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氧化物型半导体材料及溅镀靶制造技术
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文档序号:9721877
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本发明的目的是公开一种由Zn氧化物与Sn氧化物所构成的氧化物型半导体材料(ZTO:Zn-Sn-O系氧化物),以作为IGZO的代替材料,该氧化物型半导体材料是与IGZO同等以上的10cm2/Vs左右的高载子迁移率,并且不须要高温热处理。本发明...
该专利属于三井金属矿业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三井金属矿业株式会社授权不得商用。
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