狭缝式模具涂布装置制造方法及图纸

本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效抑制真空室内的压力振荡，因而能够确保基膜上的涂布稳定性，从而降低缺陷产品的比例。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。
技术介绍
通常而言，作为在基膜上形成涂层的方法，狭缝式模具涂布法已经得到了使用。图1为示意性示出在狭缝式模具涂布法中使用的常规狭缝式模具涂布的构造示意图。如图1中所示，使用狭缝式模具3，在卷绕于辊1上的基膜2的表面上进行涂布。通过狭缝式模具3，在基膜2的表面上形成涂层4。在这种情况下，使真空室5贴附于狭缝式模具3的前端，真空室5通过形成局部真空环境而用于提高涂布的稳定性。然而，为了形成涂层，真空室5与基膜2没有紧密地接触，因此应当具有特定的间隙D。由于进气流穿过间隙D的流动，因此在真空室5中发生高速流动，该高速流动引起湍流，使得真空室5中的压力并不恒定而是振荡的。所以，如果真空室内的压力振荡，则基膜的涂布较不稳定，因而产品的质量较差。因此，迫切需要开发出能够从根本上解决此问题的狭缝式模具涂布装置。以下专利文件1和2公开了狭缝式模具涂布装置。[现有技术文件][专利文件]专利文件1：韩国未审查专利申请公开No.2012-0108484专利文件2：韩国未审查专利申请公开No.2011-0098578
技术实现思路
技术问题本申请旨在提供一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，提供一种狭缝式模具涂布装置，该装置能够通过有效降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。技术方案本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置。图2为示意性示出根据本申请的狭缝式模具涂布装置的构造示意图。下面，将参照图2详细地描述本申请。在示例性的实施方案中，狭缝式模具涂布装置可以包括：狭缝式模具14，其配置为向基膜12供应涂布液；真空室20，其安装在狭缝式模具14的前端，并且在真空室20与基膜12之间形成有间隙D；以及压力振荡减低箱30，其连接至真空室20。像图2那样，基膜12可以在被卷绕于辊10上的情况下进行供应。对于所述基膜的材料没有特别限制，只要通过涂布液能在该基膜上形成涂层即可。例如，所述基膜可以为丙烯酰基膜或通常用作压敏粘合膜或光学膜的塑料膜。狭缝式模具14可以设置为接近辊10。狭缝式模具14可以向基膜12的表面供应涂布液，并且可以在基膜12上形成具有多种图案的涂层16。真空室20可以安装在狭缝式模具14的前端。真空室20是在涂布狭缝式模具14时，安装来通过向狭缝式模具提供真空环境而提高基膜12上的涂布稳定性的装置。对于真空室20的内部压力没有特别限制，只要真空室20的内部压力合适地保持低于大气压力，并且因引入空气引起的压力振荡的振幅为100Pa以下即可。真空室20的体积与压力振荡减低箱30的体积之间的关系(将在后面讨论)可以满足下面的公式1。[公式1]V1≤V2在公式1中，V1表示所述真空室的体积，V2表示所述压力振荡减低箱的体积。对于所述真空室的体积V1没有特别限制，只要其满足上面的公式1即可。例如，该真空室的体积V1可以为0.1m3以上、0.2m3以上、0.3m3以上、0.4m3以上或0.5m3以上。对于真空室20的体积上限没有特别限制，只要真空室20的体积小于压力振荡减低箱30的体积即可(将在后面讨论)，例如，其可以为约0.9m3、0.8m3或0.7m3。在真空室20与基膜12之间可以形成间隙D。由此之故，流入真空室20中的空气会引起湍流。由于真空室20的体积较小，因而在真空室20中发生的这种扰动导致压力振荡。因此，如果真空室20的体积较大，则对于相同程度扰动的压力振荡的振幅会较小。然而，如果真空室20的体积大于前述范围，则将会发生一些机械问题。因此，本申请旨在通过安装具有与真空室20分离的、比真空室20更大的体积的压力振荡减低箱30来解决此问题。第一管道22与真空室20的底部相连接。压力表24安装在第一管道22的一侧以检查真空室20的内部压力。第一管道22的一端连接至真空泵，从而可以对真空室20的内部压力进行调节。压力振荡减低箱30可以连接至真空室20。在示例性的实施方案中，只要压力振荡减低箱30与真空室20相连接，并设置为能够与真空室20一起向狭缝式模具14提供真空环境，则本申请所属领域的普通技术人员可以在所附权利要求中描述的本申请范围内做出各种修改和变化。在示例性的实施方案中，压力振荡减低箱30可以与第二管道26相连接，该第二管道26连接至第一管道22的一侧。虽然图2显示压力振荡减低箱30连接至第二管道26，但本申请并非必须局限于此实施方案。如图3所示，与压力振荡减低箱30相连接的第二管道26可以直接连接至真空室20中与第一管道22相连接的一侧不同的一侧。像这样，如果压力振荡减低箱30通过第二管道26直接与第一管道22或真空室20相连接，则可以获得使真空室20的体积大幅度增大的效果。如果真空室20的体积增大，则可以显著地降低压力振荡，从而能够使扰动最小化，并且可以确保涂布稳定性。为了有效降低根据本申请的包括压力振荡减低箱30的狭缝式模具涂布装置中的压力振荡，压力振荡减低箱30的体积应当大于真空室20的体积。例如，压力振荡减低箱30的体积可以为真空室20体积的10倍以上、15倍以上或20倍以上，但本申请并不局限于此。在示例性的实施方案中，真空室和压力振荡减低箱的体积可以满足下面的公式2。[公式2]V1+V2≥A(P2-P1)DW在公式2中，V1表示真空室的体积(m3)，V2表示压力振荡减低箱的体积(m3)，A为1至20m3/N，P1表示真空室的内部压力(N/m2)，P2为大气压力(N/m2)，D为在真空室处形成的间隙的宽度(m)，W表示在对基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)。并且，在上面的公式2中，真空室的体积V1和压力振荡减低箱的体积V2的单位可以为cm3而非m3，但优选为m3。对于真空室的压力P1的下限没有特别限制，只要该真空室的压力P1低于大气压力即可，例如，其可以为10,000Pa以下、5,000Pa以下、2,500Pa以下、1,000Pa以下或900Pa以下，并且可以合适地形成在约100Pa至1,000Pa的范围内。并且，在上面的公式2中，D表示在真空室处形成的间隙的宽度。当宽度D较小时，流入真空室中的空气较少，因此对于宽度D的下限没有特别限<本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种狭缝式模具涂布装置，包括：狭缝式模具，该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液；真空室，该真空室安装在所述狭缝式模具的前端，并且在该真空室与所述基膜之间形成有间隙；以及压力振荡减低箱，该压力振荡减低箱连接至所述真空室。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.02.28 KR 10-2013-00222231.一种狭缝式模具涂布装置，包括：
狭缝式模具，该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液；
真空室，该真空室安装在所述狭缝式模具的前端，并且在该真空室与所
述基膜之间形成有间隙；以及
压力振荡减低箱，该压力振荡减低箱连接至所述真空室。
2.根据权利要求1所述的狭缝式模具涂布装置，其中，所述基膜为通过
辊供应的基膜。
3.根据权利要求1所述的狭缝式模具涂布装置，其中，连接至真空泵的
第一管道与所述真空室的一侧相连接。
4.根据权利要求3所述的狭缝式模具涂布装置，其中，连接至所述压力
振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接。
5.根据权利要求1所述的狭缝式模具涂布装置，该狭缝式模具涂布装置
满足下面的公式1：...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴元灿，呂政炫，林艺勋，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR