输送设备制造技术

一种用于输送基底的基底输送设备，该基底输送设备包括框架、连接到框架上的至少一个传递臂、安装到至少一个传递臂的至少一个末端执行器，和设置在至少一个末端执行器上的至少一个基底支承垫，至少一个基底支承垫具有下列构造，该构造沿至少一个预定方向实现由增大的摩擦系数引起的增大的摩擦力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种用于输送基底的基底输送设备，该基底输送设备包括框架、连接到框架上的至少一个传递臂、安装到至少一个传递臂的至少一个末端执行器，和设置在至少一个末端执行器上的至少一个基底支承垫，至少一个基底支承垫具有下列构造，该构造沿至少一个预定方向实现由增大的摩擦系数引起的增大的摩擦力。【专利说明】输送设备相关申请的交叉引用 本申请为2011年12月16日提交的美国临时专利申请号61/576，450的非临时申请，且请求享有其权益，该申请的公开内容通过引用而整体并入本文中。
示例性实施例大体上涉及输送设备，并且更具体而言，涉及机器人输送设备。
技术介绍
大体上，输送设备使用末端执行器或基底保持器，其利用基底与末端执行器之间的被动接触(例如，被动抓持)。通过被动抓持末端执行器实现的最大加速度阈值可极大地取决于用于被动地接触基底的材料的选择。较高加速度阈值可利用“橡胶类”材料(诸如Kalrez 4079)来实现，该材料自然地比其它材料(诸如氧化铝或石英)顺应性更大。另一方面，橡胶类材料趋于具有较高的粘合力，这可能不利于基底放置准确度以及过程清洁度。还应注意的是，橡胶类材料可能不能够处理热基底。如氧化铝和石英的材料能够在较高温度下操作，且具有低于橡胶类材料的粘合力，然而它们的加速度阈值(或摩擦系数)在与橡胶类材料相比时较低。 将有利的是具有一种具有被动抓持末端执行器的输送装置，其允许最大化的加速度阈值，同时保持至少较低的粘合力。 【专利附图】【附图说明】 在结合附图作出的以下描述中，阐释了公开实施例的前述方面和其它特征，在附图中:图1A-1D为根据公开实施例的方面的处理工具的示意性视图；图1E为根据公开实施例的方面的输送车的简图；图2A-2E为根据公开实施例的方面的输送设备的简图；图3A和3B为根据公开实施例的方面的输送设备的一部分的简图；图4为根据公开实施例的方面的输送设备的一部分的简图；图5和5A-5K为根据公开实施例的方面的输送设备的一部分的简图；图6A-6E为根据公开实施例的方面的输送设备的一部分的简图；图7A和7B为根据公开实施例的方面的输送设备的一部分的简图；并且图8为根据公开实施例的方面的基底保持装置的简图。 应注意的是，附图中所示的特征的比例仅出于示范性目的，且不代表特征的实际比例。 【具体实施方式】 尽管将参照附图来描述公开实施例的方面，但应当理解的是，公开实施例的方面可以以许多形式体现。此外，可使用任何适合的尺寸、形状或类型的元件。 参看图1A-1D，示出了组成如本文进一步公开的公开实施例的方面的基底处理设备或工具的示意性视图。 参看图1A和1B，示出了根据公开实施例的方面的处理设备，诸如，例如半导体工具站1090。尽管附图中示出了半导体工具，但本文所述的公开实施例的方面可应用于使用机器人操纵器的任何工具站或应用。在该实例中，工具1090示为群集工具，然而，公开实施例的方面可应用于任何适合的工具站，诸如，例如线性工具站，诸如图1C和ID中所示的，且在 2006 年 5 月 26 日提交的题为 “Linearly Distributed Semiconductor WorkpieceProcessing Tool, ”的美国专利申请N0.11/442, 511中所述的，该专利的公开内容通过引用而整体并入本文中。工具站1090大体上包括常压前端1000、真空负载锁1010和真空后端1020。在其它方面中，工具站可具有任何适合的构造。前端1000、负载锁1010和后端1020中的各个的构件可连接到控制器1091，控制器1091可为任何适合的控制架构的一部分，诸如，例如群集架构控制。控制系统可为闭环控制器，其具有主控制器、群集控制器和自主远程控制器，诸如2005年7月11日提交的题为“Scalable Mot1n Control System,”的美国专利申请N0.11/178,615中公开的那些，该申请的公开内容通过引用而整体并入本文中。在其它方面中，可使用任何适合的控制器和/或控制系统。 应注意的是，工具模块中的一个或更多个可包括用于将(多个)工件传递至工具各处的工件输送装置或机器人(如本文所述)。工件输送装置可包括用于在传递期间保持(多个)工件的末端执行器(如本文所述)，且末端执行器可包括具有顺应性微观结构和/或纳米结构的一个或更多个接触垫，其抵靠位于末端执行器上的(多个)工件生成较高的定向摩擦力，而相比于下文将另外更详细地描述的常规平(例如，非定向摩擦)表面，基本没有增大工件上的粘合力(例如，工件上的可为大致垂直于工件的平面的力)。 在公开实施例的方面中，前端1000大体上包括负载端口模块1005和微环境1060,诸如，例如设备前端模块(EFEM)。负载端口模块1005可为开箱器/装载机对工具标准(BOLTS)接口，其符合用于300mm的负载端口、前开或底开箱/容器和盒的SEMI标准E15.1、E47.1、E62、E19.5*E1.9。在其它方面中，如本文所述，负载端口模块和工具的其它构件可构造成与200mm、300mm或450mm晶片或任何其它适合尺寸和形状的基底(诸如，例如较大或较小的晶片、矩形或正方形的晶片，或用于平板显示器的平板、发光二极管或太阳能电池阵列)对接，或以其它方式对其操作。在其它方面中，如本文所述，工具的构件，例如包括基底输送装置，可构造成处理来自本文所述的半导体制造过程中的任何一个或更多个的热晶片。尽管图1A中示出了两个负载端口模块，但在其它方面中，任何适合数目的负载端口模块都可并入前端1000中。负载端口模块1005可构造成从高架输送系统、自动引导车辆、人引导车辆、轨道引导车辆或从任何其它适合的输送方法接收基底载体或盒1050。负载端口模块1005可通过负载端口 1040与微环境1060对接。负载端口 1040可允许基底通过基底盒1050与微环境1060之间。微环境1060大体上包括如下文将更详细地描述的传递机器人1013。在公开实施例的一个方面中，机器人1013可为履带式机器人，例如，诸如在美国专利6，002，840中所述的，该专利的公开内容通过引用而整体并入本文中。微环境1060可提供用于在多个负载端口模块之间传递基底的受控的清洁区。 真空负载锁1010可位于微环境1060与后端1020之间，且连接到微环境1060和后端1020。负载锁1010大体上包括常压和真空槽阀。槽阀可提供环境隔离，环境隔离用于在将基底从常压前端载入之后抽空负载锁，且在以不活泼气体(诸如氮气)对锁进行排气时保持传递室中的真空。负载锁1010还可包括对准器1011，其用于使基底的基准点与期望的位置对准以用于处理。在其它方面中，真空负载锁可位于处理设备的任何适合的位置，且具有任何适合的构造。 真空后端1020大体上包括传递室1025、一个或更多个处理站1030，和传递机器人1014。传递机器人1014将在下文中描述，且可位于传递室1025内，以在负载锁1010与各种处理站1030之间输送基底。处理站1030可通过各种沉积、蚀刻或其它类型的处理来在基底上操作，以在基底上形成电路或其它期望的结构。典型的处理包括但不限于使用真空的薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于输送基底的基底输送设备，所述基底输送设备包括：框架；至少一个传递臂，其连接到所述框架；至少一个末端执行器，其安装到所述至少一个传递臂；和至少一个基底支承垫，其设置在所述至少一个末端执行器上，所述至少一个基底支承垫具有下列构造，所述构造沿至少一个预定方向实现由增大的摩擦系数引起的增大的摩擦力。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：U吉尔克里斯特，JT穆拉，
申请(专利权)人：布鲁克斯自动化公司，
类型：发明
国别省市：美国;US