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一种真空溅射设备制造技术
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下载一种真空溅射设备的技术资料
文档序号:9716008
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本发明提供一种真空溅射设备,通过在所述背板边缘设置硬度比所述陶瓷环低的缓冲件,所述缓冲件的下端固定设置在所述溅射腔安装板上,上端设置在所述陶瓷环上表面和背板下表面之间,使得背板下表面在磨损陶瓷环上表面之前先接触缓冲件顶面,从而保护了陶瓷环,...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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