产生布局图案的方法技术

本发明专利技术公开一种产生布局图案的方法，其包括下列步骤。提供起始布局，起始布局图案包括多条第一条状图案于第一群组区中，各第一条状图案沿第一方向延伸，且第一条状图案于第二方向上具有相同的节距。产生多条锚点带状图案，各锚点带状图案沿第一方向延伸，且锚点带状图案于第二方向上具有相同的节距。至少一条锚点带状图案于第二方向上的两边缘分别与两条相邻的第一条状图案的边缘对齐。至少一条锚点带状图案与两条相邻的第一条状图案之间的第一间隔重叠。在与锚点带状图案重叠的第一间隔处产生第一轴心图案，并将第一轴心图案输出至光掩模。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种产生布局图案的方法，尤指一种利用锚点带状图案来形成轴心图案的产生布局图案的方法。
技术介绍
随着场效晶体管(field effect transistors,FETs)元件尺寸持续地缩小，现有的平面式(planar)场效晶体管元件的发展已面临到制作工艺上的极限。因此，为了克服制作工艺限制，以非平面(non-planar)的场效晶体管元件例如鳍状场效晶体管(fin field effect transistor,FinFET)元件来取代平面晶体管元件已成为目前业界的发展趋势。一般而言，鳍状场效晶体管内的图案化结构，例如鳍状结构(fin structure)，可通过侧壁图案转移(sidewall image transfer,SIT)技术制得，其程序大致包括：提供一包括有欲形成的图案化结构的布局图案至电脑系统，经过适当的运算以产生相对应的轴心(mandrel)图案并将此轴心图案定义于光掩模中，再利用此光掩模进行光刻制作工艺以及对应的蚀刻制作工艺，进而获得以SIT技术形成的图案化结构。然而，由于一般在芯片上的各群组(cluster)区的鳍状结构并不一定会彼此对齐(一般称之为可能不会全部都on global grid)，故必须对各群组区的鳍状结构的布局图案分别进行运算才能得到所需的轴心图案而造成运算所需时间增加。因此，尚需要一种改良式的产生布局图案的方法，以加快对于更复杂的图案化结构的处理速度。
技术实现思路
本专利技术提供一种产生布局图案的方法，利用锚点带状图案来形成轴心图案，由此达到简化运算方式以及加快处理速度的目的。根据本专利技术的一实施例，本专利技术提供一种产生布局图案的方法，包括下列步骤。首先，提供一起始布局图案至电脑系统，起始布局图案包括多条第一条状图案于一第一群组区中，各第一条状图案沿一第一方向延伸，且第一
条状图案于一第二方向上具有相同的节距(pitch)。然后，产生多条锚点带状图案，各锚点带状图案沿第一方向延伸，且锚点带状图案于第二方向上具有相同的节距，至少一条锚点带状图案于第二方向上的两边缘分别与两条相邻的第一条状图案的边缘对齐，且至少一条锚点带状图案与两条相邻的第一条状图案之间的一第一间隔重叠。接着，在与锚点带状图案重叠的第一间隔处产生一第一轴心图案，并将第一轴心图案输出至一光掩模。通过本专利技术所提供的产生布局图案的方法，可利用锚点带状图案决定轴心图案的位置，故可同时处理位于不同群组区中的条状图案，由此达到简化运算方式以及加快处理速度等目的。附图说明图1至图3为本专利技术第一实施例的产生布局图案的方法示意图；图4为本专利技术第一实施例的产生布局图案的方法的流程图；图5与图6为本专利技术第二实施例的产生布局图案的方法示意图；图7至图10为本专利技术第三实施例的产生布局图案的方法示意图；图11为本专利技术第三实施例的产生布局图案的方法的流程图；图12与图13为本专利技术第四实施例的产生布局图案的方法示意图。主要元件符号说明11 第一块状图案12 第二块状图案21 第一条状图案22 第二条状图案31 锚点带状图案31A 上部31B 下部41 第一轴心图案42 第二轴心图案101、102 起始布局图案A1 第一间隔A2 第二间隔D1 第一方向D2 第二方向D3 垂直方向P21 第一节距P22 第二节距P31 第三节距R1 第一群组区R2 第二群组区S11-S16、S21-S28 步骤SP11 第六间距SP12 第七间距SP21 第一间距SP22 第二间距SP31 第三间距W11 第六宽度W12 第七宽度W21 第一宽度W22 第二宽度W31 第三宽度W41 第四宽度W42 第五宽度具体实施方式请参阅图1至图4。图1至图3所绘示为本专利技术第一实施例的产生布局图案的方法示意图。图4所绘示为本实施例的产生布局图案的方法的流程图。本实施例提供一种产生布局图案的方法，包括下列步骤。首先，如图1与图4所示，进行步骤S11，提供一起始布局图案101至电脑系统，本实施例的起始布局图案101包括多条第一条状图案21以及多条第二条状图案22，但并不以此为限。在本专利技术的其他实施例中也可使起始布局图案101仅包括多条第一条状图案21。第一条状图案21至少部分位于一第一群组区R1中，第二条状图案22至少部分位于一第二群组区R2中，第一群组区R1与第二群组区R2互相分离，但并不以此为限。各第一条状图案21沿一第一方向
