狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种狭缝涂布单元、涂布头以及涂布装置。该狭缝涂布单元包括外壳，外壳内设有进料通道、出料通道、分压通道以及狭缝喷嘴，进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。该涂布头包括并排设置的多个如上所述的狭缝涂布单元。该涂布设备包括如上所述狭缝涂布单元或涂布头。本实用新型专利技术狭缝涂布单元通过对在进料通道与狭缝喷嘴之间采用增加分压通道方式进行流体分流，同时进料通道逐级变窄，即便入口处进料流体的流速变化，在狭缝喷嘴处的液体挤出速度基本不受影响，进而能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。本实用新型专利技术涂布头和涂布设备均采用了上述狭缝涂布单元，也就能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液体涂覆
，尤其涉及狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备。
技术介绍
狭缝涂布已经成为现有薄膜涂覆领域最具有代表性的薄膜涂覆方法之一，主要体现在液晶显示领域的像素制备工艺过程中的光敏胶涂覆。当前关于狭缝涂布的薄膜厚度与均匀性的控制主要有两种方法:第一种是通过在狭缝中添加夹片的方式控制挤出量的多少，以此来进一步调控涂覆薄膜的厚度，同时保证厚度的均匀性；第二种是通过供料系统的设计，尽量保证涂布头的进料流速的平稳性，以帮助更好的完成挤出料的可控性。这两种方法，都需要供料系统的流速保持非常稳定的状态才能达到均匀涂覆的要求。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题，在于提供一种狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备，能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。本技术解决上述技术问题所采用的技术方案是:本技术提供了一种狭缝涂布单元，其包括外壳，所述外壳内设有用于流体流入的进料通道、用于流体流出的出料通道、连通所述进料通道与出料通道的分压通道以及设于所述进料通道末端的狭缝喷嘴，所述进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。作为上述技术方案的进一步改进，所述分压通道的宽度与其对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种狭缝涂布单元，其特征在于：包括外壳，所述外壳内设有用于流体流入的进料通道、用于流体流出的出料通道、连通所述进料通道与出料通道的分压通道以及设于所述进料通道末端的狭缝喷嘴，所述进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金名亮，王丹，水玲玲，周国富，
申请(专利权)人：华南师范大学，深圳市国华光电科技有限公司，深圳市国华光电研究院，
类型：新型
国别省市：广东;44