一种在衬底上形成图案的方法，所述方法包括：在所述衬底的表面上形成光致抗蚀剂底层，其中所述光致抗蚀剂底层由包含聚合物和溶剂的组合物形成，并且所述光致抗蚀剂底层具有大于47at％的碳含量；用金属前体处理所述光致抗蚀剂底层，其中所述金属前体渗...

纳米结构材料的连续流动合成。在一方面，提供方法，所述方法包含a)在5秒或更短的时间内将一种或多种纳米结构材料试剂加热100℃或更高；和b)使所述纳米结构材料试剂反应以形成纳米结构材料反应产物。在另一方面，提供方法，所述方法包含a)使包含...

光致抗蚀剂图案修整组合物，其包含：聚合物，所述聚合物包含含有酸可分解基团的单体作为聚合单元，所述基团的分解在所述聚合物上形成羧酸基团；非聚合物酸或非聚合物热酸产生剂；以及包含一种或多种有机溶剂的基于有机物的溶剂体系。修整光致抗蚀剂图案的...

光致抗蚀剂组合物包含：酸敏感聚合物，其包含由包含酸可分解基团的第一可自由基聚合单体形成的第一重复单元和由包含羧酸基团的第二可自由基聚合单体形成的第二重复单元；包含两个或更多个烯醇醚基团的化合物，其中所述化合物不同于所述酸敏感聚合物；包含...

公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：包含具有酸不稳定基团的重复单元的酸敏感聚合物；包含阴离子和阳离子的碘鎓盐，所述碘鎓盐具有式(1)：其中Z

光致抗蚀剂组合物包含：第一聚合物，其包含含有羟基

一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含聚合物，所述聚合物包含具有式(1)的重复单元：其中Ar是单环或多环C5‑

公开了一种底层组合物，其包含聚合物，所述聚合物包含具有式(1)的重复单元，其中Ar是单环或多环的C5‑

本文公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：通过自由基聚合形成的第一聚合物，所述第一聚合物包含由包含烯属不饱和双键和酸不稳定基团的单体形成的聚合单元；光酸产生剂；具有式(1)的淬灭剂：其中：R1独立地是氢原子，C1‑

一种光致抗蚀剂组合物，其包含：第一聚合物，所述第一聚合物含有包含羟基

一种涂覆组合物和形成电子装置的方法。涂覆组合物包含：一种或多种化合物的B阶段反应产物，所述化合物包含选自C6‑

涂层组合物包含：可固化化合物，所述可固化化合物包含：核；以及三个或更多个具有式(1)的取代基；聚合物；以及一种或多种溶剂，其中总溶剂含量是基于所述涂层组合物的50至99wt％。还提供了用所述涂层组合物形成的经涂覆的基底以及使用所述组合物...

公开了一种可固化树脂组合物，所述可固化树脂组合物包含：(a)液体硅氧烷低聚物，其包含具有式R

本发明公开了一种光学透明的剪切增稠流体以及包含所述光学透明的剪切增稠流体的保护组件。本发明进一步涉及所述光学透明的剪切增稠流体在电子装置中、特别是在光学显示装置中的用途。所述光学透明的剪切增稠流体包含：(a)具有等于或小于100nm的平...

提供了一种聚合物，其是来自混合物的共聚产物，所述混合物包含：(a)10mol％

本公开涉及一种包含从聚合芳基环丁烯单体而产生的聚合物和作为交联剂的双马来酰亚胺化合物的化学组合物；及其用途、尤其是在电子装置中的用途。子装置中的用途。

本公开涉及一种包含光引发剂和双马来酰亚胺组分的光敏组合物，包含所述光敏组合物的光聚合物及其用途，尤其是在电子装置中的用途。所述双马来酰亚胺组分包括双马来酰亚胺化合物或双马来酰亚胺低聚物。合物或双马来酰亚胺低聚物。

公开了一种包含以下的聚合物：第一重复单元，其衍生自包含羟基

公开了含水酸性二元银‑铋合金电镀组合物以及使得能够电镀富银的二元银‑铋沉积物的方法。所述含水酸性二元银‑铋合金电镀组合物包括具有巯基官能度的5元杂环氮化合物，所述化合物使得能够沉积富银的二元银‑铋合金。所述富银的银‑铋沉积物是哑光到半光...

公开了一种包含聚合物层的涂层，其中所述聚合物层包含第一单体和第二单体的反应产物、或所述反应产物的固化产物，所述第一单体包含两个或更多个芳香族乙炔基团、第二单体包含两个或更多个环戊二烯酮基团。所述涂层可能或可能不额外地含有交联剂和/或热酸...