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本发明涉及集成电路制造设备领域，尤其涉及一种远程射频等离子体源的隔离结构，包括进气腔、分流腔和合流腔组成的腔体，所述腔体的内壁上设有氧化铝镀层，其中，还包括隔离管道，所述隔离管道设于所述进气腔内，使得所述进气腔内的工艺气体和等离子体与所述氧...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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