The invention provides a method for transferring a micro light emitting diode on a curved substrate and a method for manufacturing a surface micro light emitting diode display panel. The substrate transfer method to surface micro light emitting diode of the invention, the two micro transfer process will transfer to the substrate surface micro light emitting diode, which, in the second micro transfer process, with the second flexible transfer substrate feeding pickup micro light emitting diode, and then with the substrate surface shape deformed and attached to the surface of the substrate, which will be picked up by a micro light emitting diode placed on the surface of the substrate, the substrate surface transfer micro light emitting diode in the cambered surface, spherical surface, which can be further used for making surface micro light emitting diode display pixel array panel, which is used to realize the surface display effect.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种在曲面基板上转印微发光二极管的方法及曲面微发光二极管显示面板的制作方法。
技术介绍
微发光二极管(Micro LED)是一种尺寸在几微米到几百微米之间的器件,由于其较普通LED的尺寸要小很多,从而使得单一的LED作为像素(Pixel)用于显示成为可能,Micro LED显示器便是一种以高密度的Micro LED阵列作为显示像素阵列来实现图像显示的显示器,同大尺寸的户外LED显示屏一样,每一个像素可定址、单独驱动点亮,可以看成是户外LED显示屏的缩小版,将像素点距离从毫米级降低至微米级,Micro LED显示器和有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器一样属于自发光显示器,但Micro LED显示器相比于OLED显示器还具有材料稳定性更好、寿命更长、无影像烙印等优点,被认为是OLED显示器的最大竞争对手。由于晶格匹配的原因,Micro LED器件必须先在蓝宝石类的供给基板上通过分子束外延的方法生长出来,随后通过激光剥离(Laser lift-off,LLO)技术将微发光二极管裸芯片(bare chip)从供给基板上分离开,然后通过微转印(Micro Transfer Print,NTP)技术将其转移到已经预先制备完成电路图案的接收基板上,形成Micro LED阵列,进而做成Micro LED显示面板。其中,微转印的基本原理大致为:使用具有图案化的传送头(Transfer head),例如具有凸起结构的聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS) ...
【技术保护点】
一种在曲面基板上转印微发光二极管的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供第一传送头(51)、载体基板(10)、及中转基板(30),所述载体基板(10)上具有数个微发光二极管(21),利用所述第一传送头(51)进行第一次微转印制程,在第一次微转印制程中,所述第一传送头(51)拾取所述载体基板(10)上的微发光二极管(21),然后将所拾取的所述微发光二极管(21)放置于中转基板(30)上,在中转基板(30)上形成第一微发光二极管阵列;步骤2、提供第二传送头(52)、及曲面基板(20),所述第二传送头(52)具有柔性,利用所述第二传送头(52)进行第二次微转印制程,在第二次微转印制程中,所述第二传送头(52)拾取所述中转基板(30)上的微发光二极管(21),然后载有微发光二极管(21)的第二传送头(52)随所述曲面基板(20)的形状发生形变而贴附于所述曲面基板(20)上,将所拾取的微发光二极管(21)放置于曲面基板(20)上,在曲面基板(20)上形成第二微发光二极管阵列。
【技术特征摘要】
1.一种在曲面基板上转印微发光二极管的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供第一传送头(51)、载体基板(10)、及中转基板(30),所述载体基板(10)上具有数个微发光二极管(21),利用所述第一传送头(51)进行第一次微转印制程,在第一次微转印制程中,所述第一传送头(51)拾取所述载体基板(10)上的微发光二极管(21),然后将所拾取的所述微发光二极管(21)放置于中转基板(30)上,在中转基板(30)上形成第一微发光二极管阵列;步骤2、提供第二传送头(52)、及曲面基板(20),所述第二传送头(52)具有柔性,利用所述第二传送头(52)进行第二次微转印制程,在第二次微转印制程中,所述第二传送头(52)拾取所述中转基板(30)上的微发光二极管(21),然后载有微发光二极管(21)的第二传送头(52)随所述曲面基板(20)的形状发生形变而贴附于所述曲面基板(20)上,将所拾取的微发光二极管(21)放置于曲面基板(20)上,在曲面基板(20)上形成第二微发光二极管阵列。2.如权利要求1所述的在曲面基板上转印微发光二极管的方法,其特征在于,所述第一传送头(51)上设有电极,所述第一传送头(51)通过静电力对所述微发光二极管(21)进行微转印。3.如权利要求1所述的在曲面基板上转印微发光二极管的方法,其特征在于,所述第一传送头(51)为PDMS传送头,具有PDMS层,所述第一传送头(51)利用PDMS层对所述微发光二极管(21)的吸附力进行微转印。4.如权利要求1所述的在曲面基板上转印微发光二极管的方法,其特征在于,所述第二传送头(52)包括柔性PDMS膜(521),所述柔性PDMS膜(521)具有吸附面,所述第二传送头(52)通过所述柔性PDMS膜(521)的吸附面拾取所...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈黎暄,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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