本发明专利技术公开了一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备，腔体的上端面开设双层原料混合喷管接口，双层原料混合喷管竖直穿过腔体的上端面，加热台设置在腔体内部，固定在双层原料混合喷管的下方，腔体的上端面还设置开口处并以透明的激光引入窗片密封，连续激光发射器固定在激光引入窗片的上方，连续激光发射器的激光发射方向对准加热台，腔体的侧面设置波导管，导波管外接微波发生器，腔体的左、右两侧分别套接一个环形电磁铁，腔体的下端开设排气口，真空泵通过排气口与腔体内部连通。本发明专利技术解决了常规化学气相沉积设备制备薄膜时存在的沉积速率相对偏低及沉积温度相对偏高的问题，进而实现低成本、高速率制备各种功能及结构薄膜。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于薄膜制备
，尤其涉及一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备。
技术介绍
化学气相沉积法是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术，其应用非常广泛，已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、沉淀各种单晶、多晶及无机薄膜材料。化学气相沉法制备薄膜是利用气态的先驱体反应物，通过原子、分子间化学反应的途径生成薄膜。其制备的薄膜材料具有纯度高，致密性好；可以规模化连续生产，工艺上易于控制，产品质量稳定等优点。从工业化生产角度来看，虽然常规化学气相沉积已经实现了工业化制备薄膜材料，但是常规化学气相沉积法仍存在沉积速率相对偏低以及沉积温度相对偏高的问题，造成产品及设备生产成本相对偏高。因此，如何提高常规化学气相沉积的沉积速率及降低沉积温度成为了实现低成本化学气相沉积工业化应用的主要考虑因素。
技术实现思路
本专利技术提供一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备，以解决常规化学气相沉积设备制备薄膜时存在的沉积速率相对偏低及沉积温度相对偏高的问题，进而实现低成本、高速率制备各种功能及结构薄膜。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备，包括腔体、双层原料混合喷管、连续激光发射器、微波发生器、加热台，腔体的上端面开设双层原料混合喷管接口，双层原料混合喷管竖直穿过腔体的上端面，并与腔体密封连接，加热台设置在腔体内部，固定在双层原料混合喷管的下方，腔体的上端面还设置开口处并以透明的激光引入窗片密封，连续激光发射器固定在激光引入窗片的上方，连续激光发射器的激光发射方向对准加热台，激光引入窗片紧密地嵌入腔体上端面的开口中，使腔体保持密封，原料蒸气、反应剂分别通过双层原料混合喷管的内层管、外层管进入腔体内部。腔体的侧面设置波导管，导波管外接微波发生器，腔体的左、右两侧分别套接一个环形电磁铁，腔体的下端开设排气口，真空泵通过排气口与腔体内部连通。按上述技术方案，连续激光发射器的光斑直径为l_500mm。按上述技术方案，加热台的表面温度为25_1200°C。按上述技术方案，微波发生器的功率为100-5000W。微波发生器的微波输出端口与波导管连通，产生的微波经波导管传送至腔体。按上述技术方案，双层原料混合喷管的下端对准加热台的中部。按上述技术方案，2个环形电磁铁对称固定于腔体外，产生0.1-10T的磁场，作用于等离子体使其做圆周运动。按上述技术方案，在双层原料混合喷管的表面固定加热器，双层原料混合喷管的外层管的表面温度为20-500°C。本专利技术的工作原理是:通过激光与微波共同作用达到降低沉积温度作用。激光由激光引入窗片照射到加热台表面，激光只是局部加热照射区，使得化学气相沉积腔体内壁的温度比加热台温度较低，因而降低了沉积温度；微波经波导管传送至等离子区域时，由于微波能与原料蒸气和反应剂发生一定的相互作用，加剧分子之间的震动，分子间互相产生摩擦，引起原料和反应剂温度的升高，因而降低了沉积温度。通过引入激光、微波以及磁场三者共同作用，加快薄膜制作过程中的沉积速率。激光能大幅度降低原料分子间的反应活化能，从而使得反应更快进行，沉积速率加快。微波会增加腔体内原料与反应剂分子的能量，引起原料与反应剂分子振荡，加剧了原料蒸气与反应剂之间的反应，使得薄膜沉积速率变快。激光束汇聚于加热台表面，在极短时间内让原料蒸气与反应剂发生多光子吸收效应而电离，电离出的电子在磁场的作用下加速，与其他原子发生碰撞使分子进一步电离，形成等离子体；同时微波会增加腔体内等离子体的能量，引起等离子体振荡，等离子体碰撞反应气体，使反应气体分解产生等离子体，磁场使得等离子体在磁场的作用下形成椭圆等离子球，显著提高了加热台上方等离子体的密度，从而使得薄膜沉积速率大幅度提高。同时减少了产品及设备成本，为低成本工业化制膜提供保障。本专利技术产生的有益效果是:解决常规化学气相沉积设备制备薄膜时存在的沉积速率相对偏低及沉积温度相对偏高的问题，进而实现低成本、高速率制备各种功能及结构薄膜。【附图说明】下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明，附图中: 图1是本专利技术实施例激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备的结构示意图； 其中:1.连续激光发射器；2.激光引入窗片；3.反应剂；4.原料蒸气；5.加热台；6.微波发生器；7.波导管；8.环形电磁铁；9.真空泵；10.双层原料混合喷管。【具体实施方式】为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术实施例中，提供一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备，如图1所示，包括腔体、双层原料混合喷管、连续激光发射器、微波发生器、加热台，腔体的上端面开设双层原料混合喷管接口，双层原料混合喷管竖直穿过腔体的上端面，并与腔体密封连接，加热台设置在腔体内部，固定在双层原料混合喷管的下方，腔体的上端面还设置开口处并以透明的激光引入窗片密封，连续激光发射器固定在激光引入窗片的上方，连续激光发射器的激光发射方向对准加热台，激光引入窗片紧密地嵌入腔体上端面的开口中，使腔体保持密封，原料蒸气、反应剂分别通过双层原料混合喷管的内层管、外层管进入腔体内部。腔体的侧面设置波导管，导波管外接微波发生器，腔体的左、右两侧分别套接一个环形电磁铁，腔体的下端开设排气口，真空泵通过排气口与腔体内部连通。进一步地，连续激光发射器的光斑直径为1-500 mm。进一步地，本专利技术实施例中，加热台的表面温度为25_1200°C。本专利技术实施例中，微波发生器的功率为100-5000W。微波发生器的微波输出端口与波导管连通，产生的微波经波导管传送至腔体。当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备，其特征在于，包括腔体、双层原料混合喷管、连续激光发射器、微波发生器、加热台，腔体的上端面开设双层原料混合喷管接口，双层原料混合喷管竖直穿过腔体的上端面，并与腔体密封连接，加热台设置在腔体内部，固定在双层原料混合喷管的下方，腔体的上端面还设置开口处并以透明的激光引入窗片密封，连续激光发射器固定在激光引入窗片的上方，连续激光发射器的激光发射方向对准加热台，腔体的侧面设置波导管，导波管外接微波发生器，腔体的左、右两侧分别套接一个环形电磁铁，腔体的下端开设排气口，真空泵通过排气口与腔体内部连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵培，王莹，
申请(专利权)人：武汉工程大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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