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层堆叠形成，或由所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层融合形成。在某些实施方式中，所述基体包括陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。在某些实施方式中，所述壳体还包括颜色层，所述颜色层形成在所述基体上，所述颜色层位于所述基体与所述高折射率膜层/所述低折射率膜层之间。在某些实施方式中，所述颜色层包括白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。在某些实施方式中，所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。在某些实施方式中，所述低折射率膜层的材料包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意一种。在某些实施方式中，在远离所述基体的方向上，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层依序设置在所述基体上。在某些实施方式中，所述基体为陶瓷，所述高折射率膜层的材料为二氧化锆，所述高折射率膜层的厚度为20nm～40nm，所述低折射率膜层的材料为二氧化硅，所述低折射率膜层的厚度为50nm～100nm。在某些实施方式中，在远离所述基体的方向上，所述低折射率膜层与所述高折射率膜层依序设置在所述基体上。在某些实施方式中，所述低折射率膜层为多层，所述高折射率膜层为多层，多层所述高折射率膜层与多层所述低折射率膜层交替堆叠形成在所述基体上。在某些实施方式中，多层所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意两种，多层所述低折射率膜层包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。在某些实施方式中，多层所述高折射率膜层的材料相同，多层所述低折射率膜层的材料相同。在某些实施方式中，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层形成后采用200摄氏度～1000摄氏度的温度进行烧结以加强附着在所述基体上。本专利技术实施方式的壳体，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。本专利技术实施方式的壳体包括基体及形成在所述基体上的膜堆，所述膜堆形成后进行烧结以加强附着在所述基体上，所述膜堆用于控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。本专利技术实施方式的壳体，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。本专利技术实施方式的制造方法，用于制造上述任一实施方式所述的壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：提供一个基体；在所述基体上形成光学膜层；及加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上。在某些实施方式中，所述加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上的步骤包括：加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层烧结至所述基体上。在某些实施方式中，所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括：对所述基体进行表面预处理；将二氧化锆膜层形成在所述基体表面；将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面。在某些实施方式中，将二氧化锆膜层形成在所述基体的表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面；和/或将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。在某些实施方式中，所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括：对所述基体进行表面预处理；将二氧化硅膜层形成在所述基体表面；将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面。在某些实施方式中，将二氧化硅膜层形成在所述基体表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面；和/或将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。在某些实施方式中，在所述放置所述基体于真空炉内之后，所述在所述基体上形成高折射率膜层与低折射率膜层的步骤还包括：预热所述真空炉。在某些实施方式中，所述烧结所述高折射率膜层与所述低折射率膜层的步骤是采用200摄氏度～1000摄氏度的温度来烧结实现的。本专利技术实施方式的制造方法，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。本专利技术实施方式的制造方法，用于制造上述任一实施方式所述的壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：提供一个基体；形成一种包含高折射率膜层与低折射率膜层的膜堆；固定所述膜堆在所述基体的表面上；及烧结所述高折射率膜层与所述低折射率膜层。本专利技术实施方式的制造方法，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。一种制造方法，用于制造壳体，所述制造方法包括以下步骤：提供一个陶瓷基体；将二氧化锆镀至所述陶瓷表面形成二氧化锆膜层；将二氧化硅镀至所述二氧化锆膜层表面形成二氧化硅膜层；烧结所述陶瓷基体、所述二氧化锆膜层及所述二氧化硅膜层。本专利技术实施方式的制造方法，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。一种移动终端，包括上述任一实施方式所述的壳体。本专利技术实施方式的移动终端，壳体的光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。本专利技术实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术实施方式的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本专利技术第一实施方式提供的壳体的截面示意图。图2是本专利技术第二实施方式提供的壳体的截面示意图。图3是本专利技术第三实施方式提供的壳体的截面示意图。图4是本专利技术第四实施方式提供的壳体的截面示意图。图5是本专利技术第五实施方式提供的壳体的截面示意图。图6是本专利技术第六实施方式提供的壳体的截面示意图。图7是本专利技术第七实施方式提供的壳体的截面示意图。图8是本专利技术第七实施方式提供的壳体的截面示意图。图9是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图。图10是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图。图11是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图。图12是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图。图13是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图。图14是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图。图15是本专利技术实施方式提供的制造方法的流程示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种壳体，其特征在于，所述壳体包括：基体；及形成在所述基体上的光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。

【技术特征摘要】
1.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括：基体；及形成在所述基体上的光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层堆叠形成，或由所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层融合形成。3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述基体包括陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。4.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述壳体还包括颜色层，所述颜色层形成在所述基体上，所述颜色层位于所述基体与所述高折射率膜层/所述低折射率膜层之间。5.如权利要求4所述的壳体，其特征在于，所述颜色层包括白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。6.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。7.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述低折射率膜层的材料包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意一种。8.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，在远离所述基体的方向上，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层依序设置在所述基体上。9.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述基体为陶瓷，所述高折射率膜层的材料为二氧化锆，所述高折射率膜层的厚度为20nm～40nm，所述低折射率膜层的材料为二氧化硅，所述低折射率膜层的厚度为50nm～100nm。10.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，在远离所述基体的方向上，所述低折射率膜层与所述高折射率膜层依序设置在所述基体上。11.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述低折射率膜层为多层，所述高折射率膜层为多层，多层所述高折射率膜层与多层所述低折射率膜层交替堆叠形成在所述基体上。12.如权利要求11所述的壳体，其特征在于，多层所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意两种，多层所述低折射率膜层包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。13.如权利要求11所述的壳体，其特征在于，多层所述高折射率膜层的材料相同，多层所述低折射率膜层的材料相同。14.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层形成后采用200摄氏度～1000摄氏度的温度进行烧结以加强附着在所述基体上。15.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括：基体；及形成在所述基体上的膜堆，所述膜堆形成后进行烧结以加强附着在所述基体上，所述膜堆用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋正南，
申请(专利权)人：广东欧珀移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44