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本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效抑制真空室...
该专利属于LG化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG化学株式会社授权不得商用。

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