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本发明的技术方案是提供一种多批次连续运行的方法，所述方法通过设备自动化系统，控制联机设置的涂胶显影机和曝光机，对接连输送到涂胶显影机的多批晶圆进行加工处理；通过设备自动化系统控制批次结束信号的发送，并且比较前后两批晶圆的制程要求，确定其工艺...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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