本发明涉及一种卧式光学连续磁控溅射镀膜设备，包括进片室、进片锁定室、若干真空镀膜室、出片锁定室以及出片室；相邻两真空镀膜室之间设有第一真空过渡室，且第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间。由于第一真空过渡室的...

本发明涉及一种真空镀膜装置，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，第一真空腔室排、第二转移机构及第二真空腔室排顺次排布以形成循环，基片架的相对两侧均用于装载基片，第一驱动机...

本发明属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备。该真空镀膜设备，包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构，第一真空腔室排、真空回转装置、第二真空腔室排及大气回转装置顺次排布以形成循...