D1延伸，且多条第一条状图案21沿一第二方向D2以相同的节距(pitch)重复排列。第一方向D1大体上与第二方向D2正交，但并不以此为限。各第二条状图案22沿第一方向D1延伸，且多条第二条状图案22沿第二方向D2以相同的节距重复排列。换句话说，第二条状图案22与第一条状图案21互相平行，但第二条状图案22并未与第一条状图案21对齐。进一步说明，本实施例的各第一条状图案21优选具有相同的宽度，各第二条状图案22优选具有相同的宽度，两条相邻的第一条状图案21之间的间距与两条相邻的第二条状图案22之间的间距相同，且各第一条状图案21的宽度优选与各第二条状图案22的宽度相同，但并不以此为限。举例来说，各第一条状图案21于第二方向D2上具有一第一宽度W21，各第二条状图案22于第二方向D2上具有一第二宽度W22，两条相邻的第一条状图案21之间具有一第一间距SP21，两条相邻的第二条状图案22之间具有一第二间距SP22，第一条状图案21具有一第一节距P21，而第二条状图案22具有一第二节距P22。第一节距P21等于一个第一宽度W21以及一个第一间距SP21的总和，第二节距P22等于一个第二宽度W2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种产生布局图案的方法，包括：提供一起始布局图案至电脑系统，其中该起始布局图案包括多条第一条状图案于一第一群组区中，各该第一条状图案沿一第一方向延伸，且该多条第一条状图案于一第二方向上具有相同的节距(pitch)；产生多条锚点带状图案，其中各该锚点带状图案沿该第一方向延伸，且该多条锚点带状图案于该第二方向上具有相同的节距，其中至少一条该锚点带状图案于该第二方向上的两边缘分别与两条相邻的该多条第一条状图案的边缘对齐，且至少一条该锚点带状图案与两条相邻的该多条第一条状图案之间的一第一间隔重叠；在与该锚点带状图案重叠的该第一间隔处产生一第一轴心图案；以及将该第一轴心图案输出至一光掩模。

【技术特征摘要】
1.一种产生布局图案的方法，包括：提供一起始布局图案至电脑系统，其中该起始布局图案包括多条第一条状图案于一第一群组区中，各该第一条状图案沿一第一方向延伸，且该多条第一条状图案于一第二方向上具有相同的节距(pitch)；产生多条锚点带状图案，其中各该锚点带状图案沿该第一方向延伸，且该多条锚点带状图案于该第二方向上具有相同的节距，其中至少一条该锚点带状图案于该第二方向上的两边缘分别与两条相邻的该多条第一条状图案的边缘对齐，且至少一条该锚点带状图案与两条相邻的该多条第一条状图案之间的一第一间隔重叠；在与该锚点带状图案重叠的该第一间隔处产生一第一轴心图案；以及将该第一轴心图案输出至一光掩模。2.如权利要求1所述的产生布局图案的方法，其中各该锚点带状图案的宽度等于一个两条相邻的该多条第一条状图案之间的一间距与两倍的各该第一条状图案的宽度的总和。3.如权利要求1所述的产生布局图案的方法，其中两条相邻的该多条锚点带状图案之间的一间距等于两条相邻的该多条第一条状图案之间的一间距。4.如权利要求1所述的产生布局图案的方法，其中两条相邻的该多条锚点带状图案之间的一间距等于两条相邻的该多条第一条状图案之间的一间距的三倍以及各该第一条状图案的一宽度的两倍的总和。5.如权利要求1所述的产生布局图案的方法，其中该第一轴心图案于该第二方向上的宽度等于两条相邻的该多条第一条状图案之间的间距。6.如权利要求1所述的产生布局图案的方法，其中该第一轴心图案于该第二方向上的宽度等于一个该多条第一条状图案的该节距与一个各该第一条状图案的宽度的总和。7.如权利要求1所述的产生布局图案的方法，其中该起始布局图案还包括至少一第一块状图案于该第一群组区中，且该第一块状图案于该第二方向上的两边缘分别与两条该多条第一条状图案的边缘对齐。8.如权利要求7所述的产生布局图案的方法，其中该起始布局图案包括
\t多个该多条第一块状图案于该第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王函隽，张登耀，林金隆，汤志贤，范耀仁，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71